补偿空间色散的光学系统技术方案

一种用于补偿空间色散的光学系统，包括一光轴（１０）、沿该光轴至少配置了一第一和第二光学元件（１１，１７，１９，２６），其中第一元件相对光轴（１０）具有第一取向，第二光学元件（１２，１８，２０，２７）相对光轴（１０）具有第二取向，其特征在于，至少可对第一光学元件（１１，１７，１９，２６）和／或第二光学元件（１２，１８，２０，２７）相对光轴径向对称地施加压力（σ，σ１，σ２），以补偿空间色散。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于补偿空间色散的光学系统，包括光轴、相对光轴具有第一取向的第一光学元件，和相对光轴具有第二取向的第二光学元件，其中第二取向相对第一取向绕光轴转动一角度。
技术介绍
用于光学系统例如物镜、透镜、棱镜以及由几个这样的部分或元件构成的装置材料是光各向同性的，也就是说，透过的光束应该沿所有方向与其偏振无关地同样地向前传播。一个典型的标志是在同一材料中不同的快速传播，如在许多晶体上的双重折射。传统上通常的立方晶体确实没有双重折射。但是那些短波光是光各向异性。这显示出了空间色散的效果，和各自晶体的本质特征。在光学系统中由于所利用的物质如立方晶体而产生的空间色散，称为延迟，也就是指，波前分开运行，带来不必要的干涉效应。例如，用于微光刻技术的物镜的散射限制，其中不必要的干涉效应影响了成像的功能。在微光刻技术应用了短波光，例如光的波长λ＝157nm。在光学系统中，对短波辐射位于紫外线区域的材料提出了高的要求。不适当的材料遭到短波射线的损坏。基于这种原因，就用于微光刻技术的光学系统的材料而言，首选使用CaF2，这同样相对短波长，也就是说，高能量辐射，提供足够传输。根据J.H.Bu本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：K·纳特曼，E·默森，
申请(专利权)人：肖特股份有限公司，
类型：发明
国别省市：