半导体显示衬底的化学清洗设备制造技术

本实用新型专利技术属于半导体衬底技术领域，提供了一种半导体显示衬底的化学清洗设备，包括清洗槽、清洗治具和驱动机构，清洗治具用于放置半导体显示衬底，包括安装框架和多个放置结构，驱动机构用于驱动清洗治具作上下往复直线运动。本实用新型专利技术所提供的半导体显示衬底的化学清洗设备，清洗效率较高。

【技术实现步骤摘要】
半导体显示衬底的化学清洗设备
本技术涉及半导体衬底
，具体涉及一种半导体显示衬底的化学清洗设备。
技术介绍
半导体显示衬底在生产制造过程中需要经过多道清洗工序，例如化学清洗、超声波清洗以及超高压水洗等。化学清洗是将半导体显示衬底浸泡在化学试剂一段时间，以达到清除半导体显示衬底表面的污垢的清洗方法。但是现有的对于半导体显示衬底的化学清洗技术，通常是将多个半导体显示衬底堆叠起来，并在相邻的两个半导体显示衬底之间垫上衬垫以便于化学试剂与半导体衬底接触。利用这种方式清洗半导体显示衬底，清洗时，不仅需要将半导体显示衬底一个一个地在清洗槽中堆叠起来，还需要在相邻的两个半导体显示衬底之间垫上衬垫。而清洗完成后，又需要将半导体显示衬底和衬垫一个一个地从清洗槽中取出，费时费力，最终导致清洗效率较低。
技术实现思路
针对现有技术中的缺陷，本技术的目的是提供一种半导体显示衬底的化学清洗设备，以提高清洗效率。为了实现上述目的，本技术提供一种半导体显示衬底的化学清洗设备，包括清洗槽，还包括清洗治具和驱动机构，所述清洗治具用于放置半导体显示衬底，包括安装框架和多个放置结构，所述放置结构包括两个放置块、夹紧板和夹紧弹簧，两个所述放置块对称设置在所述安装框架的内部的两侧，且两个所述放置块的相对的一侧沿其长度方向分别设置有滑槽，所述夹紧板滑动设置在所述滑槽内，且所述夹紧板的顶部设置有滑杆，所述滑杆通过设置在所述放置块上的滑孔与所述放置块滑动连接，所述夹紧弹簧套设在所述滑杆上、其两端分别与所述夹紧板和所述放置块抵接，多个所述放置结构沿纵向依次间隔设置，所述驱动机构用于驱动所述清洗治具作上下往复直线运动。进一步地，两个所述放置块的相向的一侧分别通过伸缩杆与所述安装框架连接，所述伸缩杆上套设有复位弹簧，所述复位弹簧的两端分别与所述放置块和所述安装框架抵接。进一步地，所述夹紧板和所述滑槽的底部均设置有多个万向球。进一步地，所述驱动机构包括两个丝杠螺母结构和驱动电机，两个所述丝杠螺母结构分别设置在所述清洗治具的两侧，且两个所述丝杠螺母结构的螺母分别与所述清洗治具固定连接，所述驱动电机的动力输出端与两个所述丝杠螺母结构的丝杠的动力输入端连接。本技术的有益效果：1、本技术所提供的半导体显示衬底的化学清洗设备，通过设置有放置半导体显示衬底的清洗治具，以便于放置半导体显示衬底，从而提高了清洗效率。2、本技术所提供的半导体显示衬底的化学清洗设备，通过伸缩杆将放置块和安装框架连接，从而可以通过改变伸缩杆的长度进而改变两个放置块的距离，从而适应不同大小的半导体显示衬底，进而提高了化学清洗设备的适应性。另外，通过改变每一个放置结构的两个放置块之间的距离，从而可以同时清洗不同规格的半导体显示衬底，进而进一步提高了化学清洗设备的适应性。3、本技术所提供的半导体显示衬底的化学清洗设备，通过在夹紧板和滑槽的底部具设置有万向球，从而将滑动摩擦变位滚动摩擦，减小了摩擦力，同时利用了球与平面接触面积较小的规律，降低了半导体显示衬底与清洗设备的接触面接，从而提高了清洗效果。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。图1为本技术一实施例提供的半导体显示衬板的化学清洗装置的立体视图；图2为图1所示的半导体显示衬板的化学清洗装置的清洗治具的立体视图；图3为图2所示的清洗治具的俯视图；图4为图3所示的A-A方向的剖视图；图5为图4所示的B处的放大视图。