成膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术的目的在于提供一种能够不降低成膜品质、成膜速度地、以低成本在基板上形成薄膜的成膜装置。而且，在本发明专利技术中，红外光照射器(2)配置于下部容器(62)内的从传送带(53)分离的位置。红外光照射器(2)从多个红外光灯(22)朝向上方照射红外光，执行对载置于带(52)的上表面的多个基板(10)的加热处理。在成膜室(6A)内，通过同时执行基于红外光照射器(2)的红外光照射的加热处理和基于薄膜形成喷嘴(1)的雾喷射处理，从而在载置于带(52)的上表面的基板(10)上形成薄膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】成膜装置
本专利技术涉及用于太阳能电池等电子器件的制造中、在基板上形成薄膜的成膜装置。
技术介绍
作为在基板上形成膜的方法，有化学气相沉积(CVD(ChemicalVaporDeposition))法。但是，在化学气相沉积法中，需要真空下的成膜的情况多，除了真空泵等以外，还需要使用大型的真空容器。进而，在化学气相沉积法中，从成本等观点出发，存在难以采用大面积的基板作为被成膜的基板的问题。因此，能够进行大气压下的成膜处理的雾法受到关注。作为与利用了雾法的成膜装置有关的现有技术，例如存在专利文献1的技术。在专利文献1的技术中，从在包含雾喷射用喷嘴等的雾喷射头部的底面设置的原料溶液喷出口以及反应材料喷出口，对于配置于大气中的基板喷射被雾化的原料溶液以及反应材料。通过该喷射，在基板上形成膜。此外，反应材料是指有助于与原料溶液的反应的材料。图3是表示以往的成膜装置的概略结构的说明图。如该图所示，作为基板载置部的基板装载台30在上表面载置有多个基板10。基板装载台30具有基于真空吸附的吸附机构31，通过该吸附机构31，能够将所载置的多个基板10各自的整个背面吸附于基板装载台30的上表面上。而且，基板装载台30在吸附机构31的下方设置有加热机构32，通过该加热机构32，能够对载置于基板装载台30上表面的多个基板10执行加热处理。薄膜形成喷嘴1(雾喷射部)执行从设置于喷射面1S的喷射口向下方喷射原料雾MT的雾喷射处理。另外，原料雾MT是将原料溶液雾化而得到的雾，能够通过薄膜形成喷嘴1将原料雾MT向大气中喷射。薄膜形成喷嘴1、基板装载台30、在基板装载台30的上表面上载置的多个基板10全部被收纳于成膜室60中。成膜室60由上部容器68、下部容器69以及门67构成。成膜室60在进行成膜处理时，使门67为关闭状态而将上部容器68、下部容器69间的开口部封堵，由此能够将薄膜形成喷嘴1、基板装载台30以及多个基板10从外部隔断。因此，通过使成膜室60的门67为关闭状态，在加热机构32的加热处理中，通过薄膜形成喷嘴1执行雾喷射处理，由此能够在载置于基板装载台30上表面的基板10上形成薄膜。这样，以往的成膜装置通过同时执行基于薄膜形成喷嘴1的雾喷射处理和基于加热机构32的加热处理，由此在基板10上形成薄膜。现有技术文献专利文献专利文献1：国际公开第2017/068625号
技术实现思路
专利技术解决的技术问题如上所述，以往的成膜装置，一般是将加热机构32设置于在上表面上载置成为成膜对象物的基材即基板10的基板装载台30的内部，并将基板装载台30用作平面型加热机构。在使用如基板装载台30那样的平面型加热机构的情况下，使基板装载台30的上表面与基板10的背面接触，使基板装载台30、基板10之间传热而执行基板10的加热处理。但是，在基板10不是平板形状而呈现其下表面弯曲的结构、下表面有凹凸的结构的情况下，在平面型加热机构中，基板装载台30的上表面与基板10的背面的接触变为局部性的。因此，存在在加热机构32的加热处理的执行时基板10的加热变得不均匀、或在基板10产生翘曲而变形等问题。本专利技术的目的在于解决上述那样的问题点，提供一种能够不降低成膜品质、成膜速度地、以低成本在基板上形成薄膜的成膜装置。用于解决技术问题的手段本专利技术的成膜装置，其特征在于，具备：基板载置部，载置基板；加热机构，与所述基板载置部以分离的方式设置，具有红外光灯，执行加热处理，在所述加热处理中从所述红外光灯照射红外光来将所述基板加热；以及雾喷射部，执行雾喷射处理，在所述雾喷射处理中，向所述基板的表面喷射将原料溶液雾化而得到的原料雾，通过同时执行基于所述加热机构的所述加热处理和基于所述雾喷射部的所述雾喷射处理，由此在所述基板的表面形成薄膜。