【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及具有纳米尺寸微孔并因此具有低折射率和极好耐划痕 性的二氧化硅气凝胶薄膜的制备方法,由这样的二氧化硅气凝胶形成 的减反射涂层以及具有该减反射涂层的光学元件。
技术介绍
减反射涂层的形成可以通过物理蒸气沉积法,例如真空蒸气沉积、 溅射、离子电镀法等,或者通过液相方法,例如溶胶-凝胶法。减反射 涂层的折射率应该比基材的小,但是即使通过物理蒸气沉淀法所能获得的具有最小折射率的MgF2也具有相对较大的为1.38的折射率。该 折射率大于用于玻璃或塑料透镜(透射率大约1.5至1.9)的减反射涂 层的理想水平(1.2-1.25)。具有折射率为1.2至1.25的减反射涂层在波 长为400至700纳米的可见光区域表现出小于1%的反射,而由折射率 为1.38的MgF2制成的减反射涂层表现出大于1%的反射。由溶胶-凝胶法获得的二氧化硅气凝胶的折射率比Mg&的小。美 国专利5,948,482公开了一种可用于减反射涂层的气凝胶的制备方法, 该方法包括如下步骤制备溶胶,通过老化将其转化成凝胶,在非水 介质中用非水有机基团改性凝胶表面,在非水介质中通过超声处理将 表面改性 ...
【技术保护点】
一种制备二氧化硅气凝胶薄膜的方法,该方法包括以下步骤:在碱催化剂存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备碱性溶胶,向碱性溶胶中加入酸催化剂从而进行进一步的水解和聚合以制备第一酸性溶胶,在酸催化剂的存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备第二酸性溶胶,混合所述第一和第二酸性溶胶,将所得混合溶胶施用于基材上,并对其进行干燥。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员:铃木峰太,盐川孝绅,山田和广,中山宽之,山口日出树,丸田彩子,
申请(专利权)人:HOYA株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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