【技术实现步骤摘要】
一种立式化学气相沉积炉及其应用
本专利技术涉及半导体制备工艺领域，特别涉及一种立式化学气相沉积炉及其应用。
技术介绍
在半导体制备工艺中，立式化学沉积炉Furnacetube是被广泛应用的一种集群式沉积设备，其具有沉积效率高、高精度控制等优点。现有技术中的一种立式化学沉积炉的结构如图1所示，包括炉管101，炉管101作为沉积反应腔室，内部设有晶舟103、前体喷嘴部件102，前体喷嘴部件102中喷嘴的数量因沉积膜的要求或工艺要求不同而不同，可设置一个或多个喷嘴，喷嘴部件102沿晶舟103的轴向分布且设置于晶舟的一侧，炉管还设有进气口104，出气口105。进行沉积工艺时，由于重力作用喷嘴喷出的气流沿斜下方运动，导致炉管内顶部区域气流不足，底部气流过量，从而导致各区域的晶圆的沉积厚度分布不一致，每片晶圆上的沉积膜厚度也不均匀，并且由于最顶部的气流严重不足，为保证沉积质量，常常只能减少晶圆装载量，换言之，晶舟的内部空间不能充分利用，导致沉积效率低。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种立式化学气相沉积炉，该...
【技术保护点】
1.一种立式化学气相沉积炉，其特征在于，包括：/n炉管，/n所述炉管内设有晶舟和喷嘴部件，所述喷嘴部件在所述晶舟的一侧沿所述晶舟的轴向分布；/n所述炉管内还设有一个内管，所述内管将所述晶舟和所述喷嘴部件嵌套在其内部；/n所述内管与所述喷嘴部件相对的一侧的侧壁上设有多个通孔或缝隙，并且所述内管上设有所述通孔的侧壁与所述炉管的内壁之间留有侧缝，所述侧缝用于排气。/n
【技术特征摘要】
1.一种立式化学气相沉积炉，其特征在于，包括：
炉管，
所述炉管内设有晶舟和喷嘴部件，所述喷嘴部件在所述晶舟的一侧沿所述晶舟的轴向分布；
所述炉管内还设有一个内管，所述内管将所述晶舟和所述喷嘴部件嵌套在其内部；
所述内管与所述喷嘴部件相对的一侧的侧壁上设有多个通孔或缝隙，并且所述内管上设有所述通孔的侧壁与所述炉管的内壁之间留有侧缝，所述侧缝用于排气。
2.根据权利要求1所述的立式化学气相沉积炉，其特征在于，所述通孔中至少有通孔与所述晶舟中负载每片晶圆的位置一一对应。
3.根据权利要求2所述的立式化学气相沉积炉，其特征在于，所述一一对应为：一个所述通孔的中心与所述晶舟中负载一片晶圆的位置位于同一水平线。
4.根据权利要求1所述的立式化学气相沉积炉，其特征在于，多个所述通孔等间距分布。
5.根据权利要求1-4任...
【专利技术属性】
技术研发人员：安重镒，金成基，李亭亭，项金娟，杨涛，李俊峰，王文武，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，真芯北京半导体有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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