一种超纯铍超真空分子蒸馏系统技术方案

本发明专利技术涉及一种色金属超真空熔炼设备技术领域，具体为一种超纯铍超真空分子蒸馏系统，包括超真空抽气及真空控制单元、设于所述超真空抽气及真空控制单元底部的氧化铍陶瓷坩埚蒸馏单元和加温装置及温控单元；所述超真空抽气单元包括原料贮罐、真空给料模块、成品接收模块以及控制真空的全量程复合真空规A1；所述氧化铍陶瓷坩埚蒸馏单元包括氧化铍坩埚和坩埚支撑座；所述加温装置及温控单元包括低温超真空泵、设于所述低温超真空泵两侧的轻相真空管道、重相真空管道和控制真空的全量程复合真空规A2。本发明专利技术工艺流程短，生产方法简单，制备周期短，所生产的铍金属纯度高，确保生产产品达到5N纯度。

【技术实现步骤摘要】
一种超纯铍超真空分子蒸馏系统
本专利技术涉及有色金属超真空熔炼设备
，特别涉及一种超纯铍超真空分子蒸馏系统。
技术介绍
由于铍金属及氧化铍熔点高，热膨胀系数小,物理及化学稳定性好等特点，是应用于航天航空、核能、军工、芯片封装，红外光学等最理想的材料。铍金属化学性质活泼,熔炼过程中，在高温下极易与其它陶瓷容器及金属容器发生置换反应。从而引入金属、非金属、气体等有害杂质，降低了金属铍锭的纯度。目前国内常用的生产方法有电弧熔炼法，区域熔溶法及感应熔炼法。以上所述方法的不足之处在于：工艺流程长、生产方法复杂、生产周期长、安全环保问题难于解决。制备的金属铍与国外产品在质量上差距巨大。
技术实现思路
针对现有技术中的上述不足，本专利技术提供了一种超纯铍超真空分子蒸馏系统，其生产方法简单，制备周期短，所生产的铍金属纯度高。一种超纯铍超真空分子蒸馏系统，包括超真空抽气及真空控制单元、设于所述超真空抽气及真空控制单元底部的氧化铍陶瓷坩埚蒸馏单元和加温装置及温控单元；所述超真空抽气单元包括原料贮罐、真空给料模块、成品接收模本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种超纯铍超真空分子蒸馏系统，其特征在于，包括超真空抽气及真空控制单元、设于所述超真空抽气及真空控制单元底部的氧化铍陶瓷坩埚蒸馏单元和加温装置及温控单元；/n所述超真空抽气单元包括原料贮罐(2)、真空给料模块(4)、成品接收模块(15)以及控制真空的全量程复合真空规A1(5)，所述原料贮罐(2)的顶部设有给料口(1)，所述原料贮罐(2)的侧面设有视镜(3)，所述真空给料模块(4)和所述全量程复合真空规A1(5)分别设于所述原料贮罐(2)的底部，所述真空给料模块(4)和所述全量程复合真空规A1(5)之间设有粗钵入口(6)，所述粗钵入口(6)上设有原料定量推杆，所述成品接收模块(15)包括氧化...

【技术特征摘要】
1.一种超纯铍超真空分子蒸馏系统，其特征在于，包括超真空抽气及真空控制单元、设于所述超真空抽气及真空控制单元底部的氧化铍陶瓷坩埚蒸馏单元和加温装置及温控单元；
所述超真空抽气单元包括原料贮罐(2)、真空给料模块(4)、成品接收模块(15)以及控制真空的全量程复合真空规A1(5)，所述原料贮罐(2)的顶部设有给料口(1)，所述原料贮罐(2)的侧面设有视镜(3)，所述真空给料模块(4)和所述全量程复合真空规A1(5)分别设于所述原料贮罐(2)的底部，所述真空给料模块(4)和所述全量程复合真空规A1(5)之间设有粗钵入口(6)，所述粗钵入口(6)上设有原料定量推杆，所述成品接收模块(15)包括氧化陶瓷坩埚金属铍接收皿(16)和接收模块温度变送器(24)；
所述氧化铍陶瓷坩埚蒸馏单元包括氧化铍坩埚(10)和坩埚支撑座(9)，所述氧化铍坩埚(10)的顶部连接于所述粗钵入口(6)，所述氧化铍坩埚(10)的两侧分别设有低沸点金属蒸馏出口(25)和高沸点金属蒸馏出口(26)，所述氧化铍坩埚(10)的内部设有蒸馏腔(27)，所述蒸馏腔(27)的外壁设有连体式加热棒插入口(11)和加热温控元件，所述氧化铍坩埚(10)的底部设有温度变送器(8)，所述温度变送器(8)的底部设有成品出口(13)，所述坩埚支撑座(...

【专利技术属性】
技术研发人员：周兴明，
申请(专利权)人：周兴明，
类型：发明
国别省市：云南;53