微器件转移方法和转移装置、以及使用该方法和装置的电子产品制造方法及图纸

技术编号:26483716 阅读:73 留言:0更新日期:2020-11-25 19:31
本发明专利技术的实施例提供了一种微器件转移方法,该方法适用于更多不同的微器件并且能够提高转移效率。微器件转移方法包括以下步骤:以第一速率在第一方向上传送目标基板;定位附接到转移膜的微器件以便面向目标基板的顶部部分,并在第一方向上输送转移膜;在转移膜与被转移到目标基板上的微器件分离之后,使转移膜能够向上弯曲并形成弯曲弧,并使在弯曲弧形成之后被传送的上侧转移膜能够通过在目标基板之上旋转的按压辊而被按压,并使得压力能够被传输到具有附接的微器件且正被输送的下侧转移膜;以及以第二速率在与第一方向相反的第二方向上传送在形成弯曲弧之后被传送的上侧转移膜,并恢复其,其中弯曲弧的第一中心相对于第一方向还在按压辊的第二中心的前面。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】微器件转移方法和转移装置、以及使用该方法和装置的电子产品
本专利技术涉及一种用于转移微器件的方法和装置,以及使用该方法和装置的电子产品,且更具体地,涉及一种用于转移微器件的方法和装置,该方法和装置适用于更多不同的微器件并且能够提高转移效率,以及涉及一种包括通过使用该转移方法转移的微器件的电子产品。
技术介绍
作为替代现有显示器的下一代先进显示器,使用微型LED器件的显示器正在引起关注。为了制造显示器,将微型LED器件转移到电路板的技术是核心。大而厚的元件可以通过其他方法(诸如真空吸盘(vacuumchuck))转移,但是转移具有微米/纳米尺寸的小而薄的元件的方法是受限制的。具有几十微米或更小的微器件可能由于在真空吸盘中生成的压力而被损坏,从而难以使用真空吸盘。作为另一种方法,存在通过使用静电吸盘技术转移器件的方法,但是当该方法应用于薄器件时,该器件可能被静电损坏,并且可能受到器件表面污染物的影响而降低转移性能。由于上述原因,对于具有非常小厚度的薄膜形式的器件,通过使用粘合力转移器件的技术被广泛使用。<br>通常,通过使用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种转移微器件的方法,所述方法包括:/n以第一速率沿第一方向输送目标基板;/n在所述第一方向上供应与微器件结合的转移膜,所述微器件面向所述目标基板的上部部分;/n对所述转移膜加压,所述加压包括向上弯曲与所述微器件分离的所述转移膜以形成弯曲圆弧,并且用在所述目标基板的上侧旋转的加压辊对在形成所述弯曲圆弧之后被输送的上转移膜加压,以将压力传递到与所述微器件结合的下转移膜;和/n通过沿着与所述第一方向相反的第二方向以第二速率输送在形成所述弯曲圆弧之后被输送的所述上转移膜来收集所述上转移膜,/n其中,基于所述第一方向,所述弯曲圆弧的第一中心在所述加压辊的第二中心的前侧。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180416 KR 10-2018-00441041.一种转移微器件的方法,所述方法包括:
以第一速率沿第一方向输送目标基板;
在所述第一方向上供应与微器件结合的转移膜,所述微器件面向所述目标基板的上部部分;
对所述转移膜加压,所述加压包括向上弯曲与所述微器件分离的所述转移膜以形成弯曲圆弧,并且用在所述目标基板的上侧旋转的加压辊对在形成所述弯曲圆弧之后被输送的上转移膜加压,以将压力传递到与所述微器件结合的下转移膜;和
通过沿着与所述第一方向相反的第二方向以第二速率输送在形成所述弯曲圆弧之后被输送的所述上转移膜来收集所述上转移膜,
其中,基于所述第一方向,所述弯曲圆弧的第一中心在所述加压辊的第二中心的前侧。


2.根据权利要求1所述的方法,其中:
所述加压辊的线速度、所述第二速率和所述第一速率相同。


3.根据权利要求1所述的方法,还包括:
第一控制,所述第一控制用于通过在预定时间内调节所述加压辊的线速度来调节所述弯曲圆弧的曲率半径。


4.根据权利要求3所述的方法,其中:
所述第一控制包括第一曲率半径调节,在所述第一曲率半径调节中通过增加所述加压辊的线速度,基于所述第一方向,将所述弯曲圆弧的所述第一中心的位置移动到后侧,来控制所述弯曲圆弧的曲率半径减小,或者通过降低所述加压辊的线速度,基于所述第一方向,将所述弯曲圆弧的所述第一中心的位置移动到前侧,来控制所述弯曲圆弧的曲率半径增加。


5.根据权利要求4所述的方法,其中:
所述第一控制还包括在所述第一曲率半径调节之后的第一速率调节,在所述第一速率调节中所述第一速率和所述第二速率被控制为与在所述第一曲率半径调节中被调节的所述加压辊的线速度相同。


6.根据权利要求1所述的方法,还包括:
第二控制,所述第二控制用于通过在预定时间内调节所述目标基板的第一速率来调节所述弯曲圆弧的曲率半径。


7.根据权利要求6所述的方法,其中:
所述第二控制包括第二曲率半径调节,在所述第二曲率半径调节中通过增加所述目标基板的第一速率,基于所述第一方向,将所述弯曲圆弧的第一中心的位置移动到前侧,来控制所述弯曲圆弧的曲率半径增加,或者通过降低所述目标基板的第一速率,基于所...

【专利技术属性】
技术研发人员:崔炳翊皇甫润金宰玄尹盛煜金昌铉金正烨金敬植金相闵蒋捧钧金光燮
申请(专利权)人:韩国机械研究院
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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