一种单模光纤及其制造方法技术

一种制造单模光钎的方法，包括步骤： 形成具有芯部和第一复层的玻璃棒，所述第一复层的折射率低于所述芯部； 在所述第一复层上气相沉积形成第二复层； 对包含所述第一和第二复层的所述玻璃棒进行烧结产生玻璃预制棒；和 对所述玻璃预制棒进行拉伸产生光学纤维； 其中，所述第一复层部分直径Ｄ和所述芯部直径ｄ的比在４．０到８．０的范围，所述芯部、所述第一复层、和所述第二复层的ＯＨ浓度是０．１ｐｐｍ或更小。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于光通讯的单模光纤的制造方法。尤其是，本专利技术涉及一种在1380nm的波长范围具有低损耗和具有高抗氢性能的单模光钎的制造方法。光纤在1200到1600nm波长具有低损耗区，由于存在氢氧基离子(OH)而在1380nm波长范围存在高损耗峰。损耗峰是由形成光纤的材料造成的。用具有网状结构的硅玻璃制成的光纤，其中的SiO2以三维方式随意地结合在一起。当杂质或缺陷存在于网状结构中时，就出现新的结合和破坏。从而，这些因素造成光吸收。从这些光吸收中，可估计到1380nm波长的损耗可能是硅玻璃中存在的氢氧基离子(OH)造成的。因此，含有越多数量的氢氧基离子(OH)，1380nm波长出现的损耗越大。因为损耗峰较宽，在损耗峰两侧的波长范围不能用于光通讯。从实际的观点看来，如果在1380nm波长范围的损耗能够在0.31dB/km以下，光通讯可以在较宽的波长范围进行。在日本公开特许公报No.Hei 11-171575中介绍了OH造成的1380波长范围的损耗可以通过控制芯部/复层直径比(D/d比)，使之在一定范围内减少。通过采用日本公开特许公报No.Hei 11-171575公开的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：布目智宏，朽网宽，斋藤学，冈田健志，藤卷宗久，原田光一，
申请(专利权)人：株式会社藤仓，
类型：发明
国别省市：