粘合剂层、其制造方法、粘合片、带粘合剂层的光学膜和图像显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术的粘合剂层具有第一面和第二面，所述第二面在所述第一面的相反侧，其中，在所述粘合剂层中，由含有基础聚合物的粘合剂组合物形成整个粘合剂层的基底，所述第一面具有基于所述粘合剂组合物的第一折射率，并且所述第二面的第二折射率低于所述第一面的第一折射率。本发明专利技术的粘合剂层即使在应用于减反射膜、光漫射膜、棱镜膜、导光膜、透镜膜、菲涅耳透镜、柱状透镜或微透镜膜等折射率低的光学构件的情况下，也能够有效地抑制内部反射，并且粘附性良好。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】粘合剂层、其制造方法、粘合片、带粘合剂层的光学膜和图像显示装置
本专利技术涉及粘合剂层及其制造方法。另外，本专利技术涉及具有所述粘合剂层的粘合片和带粘合剂层的光学膜。此外，本专利技术涉及使用了上述粘合剂层或带粘合剂层的光学膜的图像显示装置。
技术介绍
例如在液晶显示装置或有机电致发光(EL)显示装置等显示装置中，为了将偏振膜、相位差膜、保护玻璃等透明盖构件、其它各种光学膜与其它光学膜接合而使用粘合剂组合物。像这样，通过在两个光学膜之间配置粘合剂层，形成具有该两个光学膜的光学膜层叠体。这样的结构的光学膜层叠体例如以光学膜一侧为可视侧的方式配置在显示装置中。该结构存在如下问题：在外部光从可视侧的光学膜入射时，入射光在粘合剂层与非可视侧的光学膜的界面处反射而返回到可视侧。在外部光的入射角大时，该问题变得特别显著。另一方面，提出了在图像显示装置的背光源单元中例如使用以(甲基)丙烯酸类聚合物作为基础聚合物并且包含光漫射性微粒的光漫射粘合剂组合物的方案(专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2014-224964号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题认为如上所述的问题是由于粘合剂层与被粘物的折射率差而产生的。例如，在粘合剂层与使用含氟树脂、聚硅氧烷、低折射无机粒子、多孔材料、中空材料等低折射率的材料的光学构件(例如，减反射膜、光漫射膜、导光膜、棱镜膜、透镜膜、菲涅耳透镜、柱状透镜或微透镜膜)之间，由于界面处的入射光的内部反射的影响而在可视性上产生问题。认为该问题是由于光学膜的折射率低于粘合剂层的折射率而引起的，因此考虑通过使用折射率低的粘合剂层来解决上述问题。例如，作为利用丙烯酸类粘合剂形成折射率低的粘合剂层的方法，考虑在作为基础聚合物的一般的丙烯酸类聚合物(折射率通常为1.47～1.52)中使用丙烯酸氟烷基酯(折射率为1.38左右)作为单体单元。但是，使用含有所述丙烯酸氟烷基酯作为单体单元的基础聚合物的折射率低的粘合剂层的表面张力高，难以确保粘附性。可见，在确保粘合剂层的粘附性的同时制作低折射率(例如，折射率为1.40以下)的粘合剂层是极其困难的。另一方面，由专利文献1的光漫射粘合剂组合物形成的粘合剂层虽然具有光漫射功能，但是由于在粘合剂层的整个范围内分散有光漫射性微粒，因此难以充分确保与光学膜等的粘附性。本专利技术的目的在于，提供一种粘合剂层及其制造方法，所述粘合剂层即使在应用于减反射膜、光漫射膜、透镜膜、菲涅耳透镜、柱状透镜或微透镜膜等折射率低的光学构件的情况下，也能够有效地抑制内部反射，并且粘附性良好。另外，本专利技术的目的在于，提供具有所述粘合剂层的粘合片，还提供具有该粘合剂层的带粘合剂层的光学膜，此外，本专利技术提供具有所述粘合剂层或带粘合剂层的光学膜的图像显示装置。用于解决问题的手段本专利技术人为了解决上述问题而反复进行了深入研究，结果发现了下述所示的粘合剂层等，从而完成了本专利技术。即，本专利技术涉及一种粘合剂层，其具有第一面和第二面，所述第二面在所述第一面的相反侧，其特征在于，在所述粘合剂层中，由含有基础聚合物的粘合剂组合物形成整个粘合剂层的基底，所述第一面具有基于所述粘合剂组合物的第一折射率，并且所述第二面的第二折射率低于所述第一面的第一折射率。在所述粘合剂层中，所述第一面的第一折射率与第二面的第二折射率之差优选为0.02～0.45。在所述粘合剂层中，所述第二面的第二折射率优选为1.45以下。作为所述粘合剂层，可以采用在所述第二面一侧分散有低折射率材料的方式，所述低折射率材料具有比所述基础聚合物的折射率低的折射率。在所述粘合剂层中，分散有所述低折射率材料的区域的厚度从所述粘合剂层的第二面一侧起算在厚度方向上优选为600nm以下。在所述粘合剂层中，所述基础聚合物的折射率优选为1.40～1.55，所述低折射率材料的折射率优选为1.10～1.45。另外，所述基础聚合物的折射率与所述低折射率材料的折射率之差优选为0.07～0.45。作为所述低折射率材料，可以列举：平均粒径为10nm～150nm的粒子。作为所述低折射率材料，可以列举：选自由无机粒子、多孔二氧化硅粒子、中空二氧化硅纳米粒子和中空聚合物粒子构成的组中的至少一种粒子，所述无机粒子为选自由MgF2、CaF2和Na3AlF6构成的组中的至少一种。所述粘合剂层的总透光率优选为85％以上。所述粘合剂层的所述第二面的反射率优选为0.5％～3.5％。所述粘合剂层的所述第一面的反射率与第二面的反射率之差优选为0.1％～3.5％。所述粘合剂层的凝胶分数优选为30重量％～95重量％。所述粘合剂层的25℃下的储能模量G’优选为0.05MPa～0.50MPa。所述粘合剂层的在1Hz下的动态粘弹性测定时的tanδ峰值优选为-5℃～-50℃。另外，本专利技术涉及一种粘合剂层的制造方法，其为前述粘合剂层的制造方法，其特征在于，包含以下工序：工序(1)，其中在支撑体上利用含有基础聚合物的粘合剂组合物形成基础粘合剂层；工序(2)，其中准备分散有低折射率材料的分散液，所述低折射率材料具有比所述基础聚合物的折射率低的折射率；工序(3)，其中在所述基础粘合剂层的支撑体一侧的第一面的相反侧的第二面上涂布所述分散液或溶液，并使该分散液或溶液中所含的所述低折射率材料从所述基础粘合剂层的所述第二面起沿厚度方向渗透；和工序(4)，其中，对渗透有所述低折射率材料的粘合剂层进行干燥。另外，本专利技术涉及一种粘合片，其特征在于，所述粘合片具有所述粘合剂层并且在该粘合剂层的单面或双面上具有支撑体。另外，本专利技术涉及一种带粘合剂层的光学膜，其具有光学膜和设置在该光学膜的单面或双面上的粘合剂层，其特征在于，所述单面或双面的粘合剂层为前述粘合剂层，并且该粘合剂层的第一面一侧设置在所述光学膜上。在所述带粘合剂层的光学膜中，作为光学膜，优选使用偏振膜。另外，本专利技术涉及一种光学层叠体，其特征在于，所述光学层叠体具有所述带粘合剂层的光学膜和贴合在该带粘合剂层的光学膜的粘合剂层上的低折射率的光学构件。另外，本专利技术涉及一种图像显示装置，其特征在于，所述图像显示装置具有前述粘合剂层、前述带粘合剂层的光学膜或前述光学层叠体。专利技术效果本专利技术的粘合剂层与微粒均匀地分散在粘合剂层中的分散型粘合剂层不同，在具有第一面和第二面的一层粘合剂层的两面具有不同的折射率，在第一面一侧具有基于形成整个粘合剂层的基底的粘合剂组合物的第一折射率，在另一侧的第二面一侧具有低于所述第一面的第一折射率的第二折射率。像这样，本专利技术的粘合剂层由于具有控制为比基于粘合剂层的折射率低的折射率的粘合面，因此能够调节与由低折射率的材料形成的光学构件(例如，减反射膜、光漫射膜、导光膜、棱镜膜、透镜膜、菲涅耳透镜、柱状透镜或微透镜膜等)之间的折射率差，由此能够抑制粘合剂层与该光学构件之间的界面处的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种粘合剂层，其具有第一面和第二面，所述第二面在所述第一面的相反侧，其特征在于，/n在所述粘合剂层中，由含有基础聚合物的粘合剂组合物形成整个粘合剂层的基底，/n所述第一面具有基于所述粘合剂组合物的第一折射率，并且所述第二面的第二折射率低于所述第一面的第一折射率。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180511 JP 2018-0924431.一种粘合剂层，其具有第一面和第二面，所述第二面在所述第一面的相反侧，其特征在于，
在所述粘合剂层中，由含有基础聚合物的粘合剂组合物形成整个粘合剂层的基底，
所述第一面具有基于所述粘合剂组合物的第一折射率，并且所述第二面的第二折射率低于所述第一面的第一折射率。


