高稳定性准直器组件、光刻装置和方法制造方法及图纸

一种光刻系统包括：被配置为产生辐射束的照射系统、被配置为支撑被配置为在束上赋予图案的图案形成装置的支撑部、被配置为将图案化束投影到衬底上的投影系统、以及包括照射器的对准系统。照射器包括光纤、光纤保护器(714)、包括被配置为支撑光纤保护器的第一支撑臂组件的光纤支撑部(700)、光学系统、以及包括被配置为支撑光学系统的第二支撑臂组件的光学系统支撑部。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】高稳定性准直器组件、光刻装置和方法相关申请的交叉引用本申请要求于2018年5月16日提交的美国临时专利申请号62/672,260的优先权，其全部内容通过引用合并于此。
本公开涉及对准装置和系统，例如，用于光刻装置和系统的对准源。
技术介绍
光刻装置是一种将期望图案施加到衬底上、通常是施加到衬底的目标部分上的机器。光刻装置可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将图案化装置(其替代地称为掩模或掩模版)用于生成要形成在IC的单个层上的电路图案。该图案可以被转印到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或若干管芯的一部分)上。图案的转印通常是经由成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行的。通常，单个衬底将包含连续图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻装置包括：所谓的步进器，其中通过将整个图案一次曝光到目标部分上来照射每个目标部分；以及所谓的扫描器，其中通过在给定方向(“扫描”方向)上通过辐射束扫描图案来照射每个目标部分，同时同步地平行或反平行于该扫描方向扫描目标部分。也可以通过将图案压印到衬底上来将本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻系统，包括：/n照射系统，被配置为产生辐射束；/n支撑部，被配置为支撑图案形成装置，所述图案形成装置被配置为在所述束上赋予图案；/n投影系统，被配置为将图案化的所述束投影到衬底上；/n对准系统，包括照射器，所述照射器包括：/n光纤；/n光纤保护器；/n光纤支撑部，包括第一支撑臂组件，所述第一支撑臂组件被配置为支撑所述光纤保护器；/n光学系统；以及/n光学系统支撑部，包括第二支撑臂组件，所述第二支撑臂组件被配置为支撑所述光学系统。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180516 US 62/672,2601.一种光刻系统，包括：
照射系统，被配置为产生辐射束；
支撑部，被配置为支撑图案形成装置，所述图案形成装置被配置为在所述束上赋予图案；
投影系统，被配置为将图案化的所述束投影到衬底上；
对准系统，包括照射器，所述照射器包括：
光纤；
光纤保护器；
光纤支撑部，包括第一支撑臂组件，所述第一支撑臂组件被配置为支撑所述光纤保护器；
光学系统；以及
光学系统支撑部，包括第二支撑臂组件，所述第二支撑臂组件被配置为支撑所述光学系统。


2.根据权利要求1所述的光刻系统，其中所述光纤支撑部和所述光学系统支撑部是模块化的。


3.根据权利要求1所述的光刻系统，其中所述光纤支撑部和所述光学系统支撑部被耦合，使得所述光纤和所述光学系统被对准。


4.根据权利要求3所述的光刻系统，其中所述光纤支撑部和所述光学系统支撑部经由螺纹紧固件耦合。


5.根据权利要求1所述的光刻系统，其中所述第一支撑臂组件包括三个挠曲件，所述三个挠曲件中的每个挠曲件包括挠曲片和接触垫。


6.根据权利要求5所述的光刻系统，其中所述三个挠曲件被配置为沿切向接触所述光纤保护器。


7.根据权利要求5所述的光刻系统，其中所述三个挠曲件被配置为运动学地操作。


8.根据权利要求5所述的光刻系统，其中所述三个挠曲件中的每个挠曲件还包括L形状。


9.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：D·陶布，J·A·富兰克林，J·J·科瓦尔斯基，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL