一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜及制备方法技术

本发明专利技术公开了一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜及制备方法，其中抛光膜包括聚酯薄膜、以及涂覆于聚酯薄膜上的研磨浆料涂层，研磨浆料涂层按重量份数包括如下组分，磨料150‑250份、聚异氰酸酯400‑600份、双酚A环氧树脂85‑150份、溶剂250‑350份、抗静电剂1‑5份、分散剂2‑5份，该抛光膜使用超高分子量双酚A环氧树脂和聚异氰酸酯结合的树脂，具有很高的脆性和硬度，高脆性树脂在研磨过程中会逐渐成粉状脱落，使研磨涂层具有自锐性，具有稳定的抛光速率，大大提高现有了抛光膜的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜及制备方法
本专利技术涉及抛光膜加工
，尤其涉及一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜及制备方法。
技术介绍
抛光膜是由磨料、树脂和薄膜基材组成，磨料和树脂构成研磨涂层。现有的抛光膜，研磨涂层在使用过程中只有表面一层磨料起到抛光作用，随着使用时间的延长，表面的磨料会逐渐磨钝，切削力逐渐下降，进而逐渐失去抛光作用，产品的使用寿命也就很有限。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜及制备方法，该抛光膜使用超高分子量双酚A环氧树脂和聚异氰酸酯结合的树脂，具有很高的脆性和硬度，高脆性树脂在研磨过程中会逐渐成粉状脱落，使研磨涂层具有自锐性，具有稳定的抛光速率，大大提高现有了抛光膜的使用寿命。为达到上述目的，本专利技术采用的技术方案是：一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜，包括聚酯薄膜、以及涂覆于聚酯薄膜上的研磨浆料涂层，所述研磨浆料涂层按重量份数包括如下组分，磨料150-250份、聚异氰酸酯400-600份、双酚A环氧树脂85-150份、溶剂250-350份、抗静电剂2-5份本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜，包括聚酯薄膜、以及涂覆于聚酯薄膜上的研磨浆料涂层，其特征在于，所述研磨浆料涂层按重量份数包括如下组分，磨料150-250份、聚异氰酸酯300-600份、双酚A环氧树脂80-150份、溶剂250-350份、抗静电剂1-5份、分散剂2-5份。/n

【技术特征摘要】
1.一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜，包括聚酯薄膜、以及涂覆于聚酯薄膜上的研磨浆料涂层，其特征在于，所述研磨浆料涂层按重量份数包括如下组分，磨料150-250份、聚异氰酸酯300-600份、双酚A环氧树脂80-150份、溶剂250-350份、抗静电剂1-5份、分散剂2-5份。


2.根据权利要求1所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜，其特征在于，所述磨料为金刚石微粉、白刚玉微粉、棕刚玉微粉、碳化硅微粉、氧化铈微粉中的一种或多种。


3.根据权利要求1所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜，其特征在于，所述磨料的中值粒径为0.1-30μm。


4.根据权利要求1所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜，其特征在于，所述双酚A环氧树脂的固含量为10-60%，其分子量为5000-30000。


5.根据权利要求1所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜，其特征在于，所述溶剂为乙酸乙酯、甲苯、丁酮中的一种或多种。


6.根据权利要求1所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜，其特征在于，所述抗静电剂为阳离子抗...

【专利技术属性】
技术研发人员：张增明，
申请(专利权)人：上海拓毕新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31