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一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置制造方法及图纸

技术编号:26825019 阅读:18 留言:0更新日期:2020-12-25 12:24
本实用新型专利技术公开了一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置,真空腔体、收放卷系统、真空获得系统以及磁控溅射区,在空腔体内设有呈圆弧形排布的靶极;靶极向待加工基材做功完成磁控溅射,靶极向待加工基材做功完成磁控溅射的区域是磁控溅射区;在真空腔体内设置收放卷系统,收放卷系统包括第一收放卷轴、第二收放卷轴、主动辊,调节辊包括导向辊、张力辊、展平辊,其中第一收放卷轴、第二收放卷轴位于真空腔体内趋向于真空腔体顶部的位置;在第一收放卷轴与主动辊之间以及在第二收放卷轴主动辊之间分别排布有一组调节辊,靶极与进入磁控溅射区的待加工基材的待加工面之间形成磁控溅射通道。本实用新型专利技术提高了镀膜的密度以及基材成品的屏蔽导通强度。

【技术实现步骤摘要】
一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置
本技术涉及一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置。
技术介绍
常用磁控溅射镀膜机存在以下缺点:(一)镀膜装置由真空腔体、靶极车、收放卷系统三部分构成,设备体积大,且真空腔体内部件设计不合理,占用较大空间,设备成本高。(二)溅射区滚筒多采用小直径辊,基材在辊与辊之间拉伸张开时易造成张力不均匀,使基材表面发生褶皱、凹凸不平,造成镀膜厚度不均匀、质量差,产品良率低;且制程能力较弱,可镀基材厚度较厚,一般基材厚度最薄只达7.5μm。(三)未能提高磁控溅射效率,其磁控溅射过程中,容易在基材体形成能量堆积,造成基材的变形甚至报废,也无法提高产品镀膜密度、厚度,性能低下,或者镀膜质量差等问题。
技术实现思路
本技术的目的在于针对上述缺陷,提供了一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置,包括真空腔体、收放卷系统、真空获得系统以及磁控溅射区,在空腔体内设有呈圆弧形排布的靶极;靶极向待加工基材做功完成磁控溅射,靶极向待加工基材做功完成磁控溅射的区域是磁控溅射区;所述磁控溅射区是由位于真空腔体内趋向于真空腔体底部的位置呈弧形向真空腔体顶部方向延伸;在真空腔体内设置收放卷系统,收放卷系统包括第一收放卷轴、第二收放卷轴、主动辊,调节辊包括导向辊、张力辊、展平辊,其中第一收放卷轴、第二收放卷轴位于真空腔体内趋向于真空腔体顶部的位置;在第一收放卷轴与主动辊之间以及在第二收放卷轴主动辊之间分别排布有一组调节辊,待加工靶材由第一收放卷轴放卷,经由一组调节辊到主动辊的下半圆表面,在经过磁控溅射区时靶极向待加工基材做功完成磁控溅射,再经由另一组调节辊到第二收放卷轴上,第二收放卷轴带动待加工基材进行收卷;主动辊位于第一收放卷轴和第二收放卷轴的下方并同时位于靶极的上方,靶极对主动辊呈现半包围状态;靶极与进入磁控溅射区的待加工基材的待加工面之间形成磁控溅射通道。为了使磁控溅射区域更大,排布的靶极更多,主动辊选用大直径主动辊,主动辊直径大于第一收放卷轴、第二收放卷轴的直径。第一收放卷轴、第二收放卷轴、主动辊呈三角形状排布。第一收放卷轴、第二收放卷轴、主动辊呈等腰三角形状排布。