用于确定辐射在样品平面中的合成功率的方法和光学布置技术

本发明专利技术涉及一种确定在光学布置的样品平面(8)中的辐射的合成功率的方法。步骤A中，捕获在光学布置的束路径中的光学元件的当前配置。步骤B中，提供辐射且将辐射沿着所述束路径引导到样品平面(8)中。步骤C中，捕获在样品平面(8)中的辐射的功率的至少一个测量值作为合成功率；以及步骤D中，存储与所相应的当前配置相关的测量值。对于至少一个其他当前配置，重复步骤A至D。此外，本发明专利技术还涉及一种确定在样品平面(8)中的辐射的合成功率的光学布置。

【技术实现步骤摘要】
用于确定辐射在样品平面中的合成功率的方法和光学布置
本专利技术涉及用于确定在光学布置的样品平面中的辐射的合成功率的方法和光学布置。特别地，本专利技术涉及显微镜，其中出于成像目的，通过电磁辐射来激发样品中待成像或待观察的部分。为了能够获得高质量的图像数据，发射到样品中的辐射功率(辐射通量)必须足够高才能触发所需的效果。同时，功率一定不能太高，以防止样品被损坏或甚至破坏。
技术介绍
为了实现对样品平面中的功率的这样的监控，现有技术已经公开了光传感器，其被安装在诸如显微镜的光学布置中，例如以便监控激发功率且在必要时还通过适当的闭环控制装置来控制该激发功率。作为示例，这样的传感器可以直接地安装在使用的光源中，使得光源的输出功率可以保持恒定。但是，仍然存在随后元件的传输率未知的问题。因此，不可能以有目标的方式在样品或样品平面中设定剩余的激发功率，下面还称为合成功率。在图1中提供了显微镜10、特别是激光扫描显微镜的概览型示意图。当需要时，多个光源1a至1d(激光器A至激光器D)各自可使用形式为激光光的辐射。在此，可以分别地(参见光源本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种方法，用于确定在光学布置的样品平面(8)中的辐射的合成功率，所述方法包括：/n-步骤A中：捕获在所述光学布置的束路径中的光学元件的当前配置；/n-步骤B中：提供辐射且将所述辐射沿着所述束路径引导到所述样品平面中；/n-步骤C中：捕获在所述样品平面(8)中的所述辐射的功率的至少一个测量值作为合成功率；/n-步骤D中：存储与所述当前配置相关的所述测量值；以及/n-对于至少一个其他当前配置，重复步骤A至D。/n

【技术特征摘要】
20190617 DE 102019208760.41.一种方法，用于确定在光学布置的样品平面(8)中的辐射的合成功率，所述方法包括：
-步骤A中：捕获在所述光学布置的束路径中的光学元件的当前配置；
-步骤B中：提供辐射且将所述辐射沿着所述束路径引导到所述样品平面中；
-步骤C中：捕获在所述样品平面(8)中的所述辐射的功率的至少一个测量值作为合成功率；
-步骤D中：存储与所述当前配置相关的所述测量值；以及
-对于至少一个其他当前配置，重复步骤A至D。


2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于存储的测量值来确定所述辐射的合成功率和输出功率之间的关系，并且将所述关系存储并分配给所述至少一个配置。


3.根据权利要求1和2中任一项所述的方法，其特征在于，选择在要使用的配置的所述样品平面(8)中的期望的合成功率，并且通过适当地生成的控制命令，基于存储的测量值或基于所述关系来设定所述辐射的输出功率，这借助于所述辐射的辐射源(1a至1d)和/或在所述束路径中设置的衰减器(2a，2b)被驱动使得在所述样品平面(8)中产生选择的期望的合成功率来进行。


4.根据权利要求1至3中...

【专利技术属性】
技术研发人员：W巴思，
申请(专利权)人：卡尔蔡司显微镜有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE