使用谐振微腔转换器的存储荧光系统技术方案

一种成像系统，包括：透镜；设置在透镜前面的二向色滤光器；和设置在透镜和二向色滤光器之间的高通滤波器。适当的设计调整这种成像系统的各部件，以减少与发荧光物质的宽角度成像相关的成像假象。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术总体涉及一种用于用在射线照相成像系统中的存储荧光屏的读出和检测系统。更具体地，其涉及包括在这种系统中的一种器件，该器件将以宽角分布一个波段从屏幕发出的的电磁辐射转换为较长波段的较窄发射圆锥。
技术介绍
当前，广泛地使用基于存储荧光的辐射照相成像系统(计算机辐射照相)。这些系统使用含有荧光材料的屏幕，该荧光材料存储一部分入射的电离辐射作为潜在的存储位置。随后这些位置受激以与被荧光材料吸收的电离辐射量成比例地释放电磁辐射(受激发射)，该电磁辐射通常在350至450纳米的范围内。用在这些系统中的典型读出方法是所谓的飞点扫描方法。在屏幕表面上方光栅扫描通常在600至700纳米范围内的聚焦激光束以激励存储位置。同步地，收集、检测并数字化该受激发射。由光栅率和数字化率来确定图像的像素尺寸。在读出之后，用擦除光充满屏幕以移除任何残留的存储位置，如此屏幕可被再次使用。在2002年4月16日公布的、专利技术人为Mueller等人的美国专利6,373,074、和2002年1月24日公开的、专利技术人为Arakawa等人的美国专利申请公开2002/0008212A1中描述的可选结构是使用了激本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种存储荧光成像系统，包括：光源，用于产生被导向到存储潜像的存储荧光体的激励辐射；谐振微腔转换器，用于将来自所述存储荧光体的发射的辐射转换为比所述发射的辐射波长长的辐射，但具有比Ｌａｍｂｅｒｔｉａｎ分布窄很多的角亮度分布；和 检测器，用于检测所述较长波长辐射。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：DP特劳埃尔尼希特，KB卡亨，
申请(专利权)人：伊斯曼柯达公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]