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本发明涉及光学工程，特别涉及测量近表面层的光学材料常数微起伏和分布的方法，并且能够用于微电子工程、纳米技术、材料科学、医学、和生物学。本发明的目标是提高测量光学材料的起伏和分布的几何参数的空间分辨率、扩展包括光学各向异性常数的确定常数的范围...
该专利属于阿姆弗拉实验室有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过阿姆弗拉实验室有限责任公司授权不得商用。

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