532纳米波长的高密度深刻蚀石英透射偏振分束光栅制造技术

一种５３２纳米波长的高密度深刻蚀石英透射偏振分束光栅，该光栅的周期为３９５－４１２纳米、刻蚀深度为１．５８０－１．６３０微米，光栅的占空比为１／２。其ＴＥ偏振光和ＴＭ偏振光分别在０级和１级透射，该偏振分束光栅的消光比大于１００，ＴＥ偏振光的０级透射衍射效率和ＴＭ偏振光的１级透射衍射效率分别高于９５．４２％和９６．１０％，特别是光栅周期为４０４纳米，刻蚀深度为１．６０５微米时，消光比达到１．０１×１０↑［４］，ＴＥ偏振光０级透射衍射效率为９７．１３％，ＴＭ偏振光１级透射衍射效率为９７．７７％；本发明专利技术制作偏振分束器，具有很高的消光比和透射效率，不必镀金属膜或介质膜，利用全息光栅记录技术或电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺，可以大批量、低成本地生产，刻蚀后的光栅性能稳定、可靠，是偏振分束器的一种重要的实现技术。

【技术实现步骤摘要】

本专利涉及石英透射光栅，特别是一种针对绿光532纳米波长的高消光比、高衍射效率的532纳米波长的高密度深刻蚀石英透射偏振分束光栅。
技术介绍
在许多光学信息处理系统中，偏振分束器是一种关键元件，它可以将光分成两束偏振模式相互垂直的偏振光。大多数应用中，人们往往需要高消光比、高透射率或反射率、较宽的可操作波长范围和角度带宽、体积小的偏振分束器。传统的偏振分束器是基于一些晶体的自然双折射效应(例如Thomson棱镜、Nicol棱镜和Wollaston棱镜)或者多层介质膜的偏振选择性。但是，利用双折射晶体所制成的偏振分束器体积大、价格昂贵；而薄膜偏振分束器一般工作带宽较小，薄膜层数达到几十层，对均匀性和对称性要求较严，加工较难，高消光比元件的成本很高。随着微制造技术的快速发展，亚波长光栅所表现出来的特有的光学效应越来越受到人们的广泛关注。近来，一些研究工作报道了表面浮雕型光栅作为偏振分束器。与其它偏振分束器相比，表面浮雕型偏振分束光栅结构紧凑，易于小型化和集成化，并且插入损耗小，是一种无源器件。尤其是深刻蚀熔融石英光栅，损伤阈值很高，热膨胀系数小，能够在高强度激光和对稳定性要求严格的环本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种５３２纳米波长的高密度深刻蚀石英透射偏振分束光栅，其特征在于该光栅的周期为３９５－４１２纳米、刻蚀深度为１．５８０－１．６３０微米，光栅的占空比为１／２。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周常河，王博，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]