【技术实现步骤摘要】
一种晶圆用一体式清洗设备
本技术涉及一种晶圆用一体式清洗设备。
技术介绍
晶圆在刻蚀完之后会首先通过硫酸清洗,去离子水冲洗,再进行氢氟酸清洗,最后进行去离子水冲洗,传统的做法是流水线操作,各个槽体排列,通过机械臂搬运,其站空间较大,机械臂运行距离远,时间长。
技术实现思路
针对现有技术的不足,本技术提供了一种晶圆用一体式清洗设备。本技术技术方案如下:一种晶圆用一体式清洗设备,包括圆柱形槽体,所述圆柱形槽体均匀分成3个半扇形细分槽体,所述细分槽体包括硫酸清洗槽体,氢氟酸清洗槽体以及去离子水冲洗槽体,所述圆柱形槽体中间设有升降气缸,所述升降气缸的输出轴上设有固定板,所述固定板上设有伺服电机,所述伺服电机的输出轴上连接有晶圆搬运结构,所述晶圆搬运结构上放置有晶圆放置架,所述晶圆放置架上排列有多个晶圆,所述晶圆搬运结构包括设置在伺服电机输出轴上的承载板,对称且横向设置在承载板上的横向支臂,竖直连接在横向支臂下方的下支臂以及设置在下支臂末端的托板。具体地:所述硫酸清洗槽体,氢氟酸清洗槽体以及去离子水冲洗 ...
【技术保护点】
1.一种晶圆用一体式清洗设备,其特征在于:包括圆柱形槽体,所述圆柱形槽体均匀分成3个半扇形细分槽体,所述细分槽体包括硫酸清洗槽体,氢氟酸清洗槽体以及去离子水冲洗槽体,所述圆柱形槽体中间设有升降气缸,所述升降气缸的输出轴上设有固定板,所述固定板上设有伺服电机,所述伺服电机的输出轴上连接有晶圆搬运结构,所述晶圆搬运结构上放置有晶圆放置架,所述晶圆放置架上排列有多个晶圆,所述晶圆搬运结构包括设置在伺服电机输出轴上的承载板,对称且横向设置在承载板上的横向支臂,竖直连接在横向支臂下方的下支臂以及设置在下支臂末端的托板。/n
【技术特征摘要】
1.一种晶圆用一体式清洗设备,其特征在于:包括圆柱形槽体,所述圆柱形槽体均匀分成3个半扇形细分槽体,所述细分槽体包括硫酸清洗槽体,氢氟酸清洗槽体以及去离子水冲洗槽体,所述圆柱形槽体中间设有升降气缸,所述升降气缸的输出轴上设有固定板,所述固定板上设有伺服电机,所述伺服电机的输出轴上连接有晶圆搬运结构,所述晶圆搬运结构上放置有晶圆放置架,...
【专利技术属性】
技术研发人员:魏剑宏,
申请(专利权)人:苏州昂科微电子技术有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。