光波导管制造技术

＊＊＊ 一种光波导管，包括由一种聚合物形成的核心层，和与该核心层邻近的外包层，该外包层是由这样一种聚合物形成的，这种聚合物的折射率小于核心层的聚合物的折射率，其中用于核心和外包层的聚合物选自具有式（１）的共聚物，ｎ是数值范围为０．０５≤ｎ＜１的摩尔比率。因而，通过在形成光波导管中使用容易控制折射率的聚酰亚胺，光波导管的核心和外包层之间的折射率差异与使用硅的情况相比可被进一步提高。结果可制造用于光通信的亚小型钝态装置。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光波导管，具体地说，本专利技术涉及一种由可变折射率聚酰亚胺形成的光波导管，以在核芯和外包层之间产生大的折射率差异。最近，使用半导体或微机械系统(MEMS)制造技术制造光波导装置的方法已众所周知。现已引入了在平面基底上形成光波导装置的平面光波导技术。而且，越来越多的研究集中在光波导装置的进一步集成化上。在制造普通的光波导装置的方法中，在一个基底上顺序形成一个下外包层和一个核心层。然后，将一种光刻胶沉积在核心层上，并通过曝光和显影步骤形成光刻胶图形。使用作为腐蚀掩膜的光刻胶图形将核心层蚀刻成一种预确定的图形，并在其上形成一个上外包层，得到示于附图说明图1的完整的光波导装置。图1中，标记100表示平面基底，标记110表示外包层，标记120表示核心层。对于每一个外包层和核心层，外包层和核心层是使用具有不同折射率的硅石或聚合物通过旋转涂布形成的。在使用硅石作为核芯和外包层的材料的情况下，折射率的差异可升高至0.75％。但是，硅石的使用不能降低光波导管的大小，因而，是造成难以生产用于光通信的亚小型钝态装置(subminiature passive device)。也就是说本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光波导管，包括由一种聚合物形成的核心层，和与该核心层邻近的外包层，该外包层是由这样一种聚合物形成的，这种聚合物的折射率小于核心层的聚合物的折射率，其中用于核心和外包层的聚合物选自具有式（１）的共聚物，＊＊＊ （１）其中Ｘ为＊ ＊＊或者＊＊＊Ｙ为＊＊＊或者＊＊＊ｎ是数值范围为０．０５≤ｎ＜１的摩尔比率。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：金定姬，韩官秀，张祐赫，徐东鹤，李泰衡，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]