一种基于透过率光谱的快速无损获得透明薄膜厚度的方法技术

本发明专利技术涉及一种基于透过率光谱的快速无损获得透明薄膜厚度的方法。所述方法包括如下步骤：获得透明薄膜的透过率光谱；分别连接相邻两波峰、相邻两波谷，做出光谱曲线的包络线；标记相邻两个波峰所在位置，将两个波峰的波长分别记为λ

【技术实现步骤摘要】
一种基于透过率光谱的快速无损获得透明薄膜厚度的方法
本专利技术涉及光电产品应用
，尤其涉及一种基于透过率光谱的快速无损获得透明薄膜厚度的方法。
技术介绍
随微电子行业的发展和信息技术的进步，迎来了信息时代的高速发展期，光电子领域的飞速发展，促使薄膜制备技术不断改进。透明导电氧化物(TransparentConductiveOxide，TCO)薄膜独具优势，在可见光范围内(波长为400nm-700nm)保持着较高的光透过率,广泛用作透明导电薄膜应用于电脑显示器、液晶电视屏、智能手表、触摸屏幕等。薄膜表面均匀性决定成膜优劣，薄膜厚度是器件的重要参数之一，决定了光电器件的组成及参数。如何快速、无损的检测透明薄膜的厚度这一材料工艺流程，值得投入研究。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种基于透过率光谱的快速无损获得透明薄膜厚度的方法。为了实现上述目的，本专利技术提供了如下技术方案：一种基于透过率光谱的快速无损获得透明薄膜厚度的方法，所述方法包括如下步骤：S1：获得透明薄膜的透过率光谱；...

【技术保护点】
1.一种基于透过率光谱的快速无损获得透明薄膜厚度的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：/nS1：获得透明薄膜的透过率光谱；/nS2：分别连接相邻两波峰、相邻两波谷，做出光谱曲线的包络线；/nS3：标记相邻两个波峰所在位置，将两个波峰的波长分别记为λ

【技术特征摘要】
1.一种基于透过率光谱的快速无损获得透明薄膜厚度的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：
S1：获得透明薄膜的透过率光谱；
S2：分别连接相邻两波峰、相邻两波谷，做出光谱曲线的包络线；
S3：标记相邻两个波峰所在位置，将两个波峰的波长分别记为λ1、λ2，然后分别标记两个波峰与包络线相交处的透射率的最大值、最小值，分别记为TM1，Tm1和TM2，Tm2；
S4：按照如下由公式分别计算λ1、λ2处的折射率n1和n2；
n＝[(N+N2+s2)1/2]1/2；



其中，s是透明衬底的折射率，n为波峰处的折射率；
S5：根据两相邻波峰的折射率，按照如下公式计算透明薄膜厚度d：





2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，
按照直接法或间接法获得透明薄膜的透过率光谱；
优选地，所述直接法包括如下步骤：
使用光谱仪将波段为100-3000nm的光线垂直射入透明薄膜上表面，收集透过透明薄膜下表面的出射光线；
根据透过率＝出射光线的能量/入射光线的能量，得到100-3000nm波段的透过率数据，制图得到透过率光谱；
或
优选地，所述间接法包括如下步骤：
利用光谱仪，测得透明薄膜的反射率谱，获得反射率数据；
根据透过率＝1-...

【专利技术属性】
技术研发人员：王肖珩，肖志河，周翔，乔元哲，陈大鹏，
申请(专利权)人：北京环境特性研究所，中国长峰机电技术研究设计院，北京遥感设备研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11