一种双折射硼酸盐系晶体的用途制造技术

本发明专利技术涉及一种硼酸盐系双折射光学晶体及其用途：该硼酸盐系双折射晶体的化学式是：ＲｅＢａ↓［３］Ｂ↓［９］Ｏ↓［１８］（Ｒｅ＝Ｙ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｅｒ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｔｍ、Ｙｂ和／或Ｌｕ）。这些晶体都是负单轴晶体，并于可见光波段的双折射率数值大小在０．０８－０．１５左右。这一系列的晶体易于切割、研磨、抛光和保存，不溶于水，不潮解，在空气中稳定，适于制作光通讯元件，例如光隔离器，环形器，光束位移器，光学起偏器和光学调制器等。特别是用于制作各种用途的偏光棱镜，相位延迟器件和电光调制器件等。这些器件利用的是晶体的折射率特性，特别是较大的双折射率（ｎ↓［ｅ］－ｎ↓［ｏ］）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及双折射光学晶体领域，特别是涉及一种硼酸盐系ReBa3B9O18(Re＝Y、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Er、Dy、Ho、Tm、Yb和/或Lu)的双折射晶体及其用途。
技术介绍
双折射现象是光在光性非均质体晶体中传播时表现出来的重要特征之一。光在光性非均质体(如立方晶系以外的晶体)中传播时，除个别特殊的方向(沿光轴方向)外，会改变其振动特点，分解为两个电场矢量振动方向互相垂直，传播速度不同，折射率不等的两束偏振光，这种现象称为双折射，这样的晶体称为双折射晶体。两束光中的一束遵守一般的折射定律，称为寻常光(o光)，其折射率用no表示，另一束不遵守一般的折射定律，称为非常光(e光)，其折射率用ne表示。利用双折射晶体的特性可以得到线偏振光，实现对光束的位移等。从而使得双折射晶体成为制作光隔离器，环形器，光束位移器，光学起偏器和光学调制器等光电元件关键材料。常用的双折射材料主要有方解石、金红石、LiNbO3、YVO4以及α-BaB2O4晶体等。然而方解石晶体主要以天然形式存在，人工合成比较困难，一般尺寸都比较小，杂质含量比较高，无法满足大尺寸光学偏光元件的要求，而且本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硼酸盐系的双折射晶体，这一系列双折射晶体的化学式为ＲｅＢａ↓［３］Ｂ↓［９］Ｏ↓［１８］（Ｒｅ＝Ｙ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｅｒ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｔｍ、Ｙｂ和／或Ｌｕ），其中，所述晶体透明、且为负单轴晶体ｎ↓［ｅ］＜ｎ↓［ｏ］。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈小龙，何明，王皖燕，蔡格梅，许燕萍，刘军，
申请(专利权)人：中国科学院物理研究所，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]