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本发明涉及电子材料领域，具体关于一种硅片化学机械精抛抛光液的制备方法；本发明制备了一种用于硅片精抛的抛光液，该种抛光液所使用的磨料为一种改性有机改性纳米二氧化硅溶胶，该种改性有机改性纳米二氧化硅溶胶在二氧化硅离子表面接枝了水溶性大分子和3‑...
该专利属于泰兴瑞深新材科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过泰兴瑞深新材科技有限公司授权不得商用。

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