光罩和显示面板制造技术

本申请涉及显示领域，一种用于图案化涂布负性光阻剂基板的光罩。所述光罩包括图案区和光洁区，所述图案区靠近所述光洁区一侧设有走线区，对应到所述基板的绑定区。所述走线区内设多根并排的走线，对应到所述基板的金属线。所述光罩上每一根所述走线与所述光洁区之间均为间隙设置，且所述走线与所述光洁区之间还连接有导通段，用于平衡所述第一端与所述光洁区之间的电势。所述导通段还通过宽度设定来保证光罩在照射过程中，其对应所述基板下方的材料经过光线衍射而被照射，后续刻蚀过程中材料得以保留。本申请光罩克服了走线区内走线的ESD损害，由本申请光罩制作的基板也可以克服绑定区内金属线的ESD损害。

【技术实现步骤摘要】
光罩和显示面板
本申请涉及显示面板领域，尤其涉及一种用于制备基板的光罩。
技术介绍
现今的终端领域，为了追求窄边框的效果，终端显示面板上的金属走线需要更窄的线宽和间距。但在显示面板的制造过程中，随着金属走线的变窄，其制造工艺也更精细，由此带来的加工难度会更大。例如，在显示面板的基板进行光刻制造时，用于图案化的光罩需要对应更窄的金属走线，加剧了光罩以及基板受到静电损害(ESD)的可能性。负性光阻剂是光刻制程中常用的材料，基板先覆盖光罩进行照射，然后通过负性光阻剂将基板上未被照射的部位通过显影刻蚀去除。为了防止基板材料在制程过程中被ESD击伤，通常将基板材料上所有的金属线在绑定区连成一体，形成等势体。但是，这样的设置会导致光罩上对应绑定区的金属形成一个孤立的单体。在生产过程中，光罩上的金属与光罩外围无图案的光洁区金属之间因为静电而形成电势差，较窄的金属线容易因为电势差产生的放电而脱落，造成光罩和基板材料的报废，严重增加生产成本。
技术实现思路
本申请提出一种光罩，以克服光罩金属走线与光洁区的电势差缺陷。本申请所述光罩包括如下技术方案：一种光罩，所述光罩用于图案化涂布负性光阻剂的基板，所述光罩包括均由导电材料制备的图案区和围设于所述图案区外围的光洁区，所述图案区靠近所述光洁区一侧设有走线区，所述走线区内设多根并排的走线，所述走线区用于制备所述基板的绑定区，所述走线用于制备所述绑定区内的金属线，每一根所述走线均包括靠近所述光洁区的第一端，所述第一端与所述光洁区之间间隙设置，每一个所述第一端与所述光洁区之间还连接有导通段，所述导通段用于平衡所述第一端与所述光洁区之间的电势，所述导通段的宽度小于等于5μm，且大于等于1μm。本申请所述光罩，利用走线区对应到基板上的绑定区，并利用走线区内的多根并排走线来对应绑定区内的金属线，使得所述光罩可以通过光刻制程来对基板进行图案化，形成绑定区和金属线。然后，本申请光罩通过连接于间隙设置的每根走线第一端和光洁区之间的导通段，来导通走线和光洁区，从而消除了每一根走线与光洁区之间的电势差。而导通段因为宽度限制，在起到电势平衡的同时，还利用光的衍射原理，使得导通段下方的基板材料同样可以受到光线照射，从而使得该部分材料在后续负性光阻剂的刻蚀过程中得到保留。被保留的材料保证了各根金属线在第一端的位置连为一体，同样可以达到类似平衡电势的作用，基板材料也免于受到ESD损害。由此，本申请光罩可以在避免自身受到ESD损害的同时，保护基板材料也免受ESD损害，提高了光罩的使用寿命，同时提高了基板的良品率，节约制造成本。其中，所述导通段至少包括一处弯折段。弯折段可以延阻负性光阻剂的流通，保护基板上材料不被刻蚀去除。其中，所述弯折段的轮廓形状为圆滑曲线，以避免所述导通段上出现应力集中点，提高导通段结构强度。其中，所述导通段包括第一弯折段和第二弯折段，所述第一弯折段与所述第二弯折段连接且弯折方向相反。方向相反的两处弯折段设置可以进一步延阻负性光阻剂的流通。其中，所述第一端与所述光洁区之间并排设置有多个所述导通段。多个导通段可以实现更好的电势平衡，提高可靠性。其中，所述导通段包括相对的第一导通端和第二导通端，所述第一导通端与所述光洁区连接并导通，所述第二导通端与所述第一端连接并导通，且所述第一导通端的宽度小于所述第二导通端的宽度。宽度的设置用以匹配光罩与基板之间的间隙，保证照射光的衍射效果。其中，在沿所述第一导通端至所述第二导通端的延伸路径上，所述导通段的形状为平滑曲线。平滑曲线的形状可以提高导通段的结构强度，避免应力集中点。其中，所述光罩在制备所述基板时，所述光罩与所述基板之间存在贴合间隙，所述导通段沿所述第一导通端至所述第二导通端的延伸路径上任意截面处的宽度尺寸与所述贴合间隙的尺寸满足1:4的比例关系。导通段宽度尺寸与贴合间隙的搭配，可以保证光的衍射效果，使得导通段两侧的光线都能透过导通段向下方的基板材料实现衍射，且保证足够厚度的材料能够受到照射。其中，所述导通段的材料与所述光罩的材料相同。