【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种薄膜及其制备方法，具体来说是一种反光膜及其制备方法。
技术介绍
目前，用于太阳能反光材料的一般是在玻璃基体上镀铝膜、银膜，也有在涤纶上面镀铝薄膜再加上保护薄膜的反光材料。它们的主要缺点是酎磨性能较差，寿命短。现在利用CVD法制备ZrN、TiN等工艺，其主要缺点是其沉积温度高，工艺参数复杂且不易重复。
技术实现思路
为了解决现有反光材料及其制备方法中存在的以上所述的缺点，本专利技术的目的是提供，具体的，所述的新型反光膜材料是氮化锆，所述的反光膜制备方法是用磁控溅射的方法，在所述的磁控溅射方法中反应气体采用氮气，靶材料是锆，基体的加热温度在200℃-450℃之间，所述的基体为陶瓷，在所述的基体上施加负50V-负300V的偏压。进一步的，所述的基体为玻璃，所述的基体为合金材料，所述的基体为高分子材料，所述的高分子材料耐温300℃。本专利技术所述新型材料的有益效果是本专利技术提出这种新型的反光材料具有工艺简单，成本低廉，物理性能及化学性能稳定，机械性能良好以及镜反射率高，寿命长等特点。用它作太阳能聚光装置的反光面，如太阳灶，太阳炉，聚光的光电池的反光面等室外使用的装置，其使用寿命比现有的可提高一倍至数倍。具体实施例方式，具体的，所述的新型反光膜材料是氮化锆，所述的反光膜制备方法是用磁控溅射的方法，在所述的磁控溅射方法中反应气体采用氮气，靶材料是锆，基体的加热温度在200℃-450℃之间，所述的基体为陶瓷，在所述的基体上施加负50V-负300V的偏压。进一步的，所述的基体为玻璃，所述的基体为合金材料，所述的基体为高分子材料，所述的高分子材料耐温30...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吴贺然，
申请(专利权)人：上海纯青实业有限公司，
类型：发明
国别省市：
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