所有靶极在真空腔体内与主动辊的距离等距。每一组调节辊所包含的导向辊、张力辊、展平辊在真空腔体内交错排布。所述磁控溅射通道呈圆弧状。第一可收放卷轴中的基材通过其中一组调节辊的导向辊、张力辊、展平辊进入到主动辊与磁控溅射通道,完成磁控溅射道出并经由另一组调节辊的展平辊、张力辊、导向辊收卷于第二可收放卷轴。从反方向的工作过程类似。由于在使用选用的主动辊的直径较大,在真空腔体内占据真空腔体内的大部分的下半部段和少部分的上半部段。两组调节辊的位置位于静止时的主动辊的上半部段的左右两侧。有益效果本技术具有的优点是:(1)改变靶极的位置,在有效空间内能尽可能多的布置靶极。(2)收放卷系统的主动辊便于调节成为大直径辊,确保在溅射过程中基材张力均匀,不易发生褶皱,从而保证基材表面溅射密度均匀;大直径辊的设置以及与收放卷系统的各个部件的排布特点,利用了真空腔体的有限空间,有利于减小设备体积,提高设备内部空间占有率,降低制造成本。(3)靶极的利用率高,提高了镀膜的密度以及基材成品的强度,降低了损耗率,增强了利用率。(4)将靶极设计在真空腔体内,主动棍的下半圆区,省去靶极车及离子源处理器,且真空腔体内部主要部件位置设计结构更紧凑,高效利用了真空腔体的有限空间,有利于减小设备体积,提高设备内部空间占有率,降低制造成本。(5)改变靶极的位置,更改主动棍和真空腔体的材料为新超导材料,大幅提高装置运行的能量转化率,提高靶极的超高利用率,膜材的强度、密度、剥离强度(6)收放卷系统的主动辊为大直径辊,确保在溅射过程中基材张力均匀,不易发生褶皱,从而保证基材表面溅射密度均匀;同时可溅射基材厚度最薄可达1.5μm,远高于现有装置的制程,也是该技术制程能力提高体现。附图说明图1是本技术的技术结构示意图之一;图2是本技术的技术结构示意图之二;图3是本技术的技术结构示意图之三;图4是本技术的技术结构示意图之四;图5是本技术的技术结构示意图之五;图6是本技术的技术结构示意图之六。具体实施方式实施例1,结合图1所示,一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置,包括真空腔体1、收放卷系统、真空获得系统以及磁控溅射区,在空腔体内设有呈圆弧形排布的靶极2;靶极向待加工基材做功完成磁控溅射,靶极向待加工基材做功完成磁控溅射的区域是磁控溅射区;所述磁控溅射区是由位于真空腔体内趋向于真空腔体底部的位置呈弧形向真空腔体顶部方向延伸;在真空腔体内设置收放卷系统,收放卷系统包括第一收放卷轴3、第二收放卷轴4、主动辊5,调节辊包括导向辊6、张力辊7、展平辊8,其中第一收放卷轴、第二收放卷轴位于真空腔体内趋向于真空腔体顶部的位置;在第一收放卷轴与主动辊之间以及在第二收放卷轴主动辊之间分别排布有一组调节辊,待加工靶材由第一收放卷轴放卷,经由一组调节辊到主动辊的下半圆表面,在经过磁控溅射区时靶极向待加工基材做功完成磁控溅射,再经由另一组调节辊到第二收放卷轴上,第二收放卷轴带动待加工基材进行收卷;主动辊位于第一收放卷轴和第二收放卷轴的下方并同时位于靶极的上方,靶极对主动辊呈现半包围状态;靶极与进入磁控溅射区的待加工基材的待加工面之间形成磁控溅射通道。磁控溅射通道呈圆弧状。实施例2,在实施例1的基础上,结合图3所示,把主动辊的直径的增大,同时调整调节辊的位置,调节辊呈一排。提高了设备内部空间占有率。磁控溅射通道呈由圆弧状底部以及由圆弧状底部向外延伸的延伸段构成。实施例3,在实施例2的基础上,结合图5所示,把主动辊的直径的增大,同时调整调节辊的位置,调节辊呈三角状排布。提高了设备内部空间占有率。