一种伽玛射线探测成像的方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种伽玛射线探测成像方法及其装置，属于辐射探测成像技术领域。本方法在闪烁晶体阵列表面蒸镀光电阴极；伽玛射线入射到晶体阵列发出闪烁光；闪烁光在晶体端面发射时与光电阴极材料作用激发出光电子，收集光电子并使其沿晶体表面法线方向导出，对增益放大后的脉冲电压信号计算伽玛射线的能量和空间位置。本装置中，闪烁晶体阵列置于真空室内的绝缘支架上，光电阴极紧贴在闪烁晶体阵列的一侧，引出栅极、微通道板和成像阳极依次置于光电阴极的另一侧，引出电缆的一端与成像阳极相接，另一端伸出真空密封外壳。本发明专利技术方法和装置具有很高的空间分辨率和较高能量分辨率，抗磁场干扰，响应速度快，并且结构紧凑，尺寸小，生产成本低。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种伽玛射线探测成像的方法及装置，属于辐射探测成像

技术介绍
传统的伽玛射线探测技术通常采用一种以闪烁晶体作为探测材料、以光电倍增管作为信号放大器的结构，通称为闪烁探测器。当伽玛射线入射到闪烁晶体内，根据其能量范围，通常会产生光电效应、康普顿散射效应及电子对效应，其自身能量最终被晶体吸收而同时释放出极其微弱的闪烁光。对于在可见光区或紫外光区的闪烁光，可经光电转换后利用高灵敏度的信号放大器件，即光电倍增管进行探测而获得伽玛射线的全部信息，比如光电倍增管输出的脉冲信号的强度反应了伽玛射线的能量；脉冲信号发生的时间反映了伽玛射线的入射时间。这种传统的闪烁探测器具有高效率，高信噪比和响应时间快等特点，被广泛应用于高能物理、宇宙射线探测及核医学的研究中，是当今辐射探测
中不可或缺的手段。但传统的闪烁探测器在进行成像时需采用大量独立的光电倍增管来偶合一组闪烁晶体阵列进行定位分析，而且光电倍增管之间存在有较大面积的探测死区，从而整个探测器成像的体积大、成本高，而且空间分辨率相对较低。
技术实现思路
本专利技术的目的是提出一种伽玛射线探测成像的方法及装置，通过真空电场来本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种伽玛射线探测成像方法，其特征在于该方法包括以下步骤：（１）在闪烁晶体阵列表面蒸镀光电阴极；（２）伽玛射线平行入射到上述闪烁晶体阵列，使晶体内发出闪烁光；（３）上述闪烁光在晶体端面发射时与其表面光电阴极材料作用，产生光电效应而激发出光电子；（４）收集光电子，使光电子沿晶体表面法线方向导出；（５）对上述导出的光电子进行增益放大，收集经放大后的脉冲电压信号；（６）由上述脉冲电压信号，计算伽玛射线的能量和空间位置，伽玛射线的能量正比于脉冲电压信号大小，伽玛射线的空间位置等于脉冲电压信号产生的位置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：谢舒平，刘亚强，谢立平，
申请(专利权)人：谢舒平，刘亚强，谢立平，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]