【技术实现步骤摘要】
一种硅片化学机械精抛抛光液的制备方法
本专利技术涉及电子材料领域，尤其是一种硅片化学机械精抛抛光液的制备方法。
技术介绍
随着现代化电子材料表面质量要求不断提高，电子材料的表面抛光技术也在快速发展，将电子材料在专业化分子量的基础上进行表面抛光，是现阶段获得高质量水平电子材料抛光表面的主要手段之一。化学机械抛光液是化学机械抛光的关键材料。CN106349946A公开了一种绿色无毒化学机械抛光液的制备方法，属于抛光液的制备
本专利技术取稻壳经盐酸浸泡煮沸，再与硅藻土混合进行炭化得到炭化混合物作为磨料粒子，再取稻壳粉碎后用氨水预处理活化，与尿素、硫酸镁等混合，再用纤维素酶水解得到发酵底物，接种米根霉发酵得到混合发酵液作为腐蚀介质，将其与炭化混合物于球磨机中球磨混合得到绿色无毒化学机械抛光液。该专利技术采用天然物质为原料，所得产品无毒环保，磨料粒子与腐蚀介质相容性好，产品分散稳定性较好，可长期存放，具有广阔的市场应用前景。CN109321141B提出了一种制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法，所述制...
【技术保护点】
1.一种硅片化学机械精抛抛光液的制备方法，其方法操作如下：/n按照质量份数，将20-60份的改性纳米二氧化硅溶胶加入到反应釜，然后将0.1-0.56份的表面活性剂加入到50-80份的去离子水中，控温40-60℃搅拌混合20-30min后趁热加入到反应釜中，剧烈搅拌下搅拌分散60-120min；分散均匀后将0.2-0.6份的有机胺加入到反应釜中，控温35-45℃，搅拌20-30min，然后用降温到室温，用0.01-0.05mol/L的氢氧化钠溶液调节 pH值为9-13；加入0.3-2份的螯合剂和3-6份的氧化剂，在20-30℃下搅拌混合120-240min后过滤，即可得到所述...
【技术特征摘要】
1.一种硅片化学机械精抛抛光液的制备方法，其方法操作如下：
按照质量份数，将20-60份的改性纳米二氧化硅溶胶加入到反应釜，然后将0.1-0.56份的表面活性剂加入到50-80份的去离子水中，控温40-60℃搅拌混合20-30min后趁热加入到反应釜中，剧烈搅拌下搅拌分散60-120min；分散均匀后将0.2-0.6份的有机胺加入到反应釜中，控温35-45℃，搅拌20-30min，然后用降温到室温，用0.01-0.05mol/L的氢氧化钠溶液调节pH值为9-13；加入0.3-2份的螯合剂和3-6份的氧化剂，在20-30℃下搅拌混合120-240min后过滤，即可得到所述的一种硅片化学机械精抛抛光液；
所述的改性纳米二氧化硅溶胶为一种有机改性纳米二氧化硅溶胶，其制备方法如下：
按照质量份数，将20-40份的无水乙醇和3-10份的正硅酸乙酯加入到反应釜中，搅拌混合20-50min后将0.8-2.4份的二乙烯三胺和0.5-3.8份的丙烯酸甲酯加入到反应釜中，控温40-60℃，将20-30份的质量份数为5%-15%的氨水缓慢加入到反应釜中，控制在45-90min内加入完毕，加完后缓慢搅拌下反应3-7h，然后将6-10份的3-氨丙基三乙氧基硅烷溶液加入到反应釜中，控温40-60℃，搅拌反应2-6h，完成后即可得到所述的一...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱润栋，王瑶，
申请(专利权)人：泰兴瑞深新材科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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