铜蚀刻废液中过氧化氢的分解装置和废液的处理系统制造方法及图纸

技术编号:26377245 阅读:29 留言:0更新日期:2020-11-19 23:45
本实用新型专利技术涉及一种铜蚀刻废液中过氧化氢的分解装置和废液的处理系统。上述分解装置包括壳体、多个挡板和催化剂填料层。壳体具有容置腔,壳体的壳壁上设有进料口和出料口,进料口和出料口均与容置腔连通;多个挡板均收容于容置腔内,且多个挡板间隔设置并将容置腔分隔成多个格子,每个挡板的一端均开设有连通孔,每相邻两个挡板的连通孔错位设置,靠近进料口的挡板的连通孔设置在挡板远离进料口的一端,靠近出料口的挡板的连通孔设置在挡板远离出料口的一端,以使进入壳体内的铜蚀刻废液依次经每个格子后流出壳体;催化剂填料层设置在每个格子中。上述分解装置能够使过氧化氢安全稳定分解。

【技术实现步骤摘要】
铜蚀刻废液中过氧化氢的分解装置和废液的处理系统
本技术涉及废液处理领域,特别是涉及一种铜蚀刻废液中过氧化氢的分解装置和铜蚀刻废液的处理系统。
技术介绍
光电行业液晶制造工序中的铜蚀刻过程需要使用大量的铜蚀刻液,该铜蚀刻液中含有较高浓度的过氧化氢(15%~25%,质量分数),当蚀刻液的过氧化氢浓度降低至蚀刻效率达不到要求后就成为铜蚀刻废液,该废液中过氧化氢浓度仍然很高,其含量约为5%~20%(质量分数),同时含有3g/L~5g/L的铜离子。该种铜蚀刻废液产量巨大,但是处理起来却存在很多问题,主要表现在:该废液含大量的过氧化氢(5%~20%,质量分数)及一定量的铜离子(3g/L~5g/L),铜离子会加速过氧化氢的分解,若不及时处理或处理不当,过氧化氢会发生剧烈分解,出现冒罐甚至爆炸的现象,存在巨大的安全隐患。传统的铜蚀刻废液的处理技术及装置无法解决废液中因过氧化氢浓度过高导致不可控剧烈分解,从而出现冒罐或爆炸安全隐患的问题。
技术实现思路
基于此,有必要提供一种使铜蚀刻废液中的过氧化氢安全分解的分解装置。此外,还提供一种铜蚀刻废液的处理系统。一种铜蚀刻废液中过氧化氢的分解装置,包括:壳体,所述壳体具有容置腔,所述壳体的壳壁上设有进料口和出料口,所述进料口和所述出料口均与所述容置腔连通;多个挡板,多个所述挡板均收容于所述容置腔内,且多个所述挡板间隔设置,多个所述挡板将所述容置腔分隔成多个格子,每个所述挡板的一端均开设有连通孔以供铜蚀刻废液流过,每相邻两个所述挡板的所述连通孔错位设置,靠近所述进料口的所述挡板的所述连通孔设置在所述挡板远离所述进料口的一端,靠近所述出料口的所述挡板的所述连通孔设置在所述挡板远离所述出料口的一端,以使进入所述壳体内的铜蚀刻废液依次经每个所述格子后流出所述壳体;及催化剂填料层,所述催化剂填料层设置在每个所述格子中,且所述催化剂填料层能够对铜蚀刻废液中的过氧化氢进行分解。上述铜蚀刻废液中过氧化氢的分解装置中,催化剂填料层能够对铜蚀刻废液中的过氧化氢进行分解,并有效控制过氧化氢的分解速度。另外,通过在壳体中设置多个挡板,多个挡板将壳体的容置腔分隔为多个格子,相邻两个挡板的连通孔错位设置,且催化剂填料层设置在每个格子中,使得进入分解装置中的铜蚀刻废液依次经过每个格子中的催化剂填料层进行催化,提高催化效率,且避免铜蚀刻废液从进料口进入后直接从出料口排出而未进行有效分解。因此,上述分解装置能够使铜蚀刻废液中的过氧化氢进行安全稳定分解,避免不及时处理或处理不当,过氧化氢会发生剧烈分解。在其中一个实施例中,还包括盖体,所述盖体能够盖设在所述壳体的顶端并遮蔽所述壳体的顶端,且所述盖体与所述壳体可拆卸连接。在其中一个实施例中,所述盖体设有排气口和排气阀,所述排气口与所述壳体的所述容置腔连通,所述排气阀设在所述排气口处。在其中一个实施例中,所述进料口和所述出料口均设置在所述壳体的侧壁上,且靠近所述壳体的顶端,所述挡板有五个,从靠近所述进料口到靠近所述出料口的方向,五个所述挡板依次命名为第一挡板、第二挡板、第三挡板、第四挡板及第五挡板,所述第一挡板和所述第五挡板远离所述连通孔的一端与所述盖体间隔,且所述第一挡板和所述第五挡板远离所述连通孔的一端较所述进料口和所述出料口更靠近所述壳体的顶端,所述第三挡板远离所述连通孔的一端与所述盖体抵接,所述第二挡板和所述第四挡板远离所述连通孔的一端与所述壳体的底壁抵接。