【技术实现步骤摘要】
一种THz天线的简易制作方法
本专利技术属于THz天线
,具体涉及一种THz天线的简易制作方法。
技术介绍
传统的THz薄膜天线制作时需要经历光电导材料LT-GaAs腐蚀,电极结构掩膜版设计,光刻,后期处理等步骤,其中LT-GaAs腐蚀时溶液具有一定毒性,操作起来不安全,且成功率较低。光刻步骤中还分为镀金-旋涂光刻胶-前烘-曝光-显影-后烘-等离子刻蚀-酒精洗涤等,周期较长,制作较为复杂。且天线会存在发热问题,或激光功率较大时容易造成薄膜的击穿,成品重复使用率不高。例如,2008年在《AppliedPhysicsLetters》期刊上发表的“Terahertzvibrationalabsorptionspectroscopyusingmicrostrip-linewaveguides”论文(93卷,18期),采用的是腐蚀掉AlAs牺牲层的方法得到350nm后的LT-GaAs薄膜,并将其转移到新衬底上作为光电导天线。牺牲层腐蚀需要使用10%的氢氟酸溶液,有一定毒性,且方法较为复杂,周期长,薄膜易破碎或与基底键合不够紧密。 ...
【技术保护点】
1.一种THz天线的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:/n步骤1、清洗低温GaAs外延片;/n步骤2、将低温GaAs外延片固定在蒸发基板上;/n步骤3、而后将直径200μm的铜线沿外延片的宽度方向或者长度方向的中心线,固定在外延片上,铜线长度贯穿低温GaAs外延片的长度或者宽度;/n步骤4、将低温GaAs外延片放入真空蒸镀机中,在固定铜线的表面上先蒸镀20nm厚的铬层,后蒸镀200nm厚的金层;/n步骤5、取出低温GaAs外延片,再取下其上铜线,蒸镀的金层形成两个电极,得到了THz天线。/n
【技术特征摘要】
1.一种THz天线的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤1、清洗低温GaAs外延片;
步骤2、将低温GaAs外延片固定在蒸发基板上;
步骤3、而后将直径200μm的铜线沿外延片的宽度方向或者长度方向的中心线,固定在外延片上,铜线长度贯穿低温GaAs外延片的长度或者宽度;
步骤4、将低温GaAs外延片放入真空蒸镀机中,在固定铜线的表面上先蒸镀20nm厚的铬层,后蒸镀200nm厚的金层;
步骤5、取出低温GaAs外延片,再取下其上铜线,蒸镀的金层形成两个电极,得到了THz天线。
2.如权利要求1所述的一种THz天线的制作方法,其特征在于,还包括如下步骤:
步骤6、在PCB板上焊接两个电极;将低温GaAs外延片放置在PCB板上,...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴蕊,赵亚平,苏波,
申请(专利权)人:首都师范大学,
类型:发明
国别省市:北京;11
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