用来确定物体微起伏和表层的光学性质的方法、一种用于该方法实现的调制显微镜技术

本发明专利技术涉及光学工程，特别涉及测量近表面层的光学材料常数微起伏和分布的方法，并且能够用于微电子工程、纳米技术、材料科学、医学、和生物学。本发明专利技术的目标是提高测量光学材料的起伏和分布的几何参数的空间分辨率、扩展包括光学各向异性常数的确定常数的范围、显著提高材料常数确定的精度、以及扩展研究的物体的数量。本发明专利技术公开了用于测量近表面层的微起伏以及光学特性的方法，以及用于实行所述方法的调制干涉显微镜。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学，具体地说，涉及用来确定物体表层的光学材料常数的微起伏和分布的方法，并且能用于在微电子、纳米技术、材料科学、医学、和生物学中的研究。一种用来观看物体微起伏的方法是已知的，该方法包括步骤把微物体场曝光于一种相干、单色辐射，并且把从物体反射的辐射转换成与图像点相对应的电信号(USSR作者证书No 1734066，Int.Cl.G02B 21/00，1992)。这种方法允许达到显著超过传统振幅显微镜的分辨率极限。然而，它允许仅对于是单一材料并且具有简单几何形状的少量较简单物体得到较高空间分辨率。所述方法的缺点如下-在物体表面处具有不同光学参数的材料存在的情况下，即使用中等分辨率也不可能合理地译码物体相位图像。-不可能研究微物体表层的光学材料常数的高度有益分布。一种微型椭率计是已知的，它允许进行用来确定物体微起伏和表层光学特征的一种方法(Interferometrical Profilometry atSurfaces with Varying Materials，H.Jennewein，H.Gottschling，T.Ganz and T.Tschudi，Proce本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用来确定物体微起伏和表层光学性质的方法，该方法包括步骤：进行一种偏振调制：把一个输入相干、单色偏振光通量分离成一个经显微透镜曝光物体场的物体光束、和一个基准光束；进行基准光束的相位调制；进行光束的干涉混合；抽取两个相互正交的偏振分量，并且得到一个干涉图；定位所述干涉图的最小碎块（象素）；把所述碎块的平均照亮度转换成相应电信号（调制信号）；测量调制信号的可变分量的相位和振幅及恒定分量的一个值；计算从物体束落到象素上的光的相位、振幅及偏振参数；及计算物体微起伏和物体表层的光学材料常数，其特征在于该方法包括步骤：与把光通量分离成物体和基准束的步骤的同时，进行在这些束之间的光通量强度的受控制重新分...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：弗拉基米尔安德列维奇安德列夫，康斯坦丁瓦西里耶维奇英杜卡耶夫，巴维尔亚里别尔托维奇奥西波夫，
申请(专利权)人：阿姆弗拉实验室有限责任公司，
类型：发明
国别省市：RU[俄罗斯]