一种基于光栅投影识别的二维平面位移测量装置制造方法及图纸

一种基于光栅投影识别的二维平面位移测量装置的结构涉及高精密数字化位移测量技术，解决现有测量技术中，光路复杂、测量分辨力低，且不易于工业现场应用等缺点。该结构包括：二维光栅、读数头、光源和安装板；二维光栅安装在安装板内，安装板上设有安装孔；读数头和光源分别相对应的安装在二维光栅的上下两侧。本发明专利技术免于使用成像透镜时体积大、结构复杂等影响，具有结构简单、体积小、便于应用的优点。与二维编码的光栅配合时，能够实现高分辨力和高精度的二维位移量测量，满足我国日益发展的工业需求，具有重要的应用价值。直接将图像传感器贴近二维标定光栅，免去成像透镜的复杂光路结构，基于图像处理算法，提高了二维位移量测量的分辨能力。

【技术实现步骤摘要】
一种基于光栅投影识别的二维平面位移测量装置
本专利技术涉及高精密数字化位移测量技术，具体涉及一种基于光栅投影识别的二维平面位移测量装置。
技术介绍
光电位移测量技术是一种集光、机、电于一体化的高精密数字化位移测量技术，以其测量精度高、测量范围广、抗干扰性强、易于实现大量程测量等优点，成为工业制造、航空航天、军事装备等领域的关键技术。伴随超精密加工设备、大量程数控机床等设备的研制，传统一维测量技术已经不能满足日益发展的测量需求，迫切需要研制高分辨力、高精度的二维位移测量技术。基于图像处理算法实现绝对位移测量是目前的一种新型测量手段。通过研究发现，由于获取了像素阵列的信息，能够基于亚像素算法较传统测量方法更易于实现高准确度和高倍的位移细分。因此研究图像式直线位移测量技术，是实现高精度和高分辨力测量的必要手段。但是根据分析，目前的研究中虽然采用成像透镜放大成像易于提升测量分辨力，但会使体积增大，并且易受震动、虚焦等影响。同时，基于成像透镜的二维位移量测量方法的结构复杂，不利用实际应用。现有的二维位移测量技术主要是基于衍射光栅的干涉测量本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于光栅投影识别的二维平面位移测量装置的结构，其特征在于，该结构包括：二维光栅、读数头、光源和安装板；所述二维光栅安装在所述安装板内，安装板上设有安装孔；所述读数头和光源分别相对应的安装在所述二维光栅的上下两侧，形成对照关系。/n

【技术特征摘要】
1.一种基于光栅投影识别的二维平面位移测量装置的结构，其特征在于，该结构包括：二维光栅、读数头、光源和安装板；所述二维光栅安装在所述安装板内，安装板上设有安装孔；所述读数头和光源分别相对应的安装在所述二维光栅的上下两侧，形成对照关系。


2.根据权利要求1所述的一种基于光栅投影识别的二维平面位移测量装置的结构，其特征在于，所述二维光栅通过所述安装板上的边框与所述安装板紧密固定。


3.根据权利要求1所述的一种基于光栅投影识别的二维平面位移测量装置的结构，其特征在于，所述读数头包括：读数头支架、图像传感器、两个读数头磁吸和数据输出连接器；所述读数头支架呈倒U字形状，所述图像传感器位于所述读数头支架的凹槽内；所述两个读数头磁吸分别位于所述读数头支架的两个支腿下方；所述数据输出连接器与所述图像传感器连接，将所述图像传感器采集的数据输出。


4.根据权利要求3所述的一种基于光栅投影识别的二维平面位移测量装置的结构，其特征在于，所述读数头支架的顶部设有读数头安装孔，所述数头支架通过所述读数头安装孔与外部设备的移动端相连接。


5.根据权利要求1或3所述的一种基于光栅投影识别的二维平面位移测量装置的结构，其特征在于，所述图...

【专利技术属性】
技术研发人员：于海，万秋华，赵长海，杜颖财，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：吉林;22