【技术实现步骤摘要】
用于控制半导体生产过程中的含氟气体排放量的方法
本公开的实施例涉及计算机
，具体涉及一种用于控制半导体生产过程中的含氟气体排放量的方法。
技术介绍
一般工业产生的含氟气体，包括四氟化碳、三氟甲烷、六氟乙烷、六氟化硫、三氟化氮等。含氟废气具有烟气量大、含氟浓度低、组成复杂、含尘量高的特点。含氟废气的扩散、转移，包括夹杂在酸雨中的沉降，能形成对大气、水体、土壤的污染，以及对建筑物、设备的腐蚀和臭氧层的破坏等。除了对人群造成各种危害外，还对动植物造成危害，氟污染严重时可致动物死亡、植物坏死。含氟气体主要来源与工业生产过程中的直接排放过程和间接排放过程。全球范围内含氟气体对环境的影响日趋严重，在我国也不例外。对含氟气体的排放进行控制势在必行。特别在工业领域方面，对含氟气体的排放量大，影响深远，因此，确定及控制减少大气中含氟气体的排放是当前人们刻不容缓的义务。
技术实现思路
本公开的实施例提供了一种用于控制半导体生产过程中的含氟气体排放量的方法，该方法包括：确定目标区域内的半导体企业的数量；对于所确定数量的半...
【技术保护点】
1.一种用于控制半导体生产过程中的含氟气体排放量的方法，包括：/n确定目标区域内的半导体企业的数量；/n对于所确定数量的半导体企业中的每一个，确定该企业的四氟化碳的排放量；/n对于所确定数量的半导体企业中的每一个，确定该企业的三氟甲烷的排放量；/n对于所确定数量的半导体企业中的每一个，确定该企业的六氟乙烷的排放量；/n对于所确定数量的半导体企业中的每一个，确定该企业的六氟化硫的排放量；/n对于所确定数量的半导体企业中的每一个，确定该企业的三氟化氮的排放量；/n基于所确定的四氟化碳、三氟甲烷、六氟乙烷、六氟化硫、三氟化氮，确定每个半导体企业的含氟气体排放量；/n汇总各个半导体...
【技术特征摘要】
1.一种用于控制半导体生产过程中的含氟气体排放量的方法，包括：
确定目标区域内的半导体企业的数量；
对于所确定数量的半导体企业中的每一个，确定该企业的四氟化碳的排放量；
对于所确定数量的半导体企业中的每一个，确定该企业的三氟甲烷的排放量；
对于所确定数量的半导体企业中的每一个，确定该企业的六氟乙烷的排放量；
对于所确定数量的半导体企业中的每一个，确定该企业的六氟化硫的排放量；
对于所确定数量的半导体企业中的每一个，确定该企业的三氟化氮的排放量；
基于所确定的四氟化碳、三氟甲烷、六氟乙烷、六氟化硫、三氟化氮，确定每个半导体企业的含氟气体排放量；
汇总各个半导体企业的含氟气体排放量，确定目标区域内的半导体企业的含氟气体排放总量；
根据所述含氟气体排放总量和各个半导体企业的含氟气体排放量，控制目标区域内的半导体企业的含氟气体的排放。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述含氟气体排放总量和各个半导体企业的含氟气体排放量，控制目标区域内的半导体企业的含氟气体的排放，包括：
响应于所述含氟气体排放总量超过预设阈值，向目标区域内的至少一个半导体企业发出减排指令，所述接收到减排指令的半导体企业根据预设的减排规划执行含氟气体的减排操作。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对于所确定数量的半导体企业中的每一个，确定该企业的四氟化碳的排放量，包括：
根据以下公式，确定该企业的四氟化碳的排放量：
其中，表示半导体生产过程中的CF4排放量；
表示半导体生产过程的CF4使用量；
表示半导体生产过程CF4的平均排放系数。
4.根据权利1所述的方法，其特征在于，所述对于所确定数量的半导体企业中的每一个，确定该企业的三氟甲烷的排放量，包括：
根据以下公式，确定该企业的三氟甲烷的排放量：
EHFC-23＝ADHFC-23×EFHFC-23，其中，EFHC-23表示半导体生产过程的三氟甲烷排放量，ADHFC-23表示半导体生产过程的三氟甲烷使用量，EFHFC-23表示半导体生产过程三氟甲烷的平均排放系数。
5.根据权利1所述的方法，其特征在于，所述对于所确定数量的半导体企业中的每一个，确定该企业的六氟乙烷的排放量，包括：
根据以下公式，确定该企业的六氟乙烷的排放量：
其中，表示半导体生产过程中的C2F6排放量，表示半导体生产过程的C2F6使用量，表示半导体生产过程C2F6的平均排放系数。
6.根据权利1所述的方法，其特征在于，所述对于所确定数量的半导体企业中的每一个，确定该企业的六氟化硫的排放量，包括：...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭玥锋，姜涵，
申请(专利权)人：苏州五蕴明泰科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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