附图标记：1-清洗槽、2-清洗治具、21-安装框架、211-支撑板、212-支撑杆、22-放置结构、221-放置块、2211-滑槽、2212-滑孔、222-夹紧板、2221-滑杆、223-夹紧弹簧、224-伸缩杆、225-复位弹簧、226-万向球、3-驱动机构、31-丝杠螺母结构、32-驱动电机。具体实施方式下面将结合附图对本技术技术方案的实施例进行详细的描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本技术的技术方案，因此只作为示例，而不能以此来限制本技术的保护范围。需要注意的是，除非另有说明，本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本技术所属领域技术人员所理解的通常意义。在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个以上，除非另有明确具体的限定。在本申请中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。如图1-5所示，本技术提供一种半导体显示衬底的化学清洗设备，包括清洗槽1、清洗治具2和驱动机构3。清洗治具2用于放置半导体显示衬底，包括安装框架21和多个用于放置半导体显示衬底的放置结构22。安装框架21包括左右两个支撑板211和多个连接两个支撑板211的支撑杆212。放置结构22包括两个放置块221、夹紧板222和夹紧弹簧223。两个放置块221对称布置在安装框架21的内部的两侧，且两个放置块221的相对的一侧沿其长度方向分别开设有滑槽2211，即左边的放置块221的右侧，右边的放置块221的左侧分别开设有滑槽2211。夹紧板222滑动安装在滑槽2211内，且夹紧板222的顶部布置有滑杆2221，滑杆22本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半导体显示衬底的化学清洗设备，包括清洗槽，其特征在于：还包括清洗治具和驱动机构，/n所述清洗治具用于放置半导体显示衬底，包括安装框架和多个放置结构，/n所述放置结构包括两个放置块、夹紧板和夹紧弹簧，两个所述放置块对称设置在所述安装框架的内部的两侧，且两个所述放置块的相对的一侧沿其长度方向分别设置有滑槽，所述夹紧板滑动设置在所述滑槽内，且所述夹紧板的顶部设置有滑杆，所述滑杆通过设置在所述放置块上的滑孔与所述放置块滑动连接，所述夹紧弹簧套设在所述滑杆上、其两端分别与所述夹紧板和所述放置块抵接，/n多个所述放置结构沿纵向依次间隔设置，/n所述驱动机构用于驱动所述清洗治具作上下往复直线运动。/n

【技术特征摘要】
1.一种半导体显示衬底的化学清洗设备，包括清洗槽，其特征在于：还包括清洗治具和驱动机构，
所述清洗治具用于放置半导体显示衬底，包括安装框架和多个放置结构，
所述放置结构包括两个放置块、夹紧板和夹紧弹簧，两个所述放置块对称设置在所述安装框架的内部的两侧，且两个所述放置块的相对的一侧沿其长度方向分别设置有滑槽，所述夹紧板滑动设置在所述滑槽内，且所述夹紧板的顶部设置有滑杆，所述滑杆通过设置在所述放置块上的滑孔与所述放置块滑动连接，所述夹紧弹簧套设在所述滑杆上、其两端分别与所述夹紧板和所述放置块抵接，
多个所述放置结构沿纵向依次间隔设置，
所述驱动机构用于驱动所述清洗治具作上下往复直线运动。


2.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆雄，王文彬，魏航，陶金，周文，
申请(专利权)人：重庆芯洁科技有限公司，
类型：新型
国别省市：重庆;50