专利技术效果技术方案1所述的本申请专利技术的成膜装置，具备加热机构，该加热机构与基板载置部以分离的方式设置，执行通过从红外光灯照射红外光来加热基板的加热处理。因此，技术方案1所述的本申请专利技术，能够与基板不具有接触关系地通过加热机构直接加热基板，因此能够不使基板变形地与基板的形状无关地进行均匀的加热。其结果，技术方案1所述的本申请专利技术的成膜装置能够不降低成膜品质、成膜速度地、以低成本在基板上形成薄膜。本专利技术的目的、特征、方面以及优点通过以下的详细说明和附图而变得更加清楚。附图说明图1是表示本专利技术的实施方式1的成膜装置的概略结构的说明图。图2是表示本专利技术的实施方式2的成膜装置的概略结构的说明图。图3是表示以往的成膜装置的概略结构的说明图。具体实施方式＜实施方式1＞图1是表示本专利技术的实施方式1的成膜装置的概略结构的说明图。在图1中记载了XYZ正交坐标系。如图1所示，实施方式1的成膜装置11包括成膜室6A、薄膜形成喷嘴1、红外光照射器2以及输送机53作为主要构成要素。作为基板载置部的输送机53在带52的上表面载置有多个基板10。输送机53具备在左右(-X方向，+X方向)两端设置的输送用的一对辊51和架设于一对辊51的环状的输送用的带52。输送机53能够通过一对辊51的旋转驱动，使上方侧(+Z方向侧)的带52沿着输送方向(X方向)移动。输送机53的一对辊51设置于成膜室6A外，带52的中央部设置于成膜室6A内，能够经由在成膜室6A的左右(-X方向、+X方向)侧面的一部分设置的一对开口部63在成膜室6A的内部与外部之间移动。薄膜形成喷嘴1、输送机53的一部分、在输送机53的带52的上表面载置的多个基板10以及红外光照射器2收纳于成膜室6A内。成膜室6A由上部容器61、下部容器62以及一对开口部63构成。在Z方向即高度方向上，一对开口部63位于上部容器61与下部容器62之间。因此，在成膜室6A内的开口部63、63之间设置的输送机53配置于比下部容器62高、且比上部容器61低的位置。作为加热机构的红外光照射器2通过未图示的固定机构被固定在下部容器62内的与输送机53分离的位置。另外，红外光照射器2被配置于成膜室6A内的俯视时与带52的上表面重叠的位置。红外光照射器2由灯载置台21以及多个红外光灯22构成，在灯载置台21的上部安装有多个红外光灯22。因此，红外光照射器2能够从多个红外光灯22朝向上方(+Z方向)照射红外光。通过由红外光照射器2进行的上述的红外光照射，能够执行对在带52的上表面载置的多个基板10的加热处理。作为雾喷射部的薄膜形成喷嘴1通过未图示的固定机构被固定配置于上部容器61内。此时，薄膜形成喷嘴1以喷射面1S与带52的上表面相对置的位置关系配置。薄膜形成喷嘴1执行从设置于喷射面1S的喷射口向下方(-Z方向)喷射原料雾MT的雾喷射处理。另外，原料雾MT是将原料溶液雾化而得到的雾，能够通过薄膜形成喷嘴1将原料雾MT向大气中喷射。成膜室6A在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种成膜装置，具备：/n基板载置部(53)，载置基板(10)；/n加热机构(2)，与所述基板载置部以分离的方式设置，具有红外光灯(22)，执行从所述红外光灯照射红外光而将所述基板加热的加热处理；以及/n雾喷射部(1)，执行雾喷射处理，在所述雾喷射处理中，向所述基板的表面喷射将原料溶液雾化而得到的原料雾(MT)，/n通过同时执行基于所述加热机构的所述加热处理和基于所述雾喷射部的所述雾喷射处理，从而在所述基板的表面形成薄膜。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种成膜装置，具备：
基板载置部(53)，载置基板(10)；
加热机构(2)，与所述基板载置部以分离的方式设置，具有红外光灯(22)，执行从所述红外光灯照射红外光而将所述基板加热的加热处理；以及
雾喷射部(1)，执行雾喷射处理，在所述雾喷射处理中，向所述基板的表面喷射将原料溶液雾化而得到的原料雾(MT)，
通过同时执行基于所述加热机构的所述加热处理和基于所述雾喷射部的所述雾喷射处理，从而在所述基板的表面形成薄膜。


2.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，还具备：
成膜室(6A...

【专利技术属性】
技术研发人员：织田容征，
申请(专利权)人：东芝三菱电机产业系统株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP