偏光板结构制造技术

本发明专利技术涉及一种偏光板结构，其是具有偏光层、第一光学膜以及第二光学膜，且第一光学膜是形成于所述偏光层上方，第二光学膜是形成于所述偏光层下方。其中，所述第一光学膜与第二光学膜中至少一个光学膜是聚甲基丙烯酸甲酯光学膜。再者，所述光学膜是透过所述混合溶液分布在基板上备制后，再贴合于所述偏光膜并进行热处理后所形成，或者是所述光学膜是透过所述混合溶液分布于所述偏光膜表面并进行热处理后所形成。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种偏光板结构，特别涉及一种利用溶剂铸膜技术制备的为聚甲 基丙烯酸甲酯光学膜的偏光板结构。
技术介绍
传统偏光板结构是偏光基质上、下表面分别设置光学膜所构成，而这类光学膜的基材一般是以三醋酸纤维(TAC: triacetate)、 PC(polycarbonate)、 COP为主。 而典型的TAC膜又可进一步作为光学膜的保护与支撑膜，所以一般的TAC膜除 了必须达到所要求的光学性质外，也必须具有一定的强度且具有耐高温以及耐潮 湿的特性以达到光学膜的使用需求或是提供保护TAC膜所构成的光学膜的效果 (参考下述专禾U: JP4342202、 TW499573 、 JP2000-324055 、 JP2001-235625 、 JP2003-195048、 EP 1-285742、 EP 1-331245)。另外，美国第6，652，926B1号专利 中揭露加入0。04。/。 0.3。/。的硅土粒子(silica particle)于TAC中，其一方面增加了 TAC膜的靭性，另一方面亦使得TAC膜的厚度降低。再者，有关于基板或是保护膜的产生，已揭示于美国公告第2004/0086721Al 号专利中，其揭露以20~40%的PVDF(聚偏二氟乙烯)、40~60%的聚甲基丙烯酸甲 酯以及5~18%的acrylic elastomer(聚丙烯弹性体)以熔融混掺的方式制成基板或是 保护膜。欧洲第EP1154005A1号专利揭露以PET膜中混掺小于5微米(um)的微粒 子以达到介于20 600纳米(nm)中心粗度的PET薄膜。此外，日本特开平7-56017 号专利中提到，以PC80y。+聚甲基丙烯酸甲酉旨(Kuraray C-16) 20%铸成80微米(um) 的薄膜，以及聚甲基丙烯酸甲酯(MMA97。/。+BA3。/。)材料75%混掺25% PEA所铸 成的500微米(um)薄膜。上述现有技术的缺点包括TAC薄膜的吸水及透湿性大，因此当于高温、高 湿度的条件下使用时，会因外在环境导致薄膜变形或产生应力而造成光学膜的光 学特性受到影响，甚至造成光学膜无法使用。并且TAC的b值过高，在外观上即 可看出，容易造成视觉上的阻碍。另外，COP薄膜(如Zeonor、 Arton)的吸水及透湿性过小，附着性质差，并且具有材料太脆的问题。欧洲第EP1154005A1号专 利中的微粒子虽可以降低表面粗糙度，但其所使用PET的玻璃转移温度低(75'C)， 无法符合现有光学膜的耐热性要求。日本特开平7-56017号专利中提到的聚甲基 丙烯酸甲酯(PMMA)/PC混掺的材料性质太脆，并且聚甲基丙烯酸甲酯 (PMMA)/PEA混掺的材料厚度高达500微米(um)，相对于现有光学膜，其适用性 皆不足。鉴于上述的缺点，并且为了避免因融熔掺混或热塑性加工造成的材料不安定 现象，并且改善光学膜的耐热性、耐湿性以及机械性质，而有效解决光学膜稳定 性问题，本专利技术提供了可以解决上述缺点的偏光板结构。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种偏光板结构，利用溶剂铸膜技术混掺聚甲基丙烯 酸甲酯的偏光板结构，聚甲基丙烯酸甲酯可溶于不具毒性的溶剂如甲苯等的中， 其可避免TAC制程中大量使用二氯甲垸，所可能对人体及环境的伤害。本专利技术的再一目的在于提供一种偏光板结构，具适中的吸水及透湿性并可有 效解决偏光板光学性质变异的问题。本专利技术的又一目的在于提供一种耐热性佳、机械性质适中、低光弹性系数且 具备良好光学性质，例如低雾度、低黄化指数、高阿贝数、在可见光范围(波长 400-700纳米)具有高的穿透度(>90%)以及具有均匀膜面性质(如厚度、表面粗糙度 等)的偏光板结构，以及避免因融熔掺混或热塑性加工造成的材料不安定现象。