用于光谱分析的对准系统技术方案

本发明专利技术提供一种光谱系统以及光谱系统的自治调整方法和相应的计算机程序产品。通过检测反射辐射在光谱分析单元的孔径的横平面中的位置，可以产生控制信号，其允许驱动光学元件的伺服驱动平移或倾斜台。以该方式，光谱系统的横向未对准可以进行有效地检测。通常，多个不同的检测方案可以实现，其允许自治调整光谱系统以及自治消除光谱系统的未对准。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种用于确定所关心的体积（１０８）中物质的属性的光谱系统（１００），该光谱系统包括：用于将激发辐射（１２２）聚焦到所关心的体积中以及从所关心的体积中收集反射辐射的光学装置；用于将至少一部分反射辐射引导到光谱单元（１１８）的孔 径（１３０）中的对准装置；用于检测横平面中反射辐射的横向位置的空间光检测器，该横平面包括光谱单元的孔径；适合于响应空间光检测器的输出信号的处理控制对准装置的控制单元（１２８）。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：B巴克，M范比克，G卢卡森，M范德沃特，W伦森，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]