【技术实现步骤摘要】
一种转接板侧壁互联射频模组的互联工艺
本专利技术涉及半导体
,特别是涉及一种转接板侧壁互联射频模组的互联工艺。
技术介绍
电子半导体行业发展迅速,随着5nm工艺制程的普及,人工智能芯片和微处理器芯片的尺寸越来越小,但是芯片的互联PAD却越来越多,为了使芯片能够跟PCB板做互联,传统的封装方式一般是采用FAN-OUT的方式或者转接板扇出的方式来进行焊接,把密集的PAD通过互联线扇出到面积更大的区域,然后通过BGA焊球或者LGA引脚跟PCB板固定。但是这种互联工艺只考虑到把芯片的焊脚做了再分布,却没有考虑到BGA或者LGA在PCB板上占的面积却几乎没有变化,而伴随着芯片的尺寸变小,终端同样面临相似的趋势,要么终端直接微型化,或者终端上的芯片更密集,功能更全,这就要求芯片在终端PCB上的焊接面积不能太大,很明显现在的扇出工艺不能解决这个问题,同时因为现有芯片普遍厚度不超过400um,而PCB板可以达到几个毫米的厚度,还有较大可利用空间,因此只是用芯片侧壁做互联,能节省的面积有限。
技术实现思路
本 ...
【技术保护点】
1.一种转接板侧壁互联射频模组的互联工艺,其特征在于,包括以下步骤:/n(a)、提供硅片,在硅片上表面形成多个TSV孔,在硅片上表面形成第一钝化层,在第一钝化层上形成至少一层种子层,在种子层上电镀金属,使金属充满TSV孔,抛光去除硅片上表面金属,在硅片上表面形成RDL和焊盘;/n(b)、在硅片上表面临时键合载片,将硅片下表面做减薄处理,使得第一TSV孔的金属在硅片下表面露出,在硅片下表面形成第二钝化层,在硅片下表面形成RDL和焊盘,拆临时键合得到转接板;/n(c)、提供第一电路板,在第一电路板的一面设置焊盘,另一面设置焊球,将焊球进行压扁处理,得到第二电路板;/n(d)、提 ...
【技术特征摘要】
1.一种转接板侧壁互联射频模组的互联工艺,其特征在于,包括以下步骤:
(a)、提供硅片,在硅片上表面形成多个TSV孔,在硅片上表面形成第一钝化层,在第一钝化层上形成至少一层种子层,在种子层上电镀金属,使金属充满TSV孔,抛光去除硅片上表面金属,在硅片上表面形成RDL和焊盘;
(b)、在硅片上表面临时键合载片,将硅片下表面做减薄处理,使得第一TSV孔的金属在硅片下表面露出,在硅片下表面形成第二钝化层,在硅片下表面形成RDL和焊盘,拆临时键合得到转接板;
(c)、提供第一电路板,在第一电路板的一面设置焊盘,另一面设置焊球,将焊球进行压扁处理,得到第二电路板;
(d)、提供带有空腔的第一PCB板,将第二电路板和转接板焊接在PCB板的空腔内,得到第二PCB板;
(e)、提供芯片,将芯片焊接在第二PCB板上方形成导通结构。
2.如权利要求1所述的转接板侧壁互联射频模组的互联工艺,其特征在于,所述步骤(a)TSV孔的直径范围为1um~1000um,深度为10um~1000um。
3.如权利要求1所述的转接板侧壁互联射频模组的互联工艺,其特征在于,所述第一钝化层、第二钝化层的材质均为氧化硅或氮化硅,厚度均为0.01um~100um;所述种子层材质选自钛、铜、铝...
【专利技术属性】
技术研发人员:冯光建,黄雷,高群,
申请(专利权)人:浙江集迈科微电子有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江;33
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