一种铜蚀刻废液的处理系统,包括上述分解装置。在其中一个实施例中,所述铜蚀刻废液的处理系统还包括:缓冲罐,所述缓冲罐能够承装铜蚀刻废液,且所述缓冲罐中的铜蚀刻废液能够进入所述分解装置中;pH调节池,所述pH调节池能够对所述分解装置处理后的铜蚀刻废液的pH进行调节;单蒸釜,所述单蒸釜能够对所述pH调节池处理后的铜蚀刻废液进行蒸馏;冷凝装置,所述冷凝装置与所述单蒸釜连通,铜蚀刻废液经所述单蒸釜蒸馏后的蒸汽能够进入所述冷凝装置中;浓缩液槽,铜蚀刻废液经所述单蒸釜蒸馏后的液体能够进入所述浓缩液槽中;等离子体尾气处理设备,所述等离子体尾气处理设备能够对所述分解装置、所述pH调节池、所述冷凝装置及所述浓缩液槽中产生的尾气进行处理;喷淋吸收塔,所述喷淋吸收塔与所述等离子体尾气处理设备连通,所述喷淋吸收塔能够对所述等离子体尾气处理设备处理后的气体进行吸收。在其中一个实施例中,还包括尾气管道,所述尾气管道的一端与所述分解装置、所述pH调节池、所述冷凝装置及所述浓缩液槽均连通,所述尾气管道的另一端与所述等离子体尾气处理设备连通,以将所述分解装置、所述pH调节池、所述冷凝装置及所述浓缩液槽中产生的尾气输送至所述等离子体尾气处理设备中。在其中一个实施例中,所述冷凝装置包括连通的换热器和冷凝水池,所述换热器与所述单蒸釜连通,铜蚀刻废液经所述单蒸釜蒸馏后的蒸汽能够进入所述换热器中进行冷凝,然后进入所述冷凝水池中储存。在其中一个实施例中,还包括动力装置,所述动力装置包括计量泵、两个稠浆泵和引风机,所述计量泵能够将所述缓冲罐中的铜蚀刻废液泵入所述分解装置中,所述稠浆泵中的一个能够将所述pH调节池处理后的铜蚀刻废液泵入所述单蒸釜中,另一个能够将所述单蒸釜中蒸馏后的铜蚀刻废液泵入所述浓缩液槽中,所述引风机与所述喷淋吸收塔连通,所述引风机能够将所述等离子体尾气处理设备处理后的尾气引入所述喷淋吸收塔中。在其中一个实施例中,所述喷淋吸收塔有多个,多个所述喷淋吸收塔依次串联。附图说明图1为一实施方式的铜蚀刻废液中过氧化氢的分解装置的示意图;图2为一实施方式的铜蚀刻废液的处理系统的示意图。具体实施方式为了便于理解本技术,下面将参照相关附图对本技术进行更全面的描述。附图中给出了本技术的较佳的实施例。但是本技术可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施例。相反地,提供这些实施例的目的是使对本技术的公开内容的理解更加透彻全面。需要说明的是,当元件被称为“固定于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体地实施例的目的,不是旨在于限制本技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。请参阅图1,一实施方式的铜蚀刻废液中过氧化氢的分解装置100,包括:壳体110、多个挡板120及催化剂填料层130。其中,壳体110具有容置腔112,壳体110的壳壁上设有进料口114和出料口116,进料口11本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种铜蚀刻废液中过氧化氢的分解装置,其特征在于,包括:/n壳体,所述壳体具有容置腔,所述壳体的壳壁上设有进料口和出料口,所述进料口和所述出料口均与所述容置腔连通;/n多个挡板,多个所述挡板均收容于所述容置腔内,且多个所述挡板间隔设置,多个所述挡板将所述容置腔分隔成多个格子,每个所述挡板的一端均开设有连通孔以供铜蚀刻废液流过,每相邻两个所述挡板的所述连通孔错位设置,靠近所述进料口的所述挡板的所述连通孔设置在所述挡板远离所述进料口的一端,靠近所述出料口的所述挡板的所述连通孔设置在所述挡板远离所述出料口的一端,以使进入所述壳体内的铜蚀刻废液依次经每个所述格子后流出所述壳体;及/n催化剂填料层,所述催化剂填料层设置在每个所述格子中,且所述催化剂填料层能够对铜蚀刻废液中的过氧化氢进行分解。/n

【技术特征摘要】
1.一种铜蚀刻废液中过氧化氢的分解装置,其特征在于,包括:
壳体,所述壳体具有容置腔,所述壳体的壳壁上设有进料口和出料口,所述进料口和所述出料口均与所述容置腔连通;
多个挡板,多个所述挡板均收容于所述容置腔内,且多个所述挡板间隔设置,多个所述挡板将所述容置腔分隔成多个格子,每个所述挡板的一端均开设有连通孔以供铜蚀刻废液流过,每相邻两个所述挡板的所述连通孔错位设置,靠近所述进料口的所述挡板的所述连通孔设置在所述挡板远离所述进料口的一端,靠近所述出料口的所述挡板的所述连通孔设置在所述挡板远离所述出料口的一端,以使进入所述壳体内的铜蚀刻废液依次经每个所述格子后流出所述壳体;及
催化剂填料层,所述催化剂填料层设置在每个所述格子中,且所述催化剂填料层能够对铜蚀刻废液中的过氧化氢进行分解。


2.根据权利要求1所述的分解装置,其特征在于,还包括盖体,所述盖体能够盖设在所述壳体的顶端并遮蔽所述壳体的顶端,且所述盖体与所述壳体可拆卸连接。


3.根据权利要求2所述的分解装置,其特征在于,所述盖体设有排气口和排气阀,所述排气口与所述壳体的所述容置腔连通,所述排气阀设在所述排气口处。


4.根据权利要求2所述的分解装置,其特征在于,所述进料口和所述出料口均设置在所述壳体的侧壁上,且靠近所述壳体的顶端,所述挡板有五个,从靠近所述进料口到靠近所述出料口的方向,五个所述挡板依次命名为第一挡板、第二挡板、第三挡板、第四挡板及第五挡板,所述第一挡板和所述第五挡板远离所述连通孔的一端与所述盖体间隔,且所述第一挡板和所述第五挡板远离所述连通孔的一端较所述进料口和所述出料口更靠近所述壳体的顶端,所述第三挡板远离所述连通孔的一端与所述盖体抵接,所述第二挡板和所述第四挡板远离所述连通孔的一端与所述壳体的底壁抵接。


5.一种铜蚀刻废液的处理系统,其特征在于,包括:权利要求1~4任一项所述的分解装置。


6.根据权利要求5所述的铜蚀刻废液的处理系统,其特征在于,所述铜蚀刻废液的处理系统还包括:
缓冲罐,所述缓冲罐能够承装...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴文彪龙江李雯
申请(专利权)人:东江环保股份有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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