【技术实现步骤摘要】
一种处理废气的系统本技术要求2019年6月17日递交的申请号为201920906840.2、名称为“一种湿法处理氮氧化物废气的系统”的技术的优先权。
本技术涉及废气处理领域,特别涉及一种处理废气的系统。
技术介绍
当前,电子工业的主流产品为半导体芯片和显示器件,其生产过程的清洗、化学气相淀积(CVD)等工序会产生氮氧化物(NOX),另外,一些高温氧化过程也会产生NOX。NOX是形成光化学烟雾和酸雨的一个重要原因,NOX还会刺激肺部,长期吸入会严重影响人类健康。吸附法对NOx的脱除效率较高。但由于受吸附剂吸附容量的限制,如果废气中的NOX浓度较高,需要吸附剂的量比较大,且饱和后需要定期更换,因此采用吸附法的处理设备存在设备庞大、成本较高、无法自动控制、运行维护工作量大等问题。另外,吸附剂接近饱和时,处理效率下降,造成处理NOx的效率不稳定。
技术实现思路
本技术提供了一种处理废气的系统。根据本技术的一方面,所提供的系统包括:从上游至下游依次设置的一氧化氮氧化装置11、二氧化氮还原及酸性废气处理装置21。根据本技术的一个实施方式,所述系统还包括进风管路41、排风装置31和排风管路51;所述排风装置31设置在所述二氧化氮还原及酸性废气处理装置21的下游,所述排风管路51设置在所述排风装置31的下游;所述进风管路41设置在所述一氧化氮氧化装置11的上游、并与所述一氧化氮氧化装置11连接。根据本技术的一个实施方式,所述一氧化氮氧化装置11包括外壳1011、喷淋口1201、 ...
【技术保护点】
1.一种处理废气的系统,其特征在于,包括:从上游至下游依次设置的一氧化氮氧化装置和二氧化氮还原及酸性废气处理装置;/n所述系统还包括进风管路、排风装置和排风管路;所述排风装置设置在所述二氧化氮还原及酸性废气处理装置的下游,所述排风管路设置在所述排风装置的下游;所述进风管路设置在所述一氧化氮氧化装置的上游、并与所述一氧化氮氧化装置连接。/n
【技术特征摘要】
20190617 CN 20192090684021.一种处理废气的系统,其特征在于,包括:从上游至下游依次设置的一氧化氮氧化装置和二氧化氮还原及酸性废气处理装置;
所述系统还包括进风管路、排风装置和排风管路;所述排风装置设置在所述二氧化氮还原及酸性废气处理装置的下游,所述排风管路设置在所述排风装置的下游;所述进风管路设置在所述一氧化氮氧化装置的上游、并与所述一氧化氮氧化装置连接。
2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述一氧化氮氧化装置包括外壳、喷淋口、循环液储存器、循环液泵,液位计、氧化还原电位仪、电导率仪,氧化剂供液管、补水管、排污管,用于控制补充氧化剂溶液的第一阀门、用于控制补水的第二阀门、用于控制污水排放的第三阀门、自动控制器,用于氮氧化物废气进入的气体入口、用于排出处理后的废气的气体出口、循环液收集口;
所述外壳内设置有所述喷淋口,所述外壳的上游设置有所述气体入口,下游设置有所述气体出口;所述外壳与所述循环液储存器之间设置有循环液收集口,所述循环液泵将所述循环液储存器内的循环液泵入、并由喷淋口进入到所述外壳中;
所述循环液储存器与所述液位计、所述氧化还原电位仪、所述电导率仪这三者分别连接,所述自动控制器与所述液位计电连接,所述自动控制器与所述第二阀门电连接,所述自动控制器与所述氧化还原电位仪电连接,所述自动控制器与所述第一阀门电连接,所述自动控制器与所述电导率仪电连接,所述自动控制器与第三阀门电连接;所述第一阀门设置在所述氧化剂供液管上,所述第二阀门设置在所述补水管上,所述第三阀门设置在所述排污管上。
3.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述二氧化氮还原及酸性废气处理装置包括外壳、喷淋口、循环液储存器、循环液泵,液位计、氧化还原电位仪、电导率仪、pH值测试仪,还原剂供液管、补水管、排污管、氢氧化钠供液管,用于控制补充还原剂溶液的第一阀门、用于控制补水的第二阀门、用于控制污水排放的第三阀门、用于控制补充氢氧化钠溶液的第四阀门、自动控制器,用于经一氧化氮氧化装置处理后的废气进入的气体入口、用于排出处理后的废气的气体出口、循环液收集口;
所述外壳内设置有所述喷淋口,所述外壳的上游设置有所述气体入口,下游设置有所述气体出口;所述外壳与所述循环液储存器之间设置有循环液收集口,所述循环液泵将所述循环液储存器内的循环液泵入、并由喷淋口进入到所述外壳中;
所述循环液储存器与所述液位计、所述氧化还原电位仪、所述电导率仪、pH值测试仪这四者分别连接,所述自动控制器与所述液位计电连接,所述自动控制器与所述第二阀门电连接,所述自动控制器与所述氧化还原电位仪电连接,所述自动控制器与所述第一阀门电连接,所述自动控制器与所述电导率仪电连接,所述自动控制器与第三阀门电连接,所述自动控制器与所述pH值测试仪电连接,所述自动控制器与第四阀门电连接;所述第一阀门设置在所述还原剂供液管上,所述第二阀门设置在所述补水管上,所述第三阀门设置在所述排污管上,所述第四阀门设置在所述氢氧化钠供液管上。
4.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述二氧化氮还原及酸性废气处理装置包括:从上游至下游依次设置的二氧化氮还原装置以及酸性废气处理装置。
5.根据权利要求4所述的系统,其特征在于,所述排风装置设置在所述酸性废气处理装置的下游。
6.根据权利要求4...
【专利技术属性】
技术研发人员:秦学礼,张群,林东安,徐刚,彭定志,孙孝宏,
申请(专利权)人:世源科技工程有限公司,中国电子工程设计院有限公司,
类型:新型
国别省市:北京;11
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