半导体显示衬底的化学清洗设备制造技术

本实用新型专利技术属于半导体衬底技术领域，提供了一种半导体显示衬底的化学清洗设备，包括清洗槽、清洗治具和驱动机构，清洗治具用于放置半导体显示衬底，包括安装框架和多个放置结构，驱动机构用于驱动清洗治具作上下往复直线运动。本实用新型专利技术所提供的半导体显示衬底的化学清洗设备，清洗效率较高。

【技术实现步骤摘要】
半导体显示衬底的化学清洗设备
本技术涉及半导体衬底
，具体涉及一种半导体显示衬底的化学清洗设备。
技术介绍
半导体显示衬底在生产制造过程中需要经过多道清洗工序，例如化学清洗、超声波清洗以及超高压水洗等。化学清洗是将半导体显示衬底浸泡在化学试剂一段时间，以达到清除半导体显示衬底表面的污垢的清洗方法。但是现有的对于半导体显示衬底的化学清洗技术，通常是将多个半导体显示衬底堆叠起来，并在相邻的两个半导体显示衬底之间垫上衬垫以便于化学试剂与半导体衬底接触。利用这种方式清洗半导体显示衬底，清洗时，不仅需要将半导体显示衬底一个一个地在清洗槽中堆叠起来，还需要在相邻的两个半导体显示衬底之间垫上衬垫。而清洗完成后，又需要将半导体显示衬底和衬垫一个一个地从清洗槽中取出，费时费力，最终导致清洗效率较低。
技术实现思路
针对现有技术中的缺陷，本技术的目的是提供一种半导体显示衬底的化学清洗设备，以提高清洗效率。为了实现上述目的，本技术提供一种半导体显示衬底的化学清洗设备，包括清洗槽，还包括清洗治具和驱动机构，所述清洗本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半导体显示衬底的化学清洗设备，包括清洗槽，其特征在于：还包括清洗治具和驱动机构，/n所述清洗治具用于放置半导体显示衬底，包括安装框架和多个放置结构，/n所述放置结构包括两个放置块、夹紧板和夹紧弹簧，两个所述放置块对称设置在所述安装框架的内部的两侧，且两个所述放置块的相对的一侧沿其长度方向分别设置有滑槽，所述夹紧板滑动设置在所述滑槽内，且所述夹紧板的顶部设置有滑杆，所述滑杆通过设置在所述放置块上的滑孔与所述放置块滑动连接，所述夹紧弹簧套设在所述滑杆上、其两端分别与所述夹紧板和所述放置块抵接，/n多个所述放置结构沿纵向依次间隔设置，/n所述驱动机构用于驱动所述清洗治具作上下往复直线运动。/...

【技术特征摘要】
1.一种半导体显示衬底的化学清洗设备，包括清洗槽，其特征在于：还包括清洗治具和驱动机构，
所述清洗治具用于放置半导体显示衬底，包括安装框架和多个放置结构，
所述放置结构包括两个放置块、夹紧板和夹紧弹簧，两个所述放置块对称设置在所述安装框架的内部的两侧，且两个所述放置块的相对的一侧沿其长度方向分别设置有滑槽，所述夹紧板滑动设置在所述滑槽内，且所述夹紧板的顶部设置有滑杆，所述滑杆通过设置在所述放置块上的滑孔与所述放置块滑动连接，所述夹紧弹簧套设在所述滑杆上、其两端分别与所述夹紧板和所述放置块抵接，
多个所述放置结构沿纵向依次间隔设置，
所述驱动机构用于驱动所述清洗治具作上下往复直线运动。


2.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆雄，王文彬，魏航，陶金，周文，
申请(专利权)人：重庆芯洁科技有限公司，
类型：新型
国别省市：重庆;50