一种头戴显示器中提高像质的光学系统技术方案

一种头戴显示器中提高像质的光学系统，涉及光学领域中头戴显示器提高像质的光学相关技术。本发明专利技术包括设于焦平面上的液晶显示器件所发出的光线经过分束镜后反射向凹面反射镜，光线经凹面反射镜反射，由出瞳处观察到成放大的虑像。本发明专利技术的主要点在于分束镜与出瞳之间设有透镜，该透镜可以是球面镜或非球面镜。本发明专利技术结构简单，对成像有一定放大率，可校正像差，提高像质。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学
，特别涉及头戴显示器提高像质的光学技术。
技术介绍
现有技术头戴显示器(HMD)的光学系统有两种方式，一种如图1所示，液晶显示器件11中的图像发出的由分束镜12反射射向凹面反射镜13，经凹面反射镜及放大，人眼在出瞳4处观察到经放大的虚像。另一种如图2所示，液晶显示器件21中的图像的光线经过一个透镜22再通过分束镜23反射射向凹面反射镜24，放大后形成的虚像透过分束镜在出瞳5被人眼观察。在头戴显示器中(HMD)领域，人们希望它有较大的视场角和出瞳直径，现有技术为达到此目的，一般是通过减小光学系统的焦距(即减小凹面反射镜中的半径)和增大光学系统的口径(即增大凹面反射镜的口径)。但这两种方法不能任意的减小焦距和增大口径，因为当达到一定程度后液晶显示器件会挡住光路；另一方面现有的光学系统技术存在有校正像差，影像放大，提高像质等方面存在有不足。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是针对以上现有技术的不足，设计一种结构简单，具有一定放大率、可校正像差，提高像质的头戴显示器中提高像质的光学系统。本专利技术技术的解决方案为一种头戴显示器光学系统中提高像质的方法，包括设于焦本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种头戴显示器光学系统中提高像质的方法，包括设于焦平面上的液晶显示器件（１）所发出的光线经过分束镜（２）后反射向凹面反射镜（３），光线经凹面反射镜反射，由出瞳（４）处观察到成放大虚像，其特征在于，在分束镜（２）与出瞳（４）之间设有透镜（６）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：何军，
申请(专利权)人：深圳市东方景电子有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]