当前位置: 首页 > 专利查询>林隆村专利>正文

具有抗反射外层的复合光学薄膜制造技术

技术编号:2688841 阅读:282 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术涉及一种具有抗反射外层的复合光学薄膜,其特征在于:在基层的上方设有两层抗反射保护层,每相邻两层之间设有溶剂层。本实用新型专利技术可保护薄膜不受污染,提高半导体集成电路生产过程中的照相平版印刷质量。(*该技术在2006年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种光学元件,如薄膜,特别是一种具有两层抗反射层的高透射复合层结构。近年来,各种光学元件,如光学薄膜,其在制造用于各种半导体集成电路的半导体薄片方面起着重要的地位,这种技术是非常熟悉的,薄膜保护(防止污染)照片模型,是各种照相平板印刷术中所需要的。典型的薄膜具有一极薄的光学胶片,该胶片被支撑在一个环形框架上,在照相平版印刷中将上述薄膜整体放在膜片的上方,为了更好地提高效率,薄膜除了防止照片模型被污染外,还需要防止在照相平版印刷过程中所用光波长透射度太高。本技术的目的是提供一种复合光学薄膜,其具有抗反射层,并且有薄膜保护作用。本技术的目的是这样实现的本技术包括一基层,其特征在于在基层的上方设有两层抗反射保护层,每相邻两层之间设有溶剂层。以下结合附图和实施例对本技术进一步说明附图说明图1为本技术的剖视图图中1为基层,由硝化纤维素或乙酸盐酯纤维素构成;2为中间层,由芳香的聚合复合物或乙烯包容的复合物构成;基层1与中间层2之间由溶剂层3相连,由甲苯或二甲苯作溶剂。4为上层,由粉碳化合物构成,上层4与中间层2之间为溶剂层5,溶剂层5为FC-77。中间层2和上层4共同作用起抗反射层的作用。权利要求1.一种具有抗反射外层的复合光学薄膜,其特征在于在基层的上方设有两层抗反射保护层,每相邻两层之间设有溶剂层。专利摘要本技术涉及一种具有抗反射外层的复合光学薄膜,其特征在于在基层的上方设有两层抗反射保护层,每相邻两层之间设有溶剂层。本技术可保护薄膜不受污染,提高半导体集成电路生产过程中的照相平版印刷质量。文档编号G02B1/10GK2258996SQ96245800公开日1997年8月6日 申请日期1996年11月18日 优先权日1996年11月18日专利技术者林隆村 申请人:林隆村本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有抗反射外层的复合光学薄膜,其特征在于:在基层的上方设有两层抗反射保护层,每相邻两层之间设有溶剂层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:林隆村
申请(专利权)人:林隆村
类型:实用新型
国别省市:11[中国|北京]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1