含有保护遮罩的加热单元、炉管装置与其清洗方法制造方法及图纸

提供一种含有保护遮罩的加热单元、炉管装置与其清洗方法。此加热单元包含加热元件与保护遮罩，且保护遮罩覆盖加热元件的顶表面。其中，保护遮罩包含多个保护件及多个结合件。保护件具有多个结合孔，且保护件的顶表面具有至少一贯穿开口。结合件是配置以透过结合孔来结合保护件的相邻二者。结合件包含第一端部与第二端部，第一端部插设于相邻二个保护件的一者的结合孔，且第二端部插设于相邻二个保护件的另一者的结合孔。

【技术实现步骤摘要】
含有保护遮罩的加热单元、炉管装置与其清洗方法
本揭露是有关一种加热单元，且特别是提供一种炉管装置的加热单元与此炉管装置的清洗方法。
技术介绍
为了呈现出不同的半导体特性，可通过导入气体，以修饰晶圆，或于硅晶圆上堆叠不同薄膜层，以满足应用需求。晶圆的修饰与薄膜层的形成一般可利用气体与晶圆表面间的反应来达成。首先，将晶圆放置于炉管中，再导入反应气体至炉管中，并依据需求设定炉管的压力与温度等参数，以诱发气体分子与硅晶圆表面间产生反应，来修饰晶圆表面，或沉积形成不同薄膜层于晶圆上。
技术实现思路
根据本揭露的一态样，提出一种加热单元。此加热单元包含加热元件及保护遮罩，且保护遮罩是覆盖于加热元件的顶表面。其中，保护遮罩包含多个保护件与多个结合件。每一个保护件具有多个结合孔，且每一个保护件的顶表面具有至少一个贯穿开口。每一个结合件是配置以透过结合孔来结合此些保护件的相邻二者。根据本揭露的另一态样，提供一种炉管装置。此炉管装置包含壳体、炉管与晶舟组件。炉管是设置于壳体中，且晶舟组件设置于炉管中。晶舟组件包含承载部、转轴与前述的加热单元。转轴是连接承载部，且此转轴是配置以转动承载部。加热单元的保护遮罩设置于承载部与加热单元的加热元件之间，且转轴穿设此加热单元。根据本揭露的又一态样，提出一种炉管装置的清洗方法。此清洗方法是先提供炉管装置。此炉管装置包含壳体、炉管与晶舟组件。炉管是设置于壳体中，且晶舟组件设置于炉管中。晶舟组件包含承载部、晶舟加热元件与转轴。晶舟加热元件设置于承载部的下方。转轴连接承载部，并配置以转动承载部，其中转轴穿设晶舟加热元件。然后，提供保护遮罩。保护遮罩包含多个保护件与结合件。每一个保护件具有至少一贯穿开口与多个结合孔，且每一个结合件是配置以透过此些结合孔来结合相邻的二个保护件。接着，从炉管移出晶舟组件，覆盖保护遮罩的保护件于晶舟加热元件的上表面上，并以结合件结合保护件，其中转轴穿设保护遮罩。于结合保护件后，移动晶舟组件至炉管中，并通入清洗气体至炉管装置的炉管中，以进行清洗制程。附图说明从以下结合所附附图所做的详细描述，可对本揭露的态样有更佳的了解。需注意的是，根据业界的标准实务，各特征并未依比例绘示。事实上，为了使讨论更为清楚，各特征的尺寸可任意地增加或减少。图1A是绘示根据本揭露的一些实施例的加热单元的立体示意图；图1B是绘示根据本揭露的一些实施例的加热单元的侧视示意图；图1C是绘示根据本揭露的一些实施例的加热元件的保护件的俯视示意图；图1D是绘示根据本揭露的一些实施例的加热元件的保护件的仰视示意图；图1E是绘示根据本揭露的一些实施例的加热元件的结合件的侧视示意图；图1F是绘示根据本揭露的一些实施例的保护件的贯穿开口与结合孔的俯视示意图；图2A是绘示根据本揭露的一些实施例的加热单元的立体示意图；图2B是绘示根据本揭露的一些实施例的加热单元的侧视示意图；图3是绘示根据本揭露的一些实施例的加热单元的立体示意图；图4A至图4D分别是绘示根据本揭露的一些实施例的炉管装置的清洗方法中，装配保护遮罩至炉管装置的各阶段的剖视示意图；图5是绘示根据本揭露的一实施例的炉管装置的清洗方法的流程示意图；图6是绘示根据本揭露的另一实施例的炉管装置的清洗方法的流程示意图。【符号说明】100/200/300：加热单元110/210/310/411/413/437：加热元件120/220/320：保护遮罩120a：穿孔121/123/221/223/321/323/325/327：保护件121a/123a/221a/223a/321a/323a/325a/327a：顶表面121b/123b/221b/223b：侧面121c/123c/221c/223c：底表面123d：凹陷部131a/131b/231a/231b/331a/331b/331c/331d：贯穿开口133a/133b/233a/233b/333a/333b/333c/333d：结合孔135a/135b/235a/235b/335b/335c/335d：间隔结构140/240/340：结合件141：延伸部143/155：端部400：炉管装置410：壳体420：炉管421：管体421a：固设平台423：排气部430：晶舟组件431：承载部433：承载台433a：升降杆435：转轴437a：穿孔437b：支架450：进气管450a：进气口461：排气管463：旁通管471/473：气体阀门控制器471a/471b/473a：管路475：泵浦475a：排出管500/600：方法510/520/530/540/610/620/630/641/643/645/647：操作640：清洗制程D1/D2：方向d1/d2：距离具体实施方式以下的揭露提供了许多不同的实施例或例子，以实施专利技术的不同特征。以下所描述的构件与安排的特定例子是用以简化本揭露。当然这些仅为例子，并非用以做为限制。举例而言，在描述中，第一特征形成于第二特征上方或上，可能包含第一特征与第二特征以直接接触的方式形成的实施例，而也可能包含额外特征可能形成在第一特征与第二特征之间的实施例，如此第一特征与第二特征可能不会直接接触。此外，本揭露可能会在各例子中重复参考数字及/或文字。这样的重复是基于简单与清楚的目的，以其本身而言并非用以指定所讨论的各实施例及/或配置之间的关系。另外，在此可能会使用空间相对用语，以方便描述来说明如附图所绘示的一元件或一特征与另一(另一些)元件或特征的关系。除了在图中所绘示的方向外，这些空间相对用词意欲含括元件在使用或操作中的不同方位。设备可能以不同方式定位(旋转90度或在其他方位上)，因此可利用同样的方式来解释在此所使用的空间相对描述符号。当进行晶圆修饰或形成薄膜层的步骤时，虽然气体分子可与晶圆间产生反应变化，但气体分子亦会沉积于腔体或炉管的内壁与其中各组件的表面上，而形成沉积污染物，因此降低腔体或炉管的清洁度。在进行多次的操作后，炉管内壁和其内部元件上所积聚的沉积污染物会越积越多，这些沉积污染物若不加以去除，很可能会受热而成为微粒，因而影响制程良率和产品的稳定性。因此，必须周期性地对炉管进行清洗制程，以去除上述的沉积污染物。炉管清洗制程是将清洗气体通入至炉管内部，以去除沉积污染物。在清洗制程中，虽然清洗气体可去除(蚀刻)沉积污染物，但炉管中的加热元件亦会被蚀刻，而暴露出埋设于其中的加热线圈，因而降低加热元件的使用寿命。因此，本揭露揭示一种含有保护遮罩的加热单元与含有此加热单元的炉管装置，其中通过设置本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种含有保护遮罩的加热单元，其特征在于，该加热单元包含：/n一加热元件；以及/n一保护遮罩，覆盖该加热元件的一顶表面，其中该保护遮罩包含：/n多个保护件，其中每一所述保护件具有多个结合孔，每一所述保护件的一顶表面具有至少一贯穿开口；以及/n多个结合件，其中每一所述结合件是配置以透过所述多个结合孔来结合所述多个保护件的相邻二者。/n

