一种对称式双远心投影光学系统技术方案

本发明专利技术提供了一种对称式双远心投影光学系统，用于将物平面内的图形成像到像平面内。所述对称式双远心投影光学系统为全折射式投影光学系统，分为前组和后组，并以孔径光阑为对称面。前组包括第一到第四镜组，第一镜组和第三镜组具有负光焦度，第二镜组和第四镜组具有正光焦度，第一镜组和第二镜组、第三镜组和第四镜组分别构成反远距结构；后组沿光轴依次包括第五到第八镜组，分别与第四到第一镜组关于孔径光阑对称；且所述的对称式双远心投影光学系统中不包含非球面镜片。采用本发明专利技术的对称式双远心投影光学系统，不仅能有效地校正色差，扩大工作距，提升成像质量；而且由于不包含非球面镜片，加工、检测比非球面简单，可大大降低制造成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于半导体光刻以及照相制版的投影光学系统，特别涉及一种对称式双远心投影光学系统。
技术介绍
随着投影光刻技术的发展，投影光学系统的性能逐步提高，并可以适用于集成电路制造等多种领域。现已将投影光刻技术成功应用于亚微米分辨率集成电路制造领域。在半导体封装技术中，投影光刻技术可用于要求较低分辨率(如几微米)、较大焦深、较高产率的金凸块/锡凸块、硅片级芯片尺度封装(WLCSP)技术等领域。然而在现有技术中，如美国专利US 6,879,383(公告日2005年4月12日)，其采用折反射结构，与全折射结构比，最大缺点是横向尺寸大，导致对透镜材料的要求十分高，尤其是大口径的凹面反射镜的加工、检测要求都十分苛刻；而且色差校正、视场、工作距、装校要求、成本等方面也不如全折射结构具有更大的优势。再者，该专利给出该光学系统5个实施例中，其工作距离仅达到7.5mm～11mm范围，其光学总长达到1150mm～1200mm以上。在实际投影光学系统的应用中，该工作距离将对工件台、尤其是掩模台的设计提出十分苛刻的尺寸限制，如使用0.25英寸厚掩模版的掩模台，其尺寸设计将受到极大的限制。另外，该本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种对称式双远心投影光学系统，用于将物平面内的图形成像到像平面内，所述的对称式双远心投影光学系统沿其光轴方向包括前组、孔径光阑和后组，其特征在于：所述的前组由第一到第四镜组（Ｇ１～Ｇ４）组成，第一和第三镜组（Ｇ１、Ｇ３）具有负光焦度，第二和第四镜组（Ｇ２、Ｇ４）具有正光焦度；所述的后组由第五到第八镜组（Ｇ５～Ｇ８）组成，第五和第七镜组（Ｇ５、Ｇ７）具有正光焦度，第六和第八镜组（Ｇ６、Ｇ８）具有负光焦度；所述的前组和后组关于孔径光阑对称，且所述每一镜组的光学透镜表面均为球面或平面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡燕民，周畅，刘国淦，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]