【技术实现步骤摘要】
铜蚀刻废液中过氧化氢的分解装置和废液的处理系统
本技术涉及废液处理领域,特别是涉及一种铜蚀刻废液中过氧化氢的分解装置和铜蚀刻废液的处理系统。
技术介绍
光电行业液晶制造工序中的铜蚀刻过程需要使用大量的铜蚀刻液,该铜蚀刻液中含有较高浓度的过氧化氢(15%~25%,质量分数),当蚀刻液的过氧化氢浓度降低至蚀刻效率达不到要求后就成为铜蚀刻废液,该废液中过氧化氢浓度仍然很高,其含量约为5%~20%(质量分数),同时含有3g/L~5g/L的铜离子。该种铜蚀刻废液产量巨大,但是处理起来却存在很多问题,主要表现在:该废液含大量的过氧化氢(5%~20%,质量分数)及一定量的铜离子(3g/L~5g/L),铜离子会加速过氧化氢的分解,若不及时处理或处理不当,过氧化氢会发生剧烈分解,出现冒罐甚至爆炸的现象,存在巨大的安全隐患。传统的铜蚀刻废液的处理技术及装置无法解决废液中因过氧化氢浓度过高导致不可控剧烈分解,从而出现冒罐或爆炸安全隐患的问题。
技术实现思路
基于此,有必要提供一种使铜蚀刻废液中的过氧化氢安全分解的分解装置。此外,还提供一种铜蚀刻废液的处理系统。一种铜蚀刻废液中过氧化氢的分解装置,包括:壳体,所述壳体具有容置腔,所述壳体的壳壁上设有进料口和出料口,所述进料口和所述出料口均与所述容置腔连通;多个挡板,多个所述挡板均收容于所述容置腔内,且多个所述挡板间隔设置,多个所述挡板将所述容置腔分隔成多个格子,每个所述挡板的一端均开设有连通孔以供铜蚀刻废液流过,每相邻两个所述挡 ...
【技术保护点】
1.一种铜蚀刻废液中过氧化氢的分解装置,其特征在于,包括:/n壳体,所述壳体具有容置腔,所述壳体的壳壁上设有进料口和出料口,所述进料口和所述出料口均与所述容置腔连通;/n多个挡板,多个所述挡板均收容于所述容置腔内,且多个所述挡板间隔设置,多个所述挡板将所述容置腔分隔成多个格子,每个所述挡板的一端均开设有连通孔以供铜蚀刻废液流过,每相邻两个所述挡板的所述连通孔错位设置,靠近所述进料口的所述挡板的所述连通孔设置在所述挡板远离所述进料口的一端,靠近所述出料口的所述挡板的所述连通孔设置在所述挡板远离所述出料口的一端,以使进入所述壳体内的铜蚀刻废液依次经每个所述格子后流出所述壳体;及/n催化剂填料层,所述催化剂填料层设置在每个所述格子中,且所述催化剂填料层能够对铜蚀刻废液中的过氧化氢进行分解。/n
【技术特征摘要】
1.一种铜蚀刻废液中过氧化氢的分解装置,其特征在于,包括:
壳体,所述壳体具有容置腔,所述壳体的壳壁上设有进料口和出料口,所述进料口和所述出料口均与所述容置腔连通;
多个挡板,多个所述挡板均收容于所述容置腔内,且多个所述挡板间隔设置,多个所述挡板将所述容置腔分隔成多个格子,每个所述挡板的一端均开设有连通孔以供铜蚀刻废液流过,每相邻两个所述挡板的所述连通孔错位设置,靠近所述进料口的所述挡板的所述连通孔设置在所述挡板远离所述进料口的一端,靠近所述出料口的所述挡板的所述连通孔设置在所述挡板远离所述出料口的一端,以使进入所述壳体内的铜蚀刻废液依次经每个所述格子后流出所述壳体;及
催化剂填料层,所述催化剂填料层设置在每个所述格子中,且所述催化剂填料层能够对铜蚀刻废液中的过氧化氢进行分解。
2.根据权利要求1所述的分解装置,其特征在于,还包括盖体,所述盖体能够盖设在所述壳体的顶端并遮蔽所述壳体的顶端,且所述盖体与所述壳体可拆卸连接。
3.根据权利要求2所述的分解装置,其特征在于,所述盖体设有排气口和排气阀,所述排气口与所述壳体的所述容置腔连通,所述排气阀设在所述排气口处。
4.根据权利要求2所述的分解装置,其特征在于,所述进料口和所述出料口均设置在所述壳体的侧壁上,且靠近所述壳体的顶端,所述挡板有五个,从靠近所述进料口到靠近所述出料口的方向,五个所述挡板依次命名为第一挡板、第二挡板、第三挡板、第四挡板及第五挡板,所述第一挡板和所述第五挡板远离所述连通孔的一端与所述盖体间隔,且所述第一挡板和所述第五挡板远离所述连通孔的一端较所述进料口和所述出料口更靠近所述壳体的顶端,所述第三挡板远离所述连通孔的一端与所述盖体抵接,所述第二挡板和所述第四挡板远离所述连通孔的一端与所述壳体的底壁抵接。
5.一种铜蚀刻废液的处理系统,其特征在于,包括:权利要求1~4任一项所述的分解装置。
6.根据权利要求5所述的铜蚀刻废液的处理系统,其特征在于,所述铜蚀刻废液的处理系统还包括:
缓冲罐,所述缓冲罐能够承装...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴文彪,龙江,李雯,
申请(专利权)人:东江环保股份有限公司,
类型:新型
国别省市:广东;44
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