一种一次成型制备大尺寸超薄荧光陶瓷片的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种一次成型制备大尺寸超薄荧光陶瓷片的制备方法，具体涉及荧光陶瓷片制备领域，制备方法包括：S1：制备陶瓷片模板，基片模板选取YAG:Ce/(Gd,Y)AG:Ce双层复合结构的荧光透明陶瓷，在基片上表面及下表面片铺设一层金属纳米壳模板，金属纳米壳模板有金属颗粒薄膜合成，金属纳米颗粒薄膜采用无电化学沉积法或湿法镀膜技术制成，基片的上层及下层均加设一组电光记忆陶瓷片；S2：成型，采用多模板组合凝胶注成型技术，将基片模板与电光记忆陶瓷片粘合成型。本发明专利技术最大限度提升激光光源的亮度以及器件寿命，满足室内照明所需要的高显色指数、低色温的白光发射要求，可实现红光光谱增强、红移及拓宽。

【技术实现步骤摘要】
一种一次成型制备大尺寸超薄荧光陶瓷片的制备方法
本专利技术涉及荧光陶瓷片制备领域，更具体地说，本专利技术涉及一种一次成型制备大尺寸超薄荧光陶瓷片的制备方法。
技术介绍
在当前世界能源日益紧张，环境问题突出的大背景之下，世界各国都在加强节能高效的绿色能源技术的开发，由于固态照明光源具有节能环保、潜在光效高、寿命长、体积小等优点，是最具发展潜力的绿色光源，荧光陶瓷较传统的荧光粉具有较高的吸收系数和折射率，且其透明性好、硬度高、耐腐蚀、耐高温、制作工艺简单、生产成本低，可以大批量生产。现有的荧光陶瓷片组成单一，不能采用稀土-稀土离子、稀土-过渡金属族离子共掺的荧光陶瓷体系，得到多层复合结构陶瓷材料，从而难以通过晶体结构及晶体场环境调控，实现红光光谱增强、红移及拓宽。在所述
技术介绍
部分公开的上述信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
为了克服现有技术的上述缺陷，本专利技术的实施例提供一种一次成型制备大尺寸超薄荧光陶瓷片的制备方法，本专利技术所要本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种一次成型制备大尺寸超薄荧光陶瓷片的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括：/nS1：制备陶瓷片模板，基片模板选取YAG:Ce/(Gd,Y)AG:Ce双层复合结构的荧光透明陶瓷，在基片上表面及下表面片铺设一层金属纳米壳模板，金属纳米壳模板有金属颗粒薄膜合成，金属纳米颗粒薄膜采用无电化学沉积法或湿法镀膜技术制成，基片的上层及下层均加设一组电光记忆陶瓷片；/nS2：成型，采用多模板组合凝胶注成型技术，将基片模板与电光记忆陶瓷片粘合成型，再结合烧结工艺的中温升温烧结阶段及高温保温完成烧结阶段，制成大尺寸荧光陶瓷片；/nS3：切割，采用高精度陶瓷切割机，将大尺寸荧光陶瓷片切割成所需大小及形状。/...

【技术特征摘要】
1.一种一次成型制备大尺寸超薄荧光陶瓷片的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括：
S1：制备陶瓷片模板，基片模板选取YAG:Ce/(Gd,Y)AG:Ce双层复合结构的荧光透明陶瓷，在基片上表面及下表面片铺设一层金属纳米壳模板，金属纳米壳模板有金属颗粒薄膜合成，金属纳米颗粒薄膜采用无电化学沉积法或湿法镀膜技术制成，基片的上层及下层均加设一组电光记忆陶瓷片；
S2：成型，采用多模板组合凝胶注成型技术，将基片模板与电光记忆陶瓷片粘合成型，再结合烧结工艺的中温升温烧结阶段及高温保温完成烧结阶段，制成大尺寸荧光陶瓷片；
S3：切割，采用高精度陶瓷切割机，将大尺寸荧光陶瓷片切割成所需大小及形状。


2.根据权利要求1所述的一种一次成型制备大尺寸超薄荧光陶瓷片的制备方法，其特征在于：所述S1中在制作基片模板时，通过改变Gd3+的掺杂浓度，使色温在3100k-3600k范围内可控，发光效率达到了109.9lm/w。


3.根据权利要求1所述的一种一次成型制备大尺寸超薄荧光陶瓷片的制备方法，其特征在于：所述S1中金属纳米颗粒薄膜材料采用直径为40nm的金属纳米颗粒，金属颗粒选取金、铂、银或...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭俊松，
申请(专利权)人：江苏瓷光光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32