磁控溅射通道呈由圆弧状底部以及由圆弧状底部向外延伸的延伸段构成。实施例4,在实施例1的基础上,强化了使用效果,结合图1-6,一种高效真空磁控溅射卷绕镀膜装置,包括超低真空腔体1、高效收放卷系统,超低真空圆型腔体上设置有超低真空获得系统,真空圆型腔体内的磁控溅射区下半圆区分别布置有高利用率靶极2,真空圆型腔体内上半小部分圆区为收放卷系统:包括第一可收放卷轴3、第二可收放卷轴4、导向辊6、张力辊7展平辊8以及超导主动棍5,半圆区靶极排列与超导主动棍之间形成高效率磁控溅射通道,超导主动辊位于磁控溅射区且在真空圆型腔体中下部位,第一可收放卷轴中的基材通过导向辊、张力辊、展平辊进去到超导主动棍与磁控溅射通道合成区,完成磁控溅射道出并经由张力辊、展平辊和导向辊收卷于第二可收放卷轴。所述第一可收放卷轴位于磁控溅射区左上方,所述第二可收放卷轴位于磁控溅射区右上方;或者,所述第一可收放卷本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置,包括真空腔体、收放卷系统、真空获得系统以及磁控溅射区,其特征在于,在空腔体内设有呈圆弧形排布的靶极;靶极向待加工基材做功完成磁控溅射,靶极向待加工基材做功完成磁控溅射的区域是磁控溅射区;所述磁控溅射区是由位于真空腔体内趋向于真空腔体底部的位置呈弧形向真空腔体顶部方向延伸;在真空腔体内设置收放卷系统,收放卷系统包括第一收放卷轴、第二收放卷轴、主动辊,调节辊包括导向辊、张力辊、展平辊,其中第一收放卷轴、第二收放卷轴位于真空腔体内趋向于真空腔体顶部的位置;在第一收放卷轴与主动辊之间以及在第二收放卷轴主动辊之间分别排布有一组调节辊,待加工靶材由第一收放卷轴放卷,经由一组调节辊到主动辊的下半圆表面,在经过磁控溅射区时靶极向待加工靶材做功完成磁控溅射,再经由另一组调节辊到第二收放卷轴上,第二收放卷轴带动待加工靶材进行收卷;主动辊位于第一收放卷轴和第二收放卷轴的下方并同时位于靶极的上方,靶极对 主动辊呈现半包围状态;靶极与进入磁控溅射区的待加工靶材的待加工面之间形成磁控溅射通道。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置,包括真空腔体、收放卷系统、真空获得系统以及磁控溅射区,其特征在于,在空腔体内设有呈圆弧形排布的靶极;靶极向待加工基材做功完成磁控溅射,靶极向待加工基材做功完成磁控溅射的区域是磁控溅射区;所述磁控溅射区是由位于真空腔体内趋向于真空腔体底部的位置呈弧形向真空腔体顶部方向延伸;在真空腔体内设置收放卷系统,收放卷系统包括第一收放卷轴、第二收放卷轴、主动辊,调节辊包括导向辊、张力辊、展平辊,其中第一收放卷轴、第二收放卷轴位于真空腔体内趋向于真空腔体顶部的位置;在第一收放卷轴与主动辊之间以及在第二收放卷轴主动辊之间分别排布有一组调节辊,待加工靶材由第一收放卷轴放卷,经由一组调节辊到主动辊的下半圆表面,在经过磁控溅射区时靶极向待加工靶材做功完成磁控溅射,再经由另一组调节辊到第二收放卷轴上,第二收放卷轴带动待加工靶材进行收卷;主动辊位于第一收放卷轴和第二收放卷轴的下方并同时位于靶极的上方,靶极对主动辊呈现半包围状态;靶极与进入磁控溅射区的待加工靶材的待加工面之间形成磁...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨柳林
申请(专利权)人:杨柳林
类型:新型
国别省市:广东;44

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