制造涂覆交织基底的方法，涂覆物品以及可植入医疗装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及制造涂覆交织基底的方法，涂覆物品以及可植入医疗装置。提供了一种用于在化学沉积反应器中制造涂覆物品(10)的方法以及一种通过所述方法产生的涂覆物品。所述方法包括在所述物品(10)的第一表面上沉积第一涂层和/或在所述物品的第二表面上沉积第二涂层。

【技术实现步骤摘要】
制造涂覆交织基底的方法，涂覆物品以及可植入医疗装置
本专利技术总体上涉及通过化学沉积方法制造涂覆物品。特别地，本专利技术涉及通过气相中化学沉积方法在交织基底上进行涂层区域特异性沉积。
技术介绍
化学沉积方法，诸如化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)，在本领域中被广泛描述。通常被认为是CVD工艺的子类的ALD技术已证明是用于在三维基底结构上制造高品质保形涂层的有效工具。ALD基于交替的自饱和表面反应，其中在非反应性(惰性)气态载体中作为分子化合物或元素提供的不同反应物(前体)依次脉冲进入容纳基底的反应空间中。反应物沉积后通过惰性气体吹扫基底。常规ALD循环(沉积循环)以两个半反应(脉冲第一前体–吹扫；脉冲第二前体–吹扫)进行，从而以自限(自饱和)方式形成材料层(沉积层)，通常厚为0.05-0.2nm。为了获得具有预定厚度的膜，循环根据需要重复多次。针对每种前体的典型基底暴露时间为0.01-1秒。常见的前体包括金属氧化物、单质金属、金属氮化物和金属硫化物。因为分布在气态介质中的前体分子驻留在所有形成保形涂层的可进入(非掩盖)本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于在化学沉积反应器中制造涂覆的交织基底的方法，所述方法包括：/n获得化学沉积反应器，所述化学沉积反应器具有由反应室形成的并且被配置成至少部分地接收由流体可渗透材料制成的基底固持器(100)的反应空间(101)，在所述基底固持器上安装有交织基底(10)，使得所述基底的第一表面(10A)面向所述反应空间(101)，并且将所述基底的第二表面(10B)抵靠所述基底固持器(100)放置，以及/n在若干沉积循环中，在所述第一表面(10A)上形成第一涂层(1)和/或在所述第二表面(10B)上形成第二涂层(2)，/n其中，每个沉积循环包括用流体流将前体化学物递送到所述反应空间(101)中，使得将至少...

【技术特征摘要】
20190606 US 62/858,0691.一种用于在化学沉积反应器中制造涂覆的交织基底的方法，所述方法包括：
获得化学沉积反应器，所述化学沉积反应器具有由反应室形成的并且被配置成至少部分地接收由流体可渗透材料制成的基底固持器(100)的反应空间(101)，在所述基底固持器上安装有交织基底(10)，使得所述基底的第一表面(10A)面向所述反应空间(101)，并且将所述基底的第二表面(10B)抵靠所述基底固持器(100)放置，以及
在若干沉积循环中，在所述第一表面(10A)上形成第一涂层(1)和/或在所述第二表面(10B)上形成第二涂层(2)，
其中，每个沉积循环包括用流体流将前体化学物递送到所述反应空间(101)中，使得将至少一种前体化学物递送到所述反应空间(101)中经由所述流体可渗透材料发生。


2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述基底固持器(100)具有基本中空内部(102)，所述至少一种前体化学物被接收到所述基本中空内部内。


3.根据权利要求1或2中任一项所述的方法，其中，所述沉积循环包括将至少两种预定前体化学物递送到所述反应空间(101)中，从而遍及所述基底(10)的所述第一表面(10A)和/或遍及所述基底的所述第二表面(10B)产生沉积层(AB，AB1，AB2)。


4.根据前述任一项权利要求所述的方法，其中，将第一预定前体化学物经由所述反应室递送到所述反应空间(101)中并且将第二预定前体化学物经由所述流体可渗透基底固持器(100)递送到所述反应空间(101)中。


5.根据前述任一项权利要求所述的方法，其中，将所述前体化学物以顺序、暂时分开的脉冲，任选地与用惰性流体吹扫所述反应空间(101)交替递送到所述反应空间(101)中。


6.根据前述任一项权利要求所述的方法，其中，通过在与将前体化学物递送到所述反应空间(101)中的方向基本上相反的方向上产生惰性流体的逆流流动来实现将所述前体化学物中的任一种递送到所述反应空间(101)中。


7.根据前述任一项权利要求所述的方法，其中，所述第一涂层(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：亚尼·基维奥亚，马尔科·普达斯，
申请(专利权)人：皮考逊公司，
类型：发明
国别省市：芬兰;FI