一种可见光高透滤光片制造技术

本实用新型专利技术公开了一种可见光高透滤光片，包括基片，所述基片的一侧设置有第一防护层，所述基片的一侧设置有第二防护层，所述基片与所述第一防护层之间设置有第一介质层，所述基片与所述第二防护层之间设置有第二介质层，所述第一防护层与所述第二防护层均包括沿靠近所述基片的方向依次设置的聚苯乙烯树脂膜层、防静电颗粒层和纳米防水层。本实用新型专利技术的有益效果：其透光率高，防护性能好，具有防撞、防潮、耐热等诸多优点。

【技术实现步骤摘要】
一种可见光高透滤光片
本技术涉及滤光片
，具体来说，涉及一种可见光高透滤光片。
技术介绍
在光学领域，可见光滤光片是一种重要的光学元件，其主要作用是对光进行光谱选择，使需要的光通过，不需要的波长的光则被截止。可见光滤光片可减少反射光，增加了光线透过率，使视物更加清楚，目前，实现高的透过率对于可见光滤光片来说具有相当高的难度。针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。
技术实现思路
针对相关技术中的上述技术问题，本技术提出一种可见光高透滤光片，其透光率高，并具有防撞和防潮的功能。为实现上述技术目的，本技术的技术方案是这样实现的：一种可见光高透滤光片，包括基片，所述基片的一侧设置有第一防护层，所述基片的一侧设置有第二防护层，所述基片与所述第一防护层之间设置有第一介质层，所述基片与所述第二防护层之间设置有第二介质层，所述第一介质层包括沿远离所述基片的方向依次设置的12层第一低折射率膜，每两层所述第一低折射率膜之间设置有一层第一高折射率膜，所述第二介质层包括沿远离所述基片的方向依次设置的14层第二低折射率膜，每两层所述第二低折射率膜之间设置有一层第二高折射率膜；沿远离所述基片的方向，前两层所述第一低折射率膜的厚度分别为94nm和45nm，最后一层所述第一低折射率膜的厚度为85nm，其余的所述第一低折射率膜的厚度为150nm，前两层所述第二低折射率膜的厚度分别为96nm和45nm，最后一层所述第二低折射率膜的厚度为75nm，其余的所述第二低折射率膜的厚度为150nm；距离所述基片最近的所述第一高折射率膜的厚度为10nm，其余的所述第一高折射率膜的厚度为100nm，距离所述基片最近的所述第二高折射率膜的厚度为7nm，其余的所述第二高折射率膜的厚度为100nm；所述第一防护层与所述第二防护层均包括沿靠近所述基片的方向依次设置的聚苯乙烯树脂膜层、防静电颗粒层和纳米防水层。进一步地，所述第一高折射率膜与所述第二高折射率膜的材质均为HFO2或TiO2。进一步地，所述第一低折射率膜与所述第二低折射率膜的材质均为SiO2。进一步地，所述第一防护层与所述第二防护层还均包括隔热涂料层，所述隔热涂料层位于所述纳米防水层与所述第一介质层之间或者位于所述纳米防水层与所述第二介质层之间。本技术的有益效果：其透光率高，防护性能好，具有防撞、防潮、耐热等诸多优点。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是根据本技术实施例所述的可见光高透滤光片的示意图。图中：1、基片；2、薄银膜层；3、AR膜层；4、聚苯乙烯树脂膜层；5、防静电颗粒层；6、纳米防水层。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。如图1所示，根据本技术实施例所述的一种可见光高透滤光片，包括基片1，所述基片1的一侧设置有第一防护层，所述基片1的一侧设置有第二防护层，所述基片1与所述第一防护层之间设置有第一介质层2，所述基片1与所述第二防护层之间设置有第二介质层3，所述第一介质层2包括沿远离所述基片1的方向依次设置的12层第一低折射率膜，每两层所述第一低折射率膜之间设置有一层第一高折射率膜，所述第二介质层3包括沿远离所述基片1的方向依次设置的14层第二低折射率膜，每两层所述第二低折射率膜之间设置有一层第二高折射率膜；沿远离所述基片1的方向，前两层所述第一低折射率膜的厚度分别为94nm和45nm，最后一层所述第一低折射率膜的厚度为85nm，其余的所述第一低折射率膜的厚度为150nm，前两层所述第二低折射率膜的厚度分别为96nm和45nm，最后一层所述第二低折射率膜的厚度为75nm，其余的所述第二低折射率膜的厚度为150nm；距离所述基片1最近的所述第一高折射率膜的厚度为10nm，其余的所述第一高折射率膜的厚度为100nm，距离所述基片1最近的所述第二高折射率膜的厚度为7nm，其余的所述第二高折射率膜的厚度为100nm；所述第一防护层与所述第二防护层均包括沿靠近所述基片1的方向依次设置的聚苯乙烯树脂膜层4、防静电颗粒层5和纳米防水层6。在本技术的一个具体实施例中，所述第一高折射率膜与所述第二高折射率膜的材质均为HFO2或TiO2。在本技术的一个具体实施例中，所述第一低折射率膜与所述第二低折射率膜的材质均为SiO2。在本技术的一个具体实施例中，所述第一防护层与所述第二防护层还均包括隔热涂料层，所述隔热涂料层位于所述纳米防水层6与所述第一介质层2之间或者位于所述纳米防水层6与所述第二介质层3之间。为了方便理解本技术的上述技术方案，以下通过具体使用方式对本技术的上述技术方案进行详细说明。本技术所述的可见光高透滤光片包括基片1、第一介质层2、第二介质层3、聚苯乙烯树脂膜层4、防静电颗粒层5、纳米防水层6和隔热涂料层。基片1采用钢化玻璃或树脂制成，用于提供滤光支撑及外形保证。第一介质层2和第二介质层3均采用真空镀膜工艺镀在基片1上，第一介质层2的结构为：第一低折射率膜+第一高折射率膜+第一低折射率膜+……+第一高折射率膜+第一低折射率膜共23层，沿远离所述基片1的方向，前两层第一低折射率膜的厚度分别为94nm和45nm，第一层第一高折射率膜的厚度为10nm，最后一层第一低折射率膜的厚度为85nm。第二介质层3的结构为：第二低折射率膜+第二高折射率膜+第二低折射率膜+……+第二高折射率膜+第二低折射率膜共27层，沿远离所述基片1的方向，前两层第二低折射率膜的厚度分别为96nm和45nm，第一层第二高折射率膜的厚度为7nm，最后一层第二低折射率膜的厚度为75nm。其余的第一低折射率膜和第二低折射率膜的厚度均为150nm，其余的第一高折射率膜和第二高折射率膜的厚度均为100nm。可以确保光波在可见光波段充分进行相干叠加，增加可见光的透过率。第一防护层用于对第一介质层2进行防护，第二防护层用于对第二介质层3进行防护。第一防护层与第二防护层均包括聚苯乙烯树脂膜层4、防静电颗粒层5、纳米防水层6和隔热涂料层。第一防护层与第二防护层的设置，加强了可见光高透滤光片的防护性能，聚苯乙烯树脂膜层4为一种拉伸强度很高的硬质透明薄膜，具有良好的成型加工的优点，为可见光高透滤光片提供了良好的外部隔热保护，防静电颗粒层5用于进行防静电处理，防止可见光高透滤光片静置待用时，因静电原因吸入沾粘杂质，造成后续滤光过程中滤光不便的问题，纳米防水层6采用EC-62本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可见光高透滤光片，包括基片（1），其特征在于，所述基片（1）的一侧设置有第一防护层，所述基片（1）的一侧设置有第二防护层，所述基片（1）与所述第一防护层之间设置有第一介质层（2），所述基片（1）与所述第二防护层之间设置有第二介质层（3），所述第一介质层（2）包括沿远离所述基片（1）的方向依次设置的12层第一低折射率膜，每两层所述第一低折射率膜之间设置有一层第一高折射率膜，所述第二介质层（3）包括沿远离所述基片（1）的方向依次设置的14层第二低折射率膜，每两层所述第二低折射率膜之间设置有一层第二高折射率膜；沿远离所述基片（1）的方向，前两层所述第一低折射率膜的厚度分别为94nm和45nm，最后一层所述第一低折射率膜的厚度为85nm，其余的所述第一低折射率膜的厚度为150nm，前两层所述第二低折射率膜的厚度分别为96nm和45nm，最后一层所述第二低折射率膜的厚度为75nm，其余的所述第二低折射率膜的厚度为150nm；距离所述基片（1）最近的所述第一高折射率膜的厚度为10nm，其余的所述第一高折射率膜的厚度为100nm，距离所述基片（1）最近的所述第二高折射率膜的厚度为7nm，其余的所述第二高折射率膜的厚度为100nm ；所述第一防护层与所述第二防护层均包括沿靠近所述基片（1）的方向依次设置的聚苯乙烯树脂膜层（4）、防静电颗粒层（5）和纳米防水层（6）。/n...