导通段可以与光罩一体设置，有利于保证导通段的精度和光罩的整体结构强度。本申请还涉及一种显示面板，包括基板，所述基板由上述的光罩制备。可以理解的，经由本申请光罩制作的基板，具备了更高的良品率，同时降低了耗材成本，可靠性更高。附图说明图1是本申请所述光罩的结构示意图；图2是本申请所述基板的结构示意图；图3是本申请所述光罩的局部结构示意图；图4是本申请所述光罩在光照制程中的示意图；图5是本申请另一实施例中所述光罩的示意图；图6是本申请另一实施例中光照制程中的示意图。具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本申请保护的范围。请参阅图1所示的本申请光罩100以及图2所示的由本申请光罩100制备的基板200。光罩100采用负性光阻剂以图案化基板200。负性光阻剂是用于将基板200上未经过照射的部分通过刻蚀去除，因此光罩100掩膜于基板200上进行照射时，光罩100的图案部分即对应到基板200在刻蚀中需要去除材料的部分。即光罩100与制作完成的基板200之间的图案相反。基板200包括有显示区210和绑定区220。显示区210内的各金属线230汇集于绑定区220中，金属线230在绑定区220内与外界导通，用于实现基板200的信号接入功能。进一步，多根并排设置的金属线230在绑定区220的边缘位置通过一根连续的导通线231连通，成为一体的结构。这样可以平衡多根金属线230之间的电势，避免金属线230因为电势不均而受到ESD损害。即导通线231使得绑定区220内的多根金属线230连接形成了等势体。相对应的，光罩100包括图案区10和围设于图案区10外围的光洁区20。图案区10与光洁区20均为导电材料制备。图案区10即对应到基板200需要去除材料的部分，形成基板200的显示区210、绑定区220以及显示区210和绑定区220内的金属线230。光洁区20围设于图案区10的外围，光洁区20上没有图案，光洁区20用于保护图案区10，且光洁区20用于提供用户夹持、移动光罩的接触面，避免用户直接接触图案区10，造成图案区10内的图案受损。图案区10靠近光洁区20一侧设有走线区30。走线区30内设多根并排的走线31。走线区30的位置对应到基板200的绑定区220区域，而走线区30内的多根并排走线31即对应到绑定区220内的多根金属线230的轮廓间隔部位的图案。由此，走线31形成了基板200的金属线230之间的间隙，在光罩100掩膜于基板200上进行照射后，走线31因为阻挡了金属线230之间的间隙受到光线照射，而使得金属线230之间的间隙屏蔽了光照效果。后续通过负性光本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光罩，所述光罩用于图案化涂布负性光阻剂的基板，其特征在于，所述光罩包括均由导电材料制备的图案区和围设于所述图案区外围的光洁区，所述图案区靠近所述光洁区一侧设有走线区，所述走线区内设多根并排的走线，所述走线区用于制备所述基板的绑定区，所述走线用于制备所述绑定区内的金属线，每一根所述走线均包括靠近所述光洁区的第一端，所述第一端与所述光洁区之间间隙设置，每一个所述第一端与所述光洁区之间还连接有导通段，所述导通段用于平衡所述第一端与所述光洁区之间的电势，所述导通段的宽度小于等于5μm，且大于等于1μm。/n

【技术特征摘要】
1.一种光罩，所述光罩用于图案化涂布负性光阻剂的基板，其特征在于，所述光罩包括均由导电材料制备的图案区和围设于所述图案区外围的光洁区，所述图案区靠近所述光洁区一侧设有走线区，所述走线区内设多根并排的走线，所述走线区用于制备所述基板的绑定区，所述走线用于制备所述绑定区内的金属线，每一根所述走线均包括靠近所述光洁区的第一端，所述第一端与所述光洁区之间间隙设置，每一个所述第一端与所述光洁区之间还连接有导通段，所述导通段用于平衡所述第一端与所述光洁区之间的电势，所述导通段的宽度小于等于5μm，且大于等于1μm。


2.如权利要求1所述光罩，其特征在于，所述导通段至少包括一处弯折段。


3.如权利要求2所述光罩，其特征在于，所述弯折段的轮廓形状为圆滑曲线，以避免所述导通段上出现应力集中点。


4.如权利要求3所述光罩，其特征在于，所述导通段包括第一弯折段和第二弯折段，所述第一弯折段与所述第二弯折段连接且弯折方向相反。


5.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：王平，谢邦星，许建勇，
申请(专利权)人：南昌欧菲触控科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36