一种镀膜玻璃的钢化处理方法技术

技术编号:26920052 阅读:23 留言:0更新日期:2021-01-01 22:36
本发明专利技术提出一种镀膜玻璃的钢化处理方法,包括:提供镀膜玻璃,其中所述镀膜玻璃包括:玻璃基片;低辐射膜层,设置于所述玻璃基片上;以及高辐射膜层,设置于所述低辐射膜层远离所述玻璃基片的一面上;其中所述低辐射膜层的辐射率小于所述高辐射膜层的辐射率和所述玻璃基片的辐射率;对所述镀膜玻璃进行钢化处理并在所述钢化处理过程中去除所述高辐射膜层得到钢化镀膜玻璃。其可以解决低辐射镀膜玻璃上、下表面吸热量不平衡导致的变形甚至炸裂的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜玻璃的钢化处理方法
本专利技术涉及玻璃
,尤其涉及到一种镀膜玻璃的钢化处理方法。
技术介绍
Low-E(Lowemissivity,低辐射)玻璃,即具有低辐射功能的镀膜玻璃,由于其在建筑门窗上显著的节能效果和丰富的可调节色调而越来越多的被应用于现代住宅、公共建筑中。通常玻璃强化使用的是物理钢化的方式,它是将平板玻璃在加热炉中加热到接近玻璃的软化温度后,移出加热炉,用多头喷嘴将高压冷空气吹向玻璃的两面,使其迅速且均匀地冷却至室温,最终会形成内部受拉,外部受压的应力状态,以使得玻璃本体强度增大,也称为物理钢化玻璃。经这种方式强化过的玻璃一旦破碎,则会形成无数小块钝角碎片,这些小的碎片没有尖锐棱角,不易伤人。因此,钢化玻璃也是安全玻璃的一种,其应用非常广泛。我们已知的,普通未镀膜的玻璃的上下两表面辐射率是一样的,通常是0.84左右,其吸热性能基本相同,在钢化加温时,上下表面吸热是对称的,因此不容易发生变形,而Low-E镀膜玻璃,例如双银玻璃(膜面辐射率0.03~0.08),三银玻璃(膜面辐射率小于0.03),由于其镀膜面的低辐射率、对红外辐射具有高反射特性,其在物理钢化时,膜面会将大量的热辐射反射出去,从而很难被辐射加热,下表面由于与辊道直接接触传导加热,受热更快,因此玻璃上、下表面受热不均匀,膨胀程度不一致,容易造成翘曲变形,甚至炸裂。因此,如何既能实现Low-E镀膜玻璃的低辐射功能,又能避免上、下表面的辐射率差异导致在钢化处理时上、下表面受热不均匀是当前亟待解决的问题。
技术实现思路
因此,本专利技术实施例提出一种镀膜玻璃的钢化处理方法,其可以解决Low-E镀膜玻璃上、下表面受热不均匀,造成变形甚至炸裂的问题。具体的,本专利技术实施例提出一种镀膜玻璃的钢化处理方法,包括:提供镀膜玻璃,其中所述镀膜玻璃包括:玻璃基片;低辐射膜层,设置于所述玻璃基片上;以及高辐射膜层,设置于所述低辐射膜层远离所述玻璃基片的一面上;其中,所述低辐射膜层的辐射率小于所述高辐射膜层的辐射率和所述玻璃基片的辐射率;对所述镀膜玻璃进行钢化处理并在所述钢化处理过程中去除所述高辐射膜层得到钢化镀膜玻璃。在本专利技术的一个实施例中,所述高辐射膜层的辐射率大于0.3且小于等于0.99;所述高辐射膜层和所述玻璃基片的辐射率差值的绝对值小于所述低辐射膜层和所述玻璃基片的辐射率差值的绝对值。在本专利技术的一个实施例中,所述高辐射膜层的材料包括碳、含碳的有机涂料、聚氨酯丙烯酸酯和清漆中的一种或多种。在本专利技术的一个实施例中,低辐射膜层的辐射率范围为0.001~0.15,更优的为0.001~0.08,最优的为0.001~0.03。在本专利技术的一个实施例中,所述高辐射率膜层的厚度范围为0.01~100微米,更优的为1~50微米,最优的为5~30微米。在本专利技术的一个实施例中,所述低辐射膜层含有银、铝、金、铜的单质或合金作为功能层,还包括位于所述功能层与所述玻璃基片之间的介质层,及位于所述功能层与所述高辐射膜层之间的保护层,所述介质层与所述玻璃基片相邻,所述保护层与所述高辐射膜层相邻。在本专利技术的一个实施例中,所述低辐射膜层包括的所述功能层的层数为1~5层,更优的为1~4层,最优的为2~3层,其中每一层所述功能层的厚度为1~50纳米,更优的为2~40纳米,最优的为3~30纳米。在本专利技术的一个实施例中,所述低辐射膜层包括:依次形成于所述玻璃基片上的第一介质层、第一种子层、第一功能层、第一保护层、第二介质层、第二种子层、第二功能层、第二保护层、第三介质层、第三种子层、第三功能层及第三保护层,其中,所述第三保护层与所述高辐射膜层相邻,所述第一介质层与所述玻璃基片相邻。在本专利技术的一个实施例中,所述镀膜玻璃的钢化处理方法还包括:对所述镀膜玻璃进行预处理,所述预处理包括对所述镀膜玻璃进行切割、磨边处理;对所述镀膜玻璃进行冷却处理,所述冷却处理包括:采用多头喷嘴将高压冷空气吹向所述镀膜玻璃的两面,以使所述镀膜玻璃冷却至室温。在本专利技术的一个实施例中,所述钢化处理包括:将所述镀膜玻璃通过辊道送入对流钢化炉中进行高温处理,所述高温处理的温度为630~720℃,时间为1~20分钟。由上可知,本专利技术上述技术特征可以具有如下有益效果:通过在镀膜玻璃的低辐射膜层远离玻璃基片的一面上设置材料包括碳、含碳的有机涂料、聚氨酯丙烯酸酯和清漆中的一种或多种的高辐射膜层,其辐射率大于所述低辐射膜层的辐射率,能够在钢化处理之前提升镀膜玻璃的镀膜面的辐射率,避免了镀膜玻璃由于相对两面的辐射率差异导致在钢化处理时受热不均匀,并且在钢化处理过程中去除高辐射膜层,以不影响低辐射膜层的功能。同时,高辐射膜层的设置还可以能够保护低辐射膜层不受氧化或污染物影响。通过以下参考附图的详细说明,本专利技术的其他方面的特征变得明显。但是应当知道,该附图仅仅为解释的目的设计,而不是作为本专利技术的范围的限定。还应当知道,除非另外指出,不必要依比例绘制附图,它们仅仅力图概念地说明此处描述的结构和流程。附图说明此处所说明的附图用来提供对本专利技术的进一步理解,构成本专利技术的一部分,本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术,并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中:图1为本专利技术实施例的一种镀膜玻璃的钢化处理方法的流程图;图2为本专利技术实施例的一种镀膜玻璃的结构示意图;图3为图2中的一种低辐射膜层的结构示意图;图4为图2中的又一种低辐射膜层的结构示意图;图5为图2中的再一种低辐射膜层的结构示意图;图6为本专利技术实施例的另一钢化处理方法的具体步骤示意图。附图标记说明步骤S11和S13:镀膜玻璃的钢化处理方法的步骤10:镀膜玻璃;11:玻璃基片;12:低辐射膜层;13:高辐射膜层;111:第一面;112:第二面;121:第一介质层;122:第一种子层;123:第一功能层;124:第一保护层;125:第二介质层;126:第二种子层;127:第二功能层;128:第二保护层;129:第三介质层;1210:第三种子层;1211:第三功能层;1212:第三保护层;S31至S33:步骤S13中钢化处理过程的具体步骤。具体实施方式需要说明的是,在不冲突的情况下,本专利技术中的实施例及实施例中的特征可以互相组合。下面将参考附图并结合实施例来说明本专利技术。为了使本领域普通技术人员更好地理解本专利技术的技术方案,下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术的一部分实施例,而不是全部的实施例,都应当属于本专利技术的保护范围。需要说明的是,本专利技术的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等适用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应当理解这样使用的术语在适当情况下可以互换,以便这里描述的本专利技术实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外。术语“包括”和“具有”以及它们本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀膜玻璃的钢化处理方法,其特征在于,包括:提供镀膜玻璃,其中所述镀膜玻璃包括:/n玻璃基片;/n低辐射膜层,设置于所述玻璃基片上;以及/n高辐射膜层,设置于所述低辐射膜层远离所述玻璃基片的一面;其中所述低辐射膜层的辐射率小于所述高辐射膜层的辐射率和所述玻璃基片的辐射率;/n对所述镀膜玻璃进行钢化处理并在所述钢化处理过程中去除所述高辐射膜层得到钢化镀膜玻璃。/n