【技术特征摘要】
1.一种可见光高透滤光片，包括基片（1），其特征在于，所述基片（1）的一侧设置有第一防护层，所述基片（1）的一侧设置有第二防护层，所述基片（1）与所述第一防护层之间设置有第一介质层（2），所述基片（1）与所述第二防护层之间设置有第二介质层（3），所述第一介质层（2）包括沿远离所述基片（1）的方向依次设置的12层第一低折射率膜，每两层所述第一低折射率膜之间设置有一层第一高折射率膜，所述第二介质层（3）包括沿远离所述基片（1）的方向依次设置的14层第二低折射率膜，每两层所述第二低折射率膜之间设置有一层第二高折射率膜；沿远离所述基片（1）的方向，前两层所述第一低折射率膜的厚度分别为94nm和45nm，最后一层所述第一低折射率膜的厚度为85nm，其余的所述第一低折射率膜的厚度为150nm，前两层所述第二低折射率膜的厚度分别为96nm和45nm，最后一层所述第二低折射率膜的厚度为75nm，其余的所述第二低折射率膜的厚度为150nm；距离所述基片（1）...

【专利技术属性】
技术研发人员：张瑞麟，蔡林林，李江波，曹子玉，孙丹芳，汪平锋，
申请(专利权)人：利基光电科技九江有限公司，
类型：新型
国别省市：江西;36