高稳定性准直器组件、光刻装置和方法制造方法及图纸

一种光刻系统包括：被配置为产生辐射束的照射系统、被配置为支撑被配置为在束上赋予图案的图案形成装置的支撑部、被配置为将图案化束投影到衬底上的投影系统、以及包括照射器的对准系统。照射器包括光纤、光纤保护器(714)、包括被配置为支撑光纤保护器的第一支撑臂组件的光纤支撑部(700)、光学系统、以及包括被配置为支撑光学系统的第二支撑臂组件的光学系统支撑部。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】高稳定性准直器组件、光刻装置和方法相关申请的交叉引用本申请要求于2018年5月16日提交的美国临时专利申请号62/672,260的优先权，其全部内容通过引用合并于此。
本公开涉及对准装置和系统，例如，用于光刻装置和系统的对准源。
技术介绍
光刻装置是一种将期望图案施加到衬底上、通常是施加到衬底的目标部分上的机器。光刻装置可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将图案化装置(其替代地称为掩模或掩模版)用于生成要形成在IC的单个层上的电路图案。该图案可以被转印到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或若干管芯的一部分)上。图案的转印通常是经由成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行的。通常，单个衬底将包含连续图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻装置包括：所谓的步进器，其中通过将整个图案一次曝光到目标部分上来照射每个目标部分；以及所谓的扫描器，其中通过在给定方向(“扫描”方向)上通过辐射束扫描图案来照射每个目标部分，同时同步地平行或反平行于该扫描方向扫描目标部分。也可以通过将图案压印到衬底上来将图案从图案化装置转印到衬底上。另一种光刻系统是干涉光刻系统，其中没有图案形成装置，而是将束分成两束，并且通过使用反射系统使两束干涉衬底的目标部分。干涉导致在衬底的目标部分处形成线。在光刻操作期间，不同的处理步骤可能需要在衬底上顺序形成不同的层。因此，可能有必要相对于在其上形成的之前的图案以高精度地定位衬底。通常，对准标记被放置在要对准的衬底上，并且相对于第二物体定位。光刻装置可以使用对准装置来检测对准标记的位置并且使用对准标记来对准衬底，以确保从掩模进行准确的曝光。测量在两个不同层的对准标记之间的未对准作为重叠误差。为了监测光刻过程，测量图案化衬底的参数。例如，参数可以包括在图案化衬底中或在其上形成的连续层之间的重叠误差、以及显影的光致抗蚀剂的临界线宽(CD)。该测量可以在产品衬底和/或专用量测目标上执行。有多种技术用于测量在光刻过程中形成的微观结构，包括使用扫描电子显微镜和各种专用工具。一种快速且无创形式的专用检查工具是散射仪，其中将辐射束引导到衬底表面上的目标上，并且测量散射或反射束的性质。通过比较束在被衬底反射或散射之前和之后的性质，可以确定衬底的性质。例如，这可以通过将反射束与存储在与已知衬底性质相关联的已知测量结果的库中的数据进行比较来完成。光谱散射仪将宽带辐射束引导到衬底上，并且测量散射到特定窄角度范围内的辐射的光谱(作为波长的函数的强度)。相反，角分辨散射仪使用单色辐射束，并且测量散射辐射的强度与角度的关系。这样的光学散射仪可以用于测量参数，诸如显影的光致抗蚀剂的临界尺寸或在图案化的衬底中或之上形成的两层之间的重叠误差(OV)。可以通过比较照射束在被衬底反射或散射之前和之后的性质来确定衬底的性质。对准组件需要在变化的环境条件下的精度。因此，需要提供一种无论环境条件如何都能够减轻不对准的光学对准组件。
技术实现思路
在一个示例中，一种光刻系统包括：被配置为产生辐射束的照射系统、被配置为支撑被配置为在束上赋予图案的图案形成装置的支撑部、被配置为将图案化束投影到衬底上的投影系统、以及包括照射器的对准系统。在一个示例中，照射器包括光纤、光纤保护器、包括被配置为支撑光纤保护器的第一支撑臂组件的光纤支撑部、光学系统、以及包括被配置为支撑光学系统的第二支撑臂组件的光学系统支撑部。在一个示例中，一种照射器包括光纤、光纤保护器、包括被配置为支撑光纤保护器的第一支撑臂组件的光纤支撑部、光学系统、以及包括被配置为支撑光学系统的第二支撑臂组件的光学系统支撑部。在一个示例中，光纤支撑部和光学系统支撑部是模块化的，并且被耦合使得光纤和光学系统对准。在一个示例中，一种用于支撑对准关键光学部件的方法包括：使用包括被配置为在光纤保护器上施加第一接触压力的第一支撑臂组件的光纤支撑部来支撑光纤；以及使用包括被配置为在光学系统上施加第二接触压力的第二支撑臂组件的光学系统支撑部来支撑光学系统。在一个示例中，光纤支撑部和光学系统支撑部被耦合使得光纤和光学系统对准。下面参考附图详细描述本专利技术的其他特征和优点、以及本专利技术的各种实施例的结构和操作。注意，本专利技术不限于本文中描述的特定实施例。本文中提出这样的实施例仅用于说明性目的。基于本文中包含的教导，其他实施例对相关领域的技术人员将是很清楚的。附图说明结合在本文中并且构成说明书一部分的附图示出了本专利技术，并且与说明书一起进一步用于解释本专利技术的原理，并且使得相关领域的技术人员能够制作和使用本专利技术。图1A是根据示例性实施例的反射光刻装置的图示。图1B是根据示例性实施例的透射光刻装置的图示。图2是根据示例性实施例的反射光刻装置的更详细图示。图3是根据示例性实施例的光刻单元的图示。图4A和4B是根据各种示例性实施例的对准装置的图示。图5是根据示例性实施例的照射器的垂直截面的图示。图6是根据示例性实施例的光纤支撑部的垂直截面的图示。图7是根据示例性实施例的光纤支撑部的端视图的图示。图8是根据示例性实施例的光学系统支撑部的垂直截面的图示。图9是根据示例性实施例的光学系统支撑部的端视图的图示。图10是根据示例性实施例的光纤支撑部的端视图的图示。图11是根据示例性实施例的应变减轻支撑部的垂直截面的图示。结合附图，从下面阐述的详细描述中，本专利技术的特征和优点将变得更加明显，在附图中，相同的附图标记始终标识相应的元素。在附图中，相似的附图标记通常表示相同、功能相似和/或结构相似的元素。另外，通常，附图标记的最左边的数字标识该附图标记首次出现的附图。除非另外指出，否则贯穿本公开提供的附图不应当被解释为按比例绘制的附图。具体实施方式本说明书公开了结合了本专利技术特征的一个或多个实施例。所公开的实施例仅例示了本专利技术。本专利技术的范围不限于所公开的实施例。本专利技术由所附的权利要求书限定。所描述的实施例以及说明书中对“一个实施例”、“实施例”、“示例实施例”等的引用指示所描述的实施例可以包括特定的特征、结构或特性，但是每个实施例可能不一定包括特定的特征、结构或特性。而且，这样的短语不一定是指相同的实施例。此外，当结合实施例描述特定的特征、结构或特性时，应当理解，结合其他实施例(无论是否明确描述)来实现这种特征、结构或特性在本领域技术人员的知识的范围内。为了便于描述如图中所示一个元素或特征与另一元素或特征的关系，此处可以使用空间上相对的术语，诸如“在……下方”、“在……下面”、“在……下部”、“在……上方”、“在……上面”、“在……上部”等。除了在图中描述的方位之外，空间上相对的术语还意图涵盖设备在使用或操作中的不同方位。该装置可以以其他方式定向(旋转90度或以其他方位)，并且在此使用的空间上相对的描述语可以同样地被相应地解释。如本文中使用的，术语“大约”表示可以基于特定技术而变化的给定量的值本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻系统，包括：/n照射系统，被配置为产生辐射束；/n支撑部，被配置为支撑图案形成装置，所述图案形成装置被配置为在所述束上赋予图案；/n投影系统，被配置为将图案化的所述束投影到衬底上；/n对准系统，包括照射器，所述照射器包括：/n光纤；/n光纤保护器；/n光纤支撑部，包括第一支撑臂组件，所述第一支撑臂组件被配置为支撑所述光纤保护器；/n光学系统；以及/n光学系统支撑部，包括第二支撑臂组件，所述第二支撑臂组件被配置为支撑所述光学系统。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180516 US 62/672,2601.一种光刻系统，包括：
照射系统，被配置为产生辐射束；
支撑部，被配置为支撑图案形成装置，所述图案形成装置被配置为在所述束上赋予图案；
投影系统，被配置为将图案化的所述束投影到衬底上；
对准系统，包括照射器，所述照射器包括：
光纤；
光纤保护器；
光纤支撑部，包括第一支撑臂组件，所述第一支撑臂组件被配置为支撑所述光纤保护器；
光学系统；以及
光学系统支撑部，包括第二支撑臂组件，所述第二支撑臂组件被配置为支撑所述光学系统。


2.根据权利要求1所述的光刻系统，其中所述光纤支撑部和所述光学系统支撑部是模块化的。


3.根据权利要求1所述的光刻系统，其中所述光纤支撑部和所述光学系统支撑部被耦合，使得所述光纤和所述光学系统被对准。


4.根据权利要求3所述的光刻系统，其中所述光纤支撑部和所述光学系统支撑部经由螺纹紧固件耦合。


5.根据权利要求1所述的光刻系统，其中所述第一支撑臂组件包括三个挠曲件，所述三个挠曲件中的每个挠曲件包括挠曲片和接触垫。


6.根据权利要求5所述的光刻系统，其中所述三个挠曲件被配置为沿切向接触所述光纤保护器。


7.根据权利要求5所述的光刻系统，其中所述三个挠曲件被配置为运动学地操作。


8.根据权利要求5所述的光刻系统，其中所述三个挠曲件中的每个挠曲件还包括L形状。


9.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：D·陶布，J·A·富兰克林，J·J·科瓦尔斯基，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL