一种ZnO纳米片及其制备方法技术

本发明专利技术提供一种ZnO纳米片及其制备方法，包括衬底、以及均匀分布在衬底上的ZnO纳米层，所述的ZnO纳米层的厚度在5‑20nm，尺寸小于700nm。其制备方法主要包括旋涂溶液的制备、前驱体薄膜的制备、以及高温烧结，本发明专利技术制备设备成熟，配方简单，无需微波辅助即可制备ZnO纳米片，有利益降低生产成本；本发明专利技术制备的ZnO纳米片具有分散性较好的优点，有利于增大纳米材料的比表面积；本发明专利技术制备的ZnO纳米片在可广泛应用于光催化降解、气敏传感、传感器等领域，具有良好的应用前景。

【技术实现步骤摘要】
一种ZnO纳米片及其制备方法
本专利技术涉及纳米材料
，尤其是一种ZnO纳米片及其制备方法。
技术介绍
氧化锌(ZnO)是一种第三代半导体材料，它具有禁带宽度较大、化学稳定性好、生物兼容性良好、制备方法简单等众多优点，其在室温条件下的禁带宽Eg＝3.37eV，激子束缚能可达到60meV，远高于GaN的25meV，因而受到了研究人员的青睐。尤其是，当氧化锌做成纳米材料时，因其独特的体积效应、量子尺寸效应、表面效应、隧道效应、压电效应以及光催化性质等，使得纳米氧化锌材料有望在光学、电学、生物医学等领域发挥积极的作用。因此，氧化锌纳米材料的可控制备一直是该领域材料研究的一个热点。氧化锌纳米片是当前研究的一个重点。已有研究表明，氧化锌纳米片在光催化降解有机污染物、气敏传感、生物传感器等领域展现出了极为优异的性能，具有广阔的应用前景。目前，制备氧化锌纳米片的方法较多，主要是水热法。水热法工艺相对简单、成本低廉，因而得到了广泛的应用。然而，目前水热法制备氧化锌纳米片的配方较为复杂，且部分水热法的生长周期较长(超过5个小时)或者微波辅助本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种ZnO纳米片，其特征在于：包括衬底、以及均匀分布在衬底上的ZnO纳米层，所述的ZnO纳米层的厚度在5-20nm，尺寸小于700nm。/n

【技术特征摘要】
1.一种ZnO纳米片，其特征在于：包括衬底、以及均匀分布在衬底上的ZnO纳米层，所述的ZnO纳米层的厚度在5-20nm，尺寸小于700nm。


2.根据权利要求1所述的ZnO纳米片，其特征在于：所述的衬底为2*2cm-4*4英寸的玻璃、Si、蓝宝石、金属基板。


3.一种用于制备权利要求1或2所述的ZnO纳米片的方法，其特征在于，包括以下步骤：S1)、旋涂溶液的配制，将1.0-2.5g醋酸锌加入到10-50mL的丙二醇中，然后在室温-50℃的条件下采用磁力搅拌30-60min，配制成粘性较好的旋涂溶液；
S2)、清洗衬底，采用乙醇、去离子水超声波清洗衬底5-8次，并采用气枪吹干；
S3)、前驱体薄膜的制备，将清洗干净的衬底吸附在旋涂仪上，在衬底上滴加2滴旋涂溶液，然后使用3000转/分钟的速率旋涂60s，使溶液均匀的铺展在衬底上，在旋涂过程中，每隔15s，滴加1滴旋涂溶液，共滴加3次；之后在电热...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨为家，刘俊杰，刘铭全，何鑫，陈柏桦，赵丽特，
申请(专利权)人：五邑大学，
类型：发明
国别省市：广东;44