2.如权利要求1或2所述的粘合剂层，其特征在于，所述第一面的第一折射率与第二面的第二折射率之差为0.02～0.45。


3.如权利要求1～3中任一项所述的粘合剂层，其特征在于，所述第二面的第二折射率为1.45以下。


4.如权利要求1～3中任一项所述的粘合剂层，其特征在于，在所述粘合剂层中在所述第二面一侧分散有低折射率材料，所述低折射率材料具有比所述基础聚合物的折射率低的折射率。


5.如权利要求4所述的粘合剂层，其特征在于，分散有所述低折射率材料的区域的厚度从所述粘合剂层的第二面一侧起算在厚度方向上为600nm以下。


6.如权利要求4或5所述的粘合剂层，其特征在于，所述基础聚合物的折射率为1.40～1.55，并且所述低折射率材料的折射率为1.10～1.45。


7.如权利要求4～6中任一项所述的粘合剂层，其特征在于，所述基础聚合物的折射率与所述低折射率材料的折射率之差为0.07～0.45。


8.如权利要求4～7中任一项所述的粘合剂层，其特征在于，所述低折射率材料为平均粒径为10nm～150nm的粒子。


9.如权利要求4～8中任一项所述的粘合剂层，其特征在于，所述低折射率材料为选自由无机粒子、多孔二氧化硅粒子、中空二氧化硅纳米粒子和中空聚合物粒子构成的组中的至少一种粒子，所述无机粒子为选自由MgF2、CaF2和Na3AlF6构成的组中的至少一种。


10.如权利要求1～9中任一项所述的粘合剂层，其特征在于，所述粘合剂层的总透光率为85％以上。


11.如权利要求1～10中任一项所述的粘合剂层，其特征在于，所述第二面的反射率为0.5％～3.5％。


12.如权利要求1～11...

【专利技术属性】
技术研发人员：形见普史，野中崇弘，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP