线栅式偏振片制造技术

本发明专利技术涉及一种线栅式偏振片，所述线栅式偏振片包括具有凹槽的微图案化的基片。导电材料以１０－２０纳米宽度的条设置在微图案化的基片上，且这些导电材料与所述凹槽平行或垂直取向。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术具体涉及位于挠性基片上的导电性线栅式偏振片(wire grid polarizer)。
技术介绍
目前可用于在基片上产生纳米尺寸图案的方法是基于真空的技术，并且通 常很昂贵。此外，这些方法中所用的光刻(photolithographic)技术通常在纳米尺 寸图案的分辨率方面具有下限，该下限是由光的波长导致的。使用新的技术方 法来降低成本并减小特征尺寸。 一种非常有前途的新技术是双嵌段共聚物的定 向性自组装，以在室温条件下在基片上产生精细的纳米尺寸图案。该技术的关键方面是术语"定向性自组装(directed self-assembly)"。该方 法一般包括在定向力的影响下向基片上涂覆双嵌段共聚物。所述定向力 (directional force)可以与所需的纳米尺寸图案的尺寸相当的密闭空间 (confinement space),或者电场或磁场一样简单。它可以是基片上的作为疏水或 亲水特征的静电场。通过元件的定向自组装和使表面上阵列的排列倾斜(biasing the arrangement of the arrays on a surface), 可以得至ll前所未有的空间本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种线栅式偏振片，所述线栅式偏振片包括：具有凹槽的微图案化的基片，以１０－２０纳米宽度的条设置在所述微图案化的基片上的导电材料，所述导电材料条与所述凹槽平行取向。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：R贾甘纳坦，YQ饶，XD米，
申请(专利权)人：罗门哈斯丹麦金融有限公司，
类型：发明
国别省市：DK[丹麦]