【技术特征摘要】
1.一种含有保护遮罩的加热单元，其特征在于，该加热单元包含：
一加热元件；以及
一保护遮罩，覆盖该加热元件的一顶表面，其中该保护遮罩包含：
多个保护件，其中每一所述保护件具有多个结合孔，每一所述保护件的一顶表面具有至少一贯穿开口；以及
多个结合件，其中每一所述结合件是配置以透过所述多个结合孔来结合所述多个保护件的相邻二者。


2.根据权利要求1所述的含有保护遮罩的加热单元，其特征在于，所述多个保护件的所述贯穿开口的一总开口面积对该保护遮罩的一顶表面积的一比值是实质介于5％至10％之间。


3.根据权利要求1所述的含有保护遮罩的加热单元，其特征在于，所述多个保护件不紧密接触。


4.根据权利要求1所述的含有保护遮罩的加热单元，其特征在于，每一所述保护件还包含至少一间隔结构，该至少一间隔结构设于每一所述保护件与该加热元件之间，以使每一所述保护件与该加热元件相距一距离。


5.根据权利要求4所述的含有保护遮罩的加热单元，其特征在于，每一所述结合件包含：
一第一端部，插设于该相邻二者中的一者的所述多个结合孔的一者中；以及
一第二端部，插设于该相邻二者中的另一者的所述多个结合孔的一者中。


6.根据权利要求1所述的含有保护遮罩的加热单元，其特征在于，每一所述保护件与每一所述结合件均是由石英材料所制成。


7.一种炉管装置，其特征在于，该炉管装置包含：
一壳体；
一炉管，设置于该壳体中；以及
一晶舟组件，设置于该炉...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡宣志，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71