【技术特征摘要】
1.一种镀膜玻璃的钢化处理方法,其特征在于,包括:提供镀膜玻璃,其中所述镀膜玻璃包括:
玻璃基片;
低辐射膜层,设置于所述玻璃基片上;以及
高辐射膜层,设置于所述低辐射膜层远离所述玻璃基片的一面;其中所述低辐射膜层的辐射率小于所述高辐射膜层的辐射率和所述玻璃基片的辐射率;
对所述镀膜玻璃进行钢化处理并在所述钢化处理过程中去除所述高辐射膜层得到钢化镀膜玻璃。


2.根据权利要求1所述的镀膜玻璃的钢化处理方法,其特征在于,所述高辐射膜层的辐射率大于0.3且小于等于0.99;所述高辐射膜层和所述玻璃基片的辐射率差值的绝对值小于所述低辐射膜层和所述玻璃基片的辐射率差值的绝对值。


3.根据权利要求1所述的镀膜玻璃的钢化处理方法,其特征在于,所述高辐射膜层的材料包括碳、含碳的有机涂料、聚氨酯丙烯酸酯和清漆中的一种或多种。


4.根据权利要求1所述的镀膜玻璃的钢化处理方法,其特征在于,所述低辐射膜层的辐射率范围为0.001~0.15,更优的为0.001~0.08,最优的为0.001~0.03。


5.根据权利要求1所述的镀膜玻璃的钢化处理方法,其特征在于,所述高辐射率膜层的厚度范围为0.01~100微米,更优的为1~50微米,最优的为5~30微米。


6.根据权利要求1所述的镀膜玻璃的钢化处理方法,其特征在于,所述低辐射膜层含有银、铝、金、铜的单质或合金作为...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘莹吕宜超王琦
申请(专利权)人:深圳南玻应用技术有限公司中国南玻集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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