生产由聚合物材料组成的透明光学元件的方法和模具技术

本发明专利技术涉及生产由聚合物材料构成的透明光学元件的方法和模具。由此生产的所述光学元件应该至少具有表现出界面反射降低的表面区域。根据本发明专利技术，由聚合物材料构成的基准元件的对应于各个光学元件的整个表面或适当选择的表面区域在真空中暴露在高能离子作用下。这在对应表面上形成具有交错的隆起和凹陷的不规则纳米结构。随后涂覆薄导电层并且进行电镀成型以得到具有被纳米结构覆盖的阴模轮廓的模具。随后在成型过程中使用所述模具生产光学元件，所述成型过程通过降低界面反射的纳米结构而实现。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及由聚合物材料生产透明光学元件的方法和模具。这样生产的光学元件试图在至少一个表面上、至少在某些区域内实现界面反射减少。由聚合物材料制成的这种光学元件日益频繁地用于广泛的应用中。在这些应用中，反射导致的损失是不希望的，并且在这些光学元件表面反射导致不能使用的电磁辐射比例应保持得尽可能低。因此，致力于使该比例≤4％/单位面积，优选≤1％/单位面积。过去已经采用了多种方法来解决该问题。例如，已知在光学元件表面上形成层状体系，其由若干薄膜相互叠层排布而形成，通常称为交错层状体系。该层状体系的应用成本高昂，也导致透射下降，并且不能消除这种层状体系在光学元件表面上的粘着问题。由于该层状体系通常可利用本身已知的PVD或CVD加工技术在真空中形成，因此，大批量生产该光学元件伴随相应的高成本。选择用来降低电磁辐射的反射比例的另一方法是在将被制成非反射性的相应表面上形成所谓motheye结构的微结构。例如A.Gombert和W.Glaubitt在Thin solid film351(1999)，73-78页中和D.L.Brundrett，E.N.Glysis，T.K.Gaylord在A本文档来自技高网...

【技术保护点】
生产透明光学元件的方法，所述光学元件表面至少在某些区域内具有降低的界面反射，其中由聚合物材料构成并对应于各光学元件的基准元件的各表面在真空中暴露在高能离子作用下，这样，在各表面上形成具有交错排布的隆起和位于隆起之间的凹陷的不 规则纳米结构；随后，各表面涂覆导电薄膜，其后，通过电化学成型得到具有由纳米结构所叠置的阴模轮廓的模具，并且利用所述模具，在透明光学元件的至少一个表面上通过模制方法形成降低界面反射的纳米结构。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：乌尔丽克舒尔茨，彼得蒙策尔特，诺贝特凯泽，维尔纳霍夫曼，梅尔廷比策，马里恩格布哈特，
申请(专利权)人：弗兰霍菲尔运输应用研究公司，菲涅耳光学有限公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]