再者，本专利技术的利用溶剂铸膜技术混掺聚甲基丙烯酸甲酯所制备的偏光板具 有许多优点l.耐热性佳、机械性质适中、低光弹性系数且具备良好光学性质， 例如高透明性、低雾度、低黄化指数、高阿贝数、在可见光范围(波长400 700 纳米)具有高的穿透度(>卯％)以及具有均匀膜面性质(如厚度、表面粗糙度等)的光 学膜；2.可以避免因融熔掺混或热塑性加工造成的材料不安定现象；3.透湿性适中， 适中的吸水及透湿性并可有效解决光学膜光学性质变异的问题；4.制程简易；5. 低光弹性系数；6.树酯(Resin)来源充足，有效降低成本；7.有效降低高温高湿的 PVA内縮。本专利技术揭露的偏光板结构是具有偏光层、第一光学膜以及第二光学膜，且第 一光学膜是形成于所述偏光层上方，第二光学膜是形成于所述偏光层下方。其中，所述第一光学膜与第二光学膜中至少一个光学膜是聚甲基丙烯酸甲酯光学膜。再者，所述光学膜是透过所述混合溶液分布在基板上备制后，再贴合于所述 偏光膜并进行热处理后所形成，或者是所述光学膜是透过所述混合溶液分布于所 述偏光膜表面并进行热处理后所形成。其中，所述光学膜的制作是包括将至少 一种聚甲基丙烯酸甲酯、被取代官能基的聚甲基丙烯酸甲酯或聚甲基丙烯酸甲酯 混掺与溶剂混合，以形成均匀的混合溶液；将上述混合溶液均匀分布在基板上； 以及进行热处理，以获得均匀表面的光学膜。上述官能基为甲基，而上述被取代官能基的聚甲基丙烯酸甲酯包括以乙基、 丙基、异丙基、正丁基、异丁基、新丁基、正已基、异已基、环己基等官能基取 代甲基的聚甲基丙烯酸甲酯。上述混掺包括至少一种高分子、小分子、可塑剂 (plasticizer)、 UV吸收剂、抗降解剂或纳米级粒子混掺。上述溶剂包括至少一种芳 香族、环垸类、醚类、酯类或酮类。上述芳香族包括甲苯，邻-、间-或对-二甲苯 (Xylene)，环烷类包括环己烷(Cyclohexane)，醚类包括二乙基醚(Diehtyl Ether)、 四氢氟喃(Tetrahydrofuran: THF)，酯类包括乙酸甲酯(Methyl acetate、 Ethyl acetate)，酮类包括丙酮(Acetone)、甲基乙基酮(methylethylketone: MEK)、 1画甲基环戊酮(1 -methylpyrrolidone :NMP)。上述混合溶液是利用一溶剂铸膜的方式而均匀分布在上述基板上。上述溶剂 铸膜的方式包括刮刀涂布、缠线棒涂布、逆或同向式滚筒涂布、气帘式(air curtain) 涂布、轮式涂布、雕筒涂布、浸沾式涂布、旋转涂布、狭缝式涂布、挤压式涂布 或淋幕式涂布。上述基板包括玻璃基板、塑料基板、镜面钢板、镜面钢带或表面 均匀性良好的合成高分子。上述合成高分子包括PET(polyethyleneterephthalate)、 PEN(polyethylenenaphthalate) 、 PES(polyethersulfone) 、 PI(polyimide)、 PAR(polyarylate) 、 PC(polycarbonate)、 或天然纤维如 CA(cellulose acid)、 DAC(cellulose diacetate)、 TAC(cellulose triacetate)等。上述混合溶液均匀分布在上 述基板上的厚度为150微米(/mi) 1200(/mi)微米。上述热处理是利用UV光照射均 匀分布在上述基板本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种偏光板结构，包括：偏光层；第一光学膜，其是形成于所述偏光层上方；及第二光学膜，其是形成于所述偏光层下方；其中所述第一光学膜与第二光学膜中至少一个光学膜是聚甲基丙烯酸甲酯光学膜。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：李光荣，曾盈达，王丹青，林宜贞，庄毓蕙，
申请(专利权)人：力特光电科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]