【技术实现步骤摘要】
一种TFT镀膜装置
本专利技术涉及镀膜装置领域,具体为一种TFT镀膜装置。
技术介绍
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法,称为真空镀膜。通常,我们使用的TFT镀膜装置是采用磁控溅射的方法对TFT基板进行镀膜,但是用于基板固定的支架不能够上下移动,可能导致基板因偏离磁场而造成镀膜不均的现象,并且,在镀膜时经常会因为温度较高产生液晶气泡。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种TFT镀膜装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种TFT镀膜装置,包括镀膜装置本体,所述镀膜装置本体的上端螺纹连接有螺纹杆,所述螺纹杆的下端穿过限位孔固定连接有卡块,所述卡块的外表面通过限位槽活动卡接在限位块内,所述限位块的外表面固定连接有支架,所述支架的外表面固定连接有环套,所述环套的内部活动套接有限位杆,所述限位杆的上端固定连接有镀膜装置本体,所述镀膜装置本体的上端通过螺纹槽螺纹连接有螺纹套;所述支架的内部通过卡槽活动卡接有TFT基板。优选的,所述镀膜装置本体的内部设有制冷管,所述制冷管的一端固定连接有水箱,所述制冷管的另一端固定连接有水泵,所述水泵的下端吸附连接有水箱,所述水箱 ...
【技术保护点】
1.一种TFT镀膜装置,包括镀膜装置本体(4),其特征在于:所述镀膜装置本体(4)的上端螺纹连接有螺纹杆(15),所述螺纹杆(15)的下端穿过限位孔(23)固定连接有卡块(24),所述卡块(24)的外表面通过限位槽(22)活动卡接在限位块(21)内,所述限位块(21)的外表面固定连接有支架(12),所述支架(12)的外表面固定连接有环套(11),所述环套(11)的内部活动套接有限位杆(3),所述限位杆(3)的上端固定连接有镀膜装置本体(4),所述镀膜装置本体(4)的上端通过螺纹槽(19)螺纹连接有螺纹套(20);/n所述支架(12)的内部通过卡槽(13)活动卡接有TFT基板(14)。/n
【技术特征摘要】
1.一种TFT镀膜装置,包括镀膜装置本体(4),其特征在于:所述镀膜装置本体(4)的上端螺纹连接有螺纹杆(15),所述螺纹杆(15)的下端穿过限位孔(23)固定连接有卡块(24),所述卡块(24)的外表面通过限位槽(22)活动卡接在限位块(21)内,所述限位块(21)的外表面固定连接有支架(12),所述支架(12)的外表面固定连接有环套(11),所述环套(11)的内部活动套接有限位杆(3),所述限位杆(3)的上端固定连接有镀膜装置本体(4),所述镀膜装置本体(4)的上端通过螺纹槽(19)螺纹连接有螺纹套(20);
所述支架(12)的内部通过卡槽(13)活动卡接有TFT基板(14)。
2.根据权利要求1所述的一种TFT镀膜装置,其特征在于:所述镀膜装置本体(4)的内部设有制冷管(10),所述制冷管(10...
【专利技术属性】
技术研发人员:汪奇,董连党,卢佩轩,马莉莉,舒滔,
申请(专利权)人:安徽诚志显示玻璃有限公司,
类型:发明
国别省市:安徽;34
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