一种原位原子层沉积扫描电子显微镜制造技术

本发明专利技术公开一种原位原子层沉积扫描电子显微镜，涉及原位测试领域，包括机架，所述机架上设置有电镜腔室，所述电镜腔室一侧设置有开口，所述电镜腔室一侧的开口端固定连接有密封阀，所述密封阀远离所述电镜腔室的一侧固定安装有原子层沉积室，所述原子层沉积室远离所述密封阀的一侧固定安装有水平设置的磁力杆，所述磁力杆内活动穿设有磁力杆轴，所述磁力杆轴端部能够水平运动于原子层沉积室或电镜腔室内；所述电镜腔室顶部密封安装有电子枪，所述电镜腔室底部密封连接有分子泵。本发明专利技术能够进行原位原子层沉积的测试，且能对原子层沉积薄膜后材料的微观形貌全程动态监测。

【技术实现步骤摘要】
一种原位原子层沉积扫描电子显微镜
本专利技术涉及原位测试
，特别是涉及一种原位原子层沉积扫描电子显微镜。
技术介绍
原位测试技术的应用对材料学的发展起到了推动作用，材料测试过程中，通过电子显微镜对材料微观形貌进行全程动态监测，能够更深入地揭示各类材料及其制品的微观形貌。工业生产中为了改善各种各样材料的性能，进行表面涂层是应用最广泛的方法之一，目前制备方法主要有物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、溶胶-凝胶法(sol-gel)、原子层沉积(ALD)。其中，原子层沉积技术作为一种特殊的化学气相沉积技术，制备的涂层相比于其他方法具有多种优点。原子层沉积(ALD)技术正逐渐成为了微电子器件制造，半导体领域的必要技术。目前，已有的装置无法进行原位原子层沉积的测试，且不能对原子层沉积薄膜后材料的微观形貌全程动态监测，因此开发原位原子层沉积测试系统，对研究材料薄膜的形貌具有重要意义。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种原位原子层沉积扫描电子显微镜，以解决上述现有技术存在的问题，能够进行原位原子层沉积本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种原位原子层沉积扫描电子显微镜，其特征在于：包括机架，所述机架上设置有电镜腔室，所述电镜腔室一侧设置有开口，所述电镜腔室一侧的开口端固定连接有密封阀，所述密封阀远离所述电镜腔室的一侧固定安装有原子层沉积室，所述原子层沉积室远离所述密封阀的一侧固定安装有水平设置的磁力杆，所述磁力杆内活动穿设有磁力杆轴，所述磁力杆轴端部能够水平运动于原子层沉积室或电镜腔室内；所述电镜腔室顶部密封安装有电子枪，所述电镜腔室底部密封连接有分子泵。/n

【技术特征摘要】
1.一种原位原子层沉积扫描电子显微镜，其特征在于：包括机架，所述机架上设置有电镜腔室，所述电镜腔室一侧设置有开口，所述电镜腔室一侧的开口端固定连接有密封阀，所述密封阀远离所述电镜腔室的一侧固定安装有原子层沉积室，所述原子层沉积室远离所述密封阀的一侧固定安装有水平设置的磁力杆，所述磁力杆内活动穿设有磁力杆轴，所述磁力杆轴端部能够水平运动于原子层沉积室或电镜腔室内；所述电镜腔室顶部密封安装有电子枪，所述电镜腔室底部密封连接有分子泵。


2.根据权利要求1所述的原位原子层沉积扫描电子显微镜，其特征在于：所述机架上固定安装有减震台，所述电镜腔室固定设置于所述减震台上；所述减震台上开设有通孔，所述分子泵通过所述减震台的...

【专利技术属性】
技术研发人员：张跃飞，屠金磊，张泽，
申请(专利权)人：浙江祺跃科技有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33