提高真空灭弧室击穿电压的试验装置及方法制造方法及图纸

技术编号:26502500 阅读:32 留言:0更新日期:2020-11-27 15:29
一种提高真空灭弧室击穿电压的试验装置及方法,包括直流电源,直流电源用于给真空灭弧室提供直流电,所述的真空灭弧室外部设置纵向磁场提供装置。所述的直流电源的正极输出端设有接触器,所述的接触器用于控制直流回路的通断。本发明专利技术采用纵向磁场控制直流电弧燃弧在阳极表面形成熔化层,有助于增加真空灭弧室的击穿电压;同时控制电弧时间和纵向磁场大小,实现熔化层厚度和均匀度的控制。

【技术实现步骤摘要】
提高真空灭弧室击穿电压的试验装置及方法
本专利技术属于真空灭弧室试验设备领域,特别涉及一种提高真空灭弧室击穿电压的试验装置及方法。
技术介绍
SF6气体优异的灭弧和绝缘性能使其开关设备在72.5kV~1100kV的电压等级中被广泛应用。而SF6气体同时也是一种强温室效应气体,从全球环境保护出发,1997年在日本京都会议上提出的《京都议定书》限制了它的使用。因此,提高真空断路器耐压以实现用真空断路器替代SF6开关成为当前电力设备领域工作者们的研究热点问题。
技术实现思路
鉴于
技术介绍
所存在的技术问题,本专利技术所提供的提高真空灭弧室击穿电压的试验装置及方法,采用纵向磁场控制直流电弧燃弧在阳极表面形成熔化层,有助于增加真空灭弧室的击穿电压;同时控制燃弧时间和纵向磁场大小,实现熔化层厚度和均匀度的控制。为了解决上述技术问题,本专利技术采取了如下技术方案来实现:一种提高真空灭弧室击穿电压的试验装置,包括直流电源,直流电源用于给真空灭弧室提供直流电,所述的真空灭弧室外部设置纵向磁场提供装置。优选的方案中,所述的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种提高真空灭弧室击穿电压的试验装置,包括直流电源,直流电源用于给真空灭弧室提供直流电,其特征在于:所述的真空灭弧室外部设置纵向磁场提供装置。/n

【技术特征摘要】
1.一种提高真空灭弧室击穿电压的试验装置,包括直流电源,直流电源用于给真空灭弧室提供直流电,其特征在于:所述的真空灭弧室外部设置纵向磁场提供装置。


2.根据权利要求1所述的提高真空灭弧室击穿电压的试验装置,其特征在于:直流电源的正极输出端设有接触器,所述的接触器用于控制直流回路的通断。


3.根据权利要求1所述的提高真空灭弧室击穿电压的试验装置,其特征在于:纵向磁场提供装置为励磁装置,励磁装置包括线圈,线圈设置在真空灭弧室外部,线圈由备用直流电源供电。


4.根据权利要求1所述的提高真空灭弧室击穿电压的试验装置,其特征在于:纵向磁场提供装置为永磁体,永磁体设置在真空灭弧室外部。


5.根据权利要求2所述的提高真空灭弧室击穿电压的试验装置...

【专利技术属性】
技术研发人员:李世民孔凡珺张潮海
申请(专利权)人:南京航空航天大学
类型:发明
国别省市:江苏;32

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