一种微光大理石抛光瓷片的制造方法技术

本发明专利技术提供了一种微光大理石抛光瓷片的制造方法，包括步骤素坯经淋底釉→淋柔光面釉→喷墨印花与喷印剥开墨水→淋亚光透明釉→烧成→抛光→成品。本发明专利技术利用剥开墨水剥开亚光透明釉形成的凹陷大理石纹理，因釉面其本身是亚光的，在抛光后，抛面光泽强，凹陷大理石纹保留了原有板面亚光效果，抛面与凹陷大理石纹形成较强的光泽差，对比之下凹陷大理石纹呈微光状。本发明专利技术相比原有的在有光透明釉上喷印下陷墨水形成的大理石纹效果，更接近于天然大理石细裂纹效果，大理石纹理做得更加细腻；合理调配柔光面釉与亚光透明釉的烧成温度、光泽度，防止了凹陷大理石纹理藏蜡而导致的吸污问题。

【技术实现步骤摘要】
一种微光大理石抛光瓷片的制造方法
本专利技术属于陶瓷建筑装饰材料领域，具体涉及一种微光大理石抛光瓷片的制造方法。
技术介绍
瓷片是瓷砖中的一种陶质砖，有内墙砖、釉面砖等多种叫法。瓷片属于陶质砖，吸水率在10％～20％间，目前市面上吸水率普遍在16％左右，主要使用场所是室内。瓷砖都追求天然大理石纹理与效果，天然大理石经雨水的侵蚀其岩层的结合部会形成过渡纹或裂纹。在抛光过程中，过渡纹略有凹陷没抛到位或本身存在裂纹，在凹陷处或裂纹处与平面位就存在光泽差，形成一种自然的凹线纹。大理石瓷砖效果仿的就是大理石的凹线效果，其与图案纹理自然融合，手摸瓷砖表面光滑中又有阻滞感。专利号CN106336247A公开了一种具凹线条的抛光瓷片的制造方法，其采用喷墨印花与喷印下陷墨水各采用一台喷墨机，其工艺流程是素坯经淋底釉→淋面釉→喷墨印花→淋透明釉→喷印下陷墨水→烧成→抛光→成品。其瓷片表面的大理石纹理是淋透明釉后喷印下陷墨水而产生的，此方法可以生产大理石纹理，但也存在缺陷。一方面一台喷墨机专用于打印下陷墨水，等于多增加一台喷墨机的成本，而且这台喷墨机没有最大化利用，且两台喷墨机共线生产存在花纹对位问题；另一方面利用下陷墨水做的大理石纹是基于有光面釉有光透明釉制作而成，其大理石纹与平面部位的光泽差不够大，下陷墨水靠腐蚀釉而成下陷，灰度细没腐蚀效果，灰度宽易扩开，所以形成的大理石纹不够精细。
技术实现思路
针对现有大理石纹抛光瓷片制造方法存在的不足，本专利技术的目的在于提供一种微光大理石抛光瓷片的制造方法，包括步骤素坯经淋底釉→淋柔光面釉→喷墨印花与喷印剥开墨水→淋亚光透明釉→烧成→抛光→成品，工艺简单、容易控制，大理石纹理更加细腻。为实现上述目的，本专利技术提供的技术方案如下：一种微光大理石抛光瓷片的制造方法，包括如下步骤：S1.素坯经淋底釉；S2.施柔光面釉；所述柔光面釉原料按重量百分比计为：熔块71～90％、硅酸锆2～15％、煅烧高岭土0～5％、气刀土4～8％、甲基纤维素0.1～0.4％、三聚磷酸钠0.2～0.6％；所述熔块原料按重要百分比计如下：方解石10～14％、碳酸钡12～18％、钾长石32～40％、氧化锌4.5～7％、高岭土12～17％、硼酸钙4～7％、纯碱1～3％、石英砂9～11％；S3.喷墨印花与喷印剥开墨水，喷墨印花与喷印剥开墨水采用一台喷墨机完成；S4.施亚光透明釉；所述亚光透明釉原料按重量百分比计为：熔块80～93％、煅烧氧化锌3～11％、气刀土4～8％、甲基纤维素0.1～0.4％、三聚磷酸钠0.2～0.6％；所述熔块原料按重要百分比计如下：方解石13～17％、碳酸钡10～14％、碳酸锶1～3％、钾长石20～26％、高岭土23～27％、纯碱1.5～4％、石英砂15～19％、白云石2～5％；S5.烧成，烧成温度1050～1200℃、烧成周期40～60分钟；S6.经抛光、磨边得到微光大理石抛光瓷片。本专利技术采用喷墨印花与喷印剥开墨水后淋一层亚光透明釉，利用剥开墨水剥开亚光透明釉形成凹陷大理石纹理，该亚光透明釉烧成后光泽度为5～20°，经抛光后釉面光泽度达到80～95°，喷印剥开墨水位置呈凹陷状态光泽度5～20°，抛面与凹陷大理石纹形成较强的光泽差，呈微光状态，此方法制得的微光大理石效果更接近于天然大理石细裂纹效果。本专利技术在喷墨印花与喷印剥开墨水之前淋有一层柔光面釉，该釉烧成后光泽度为15～35°，该釉层除了具有隔水增白、使釉更平功能外；柔光面釉的光泽度略高于亚光透明釉，烧成温度比亚光透明釉略低5℃；当剥开墨水剥开亚光透明釉形成凹槽立壁时，因为柔光面釉熔融温度略低于亚光透明釉，凹槽立壁会部分软化熔入柔光面釉，这保证剥开墨水剥开亚光透明釉时形成的凹槽不会太立，成倾斜状。剥开墨水剥开亚光透明釉有时呈裂纹状或凹槽太立，当凹陷部位出现裂纹状或凹槽太立时，在抛光打蜡时凹陷部位会藏蜡，藏蜡的部位在抗污试验会吸墨与吸附水泥，导致防污不过关。本专利技术的柔光面釉与亚光透明釉烧成温度、光泽度搭配形成的凹陷纹理立面成倾斜状，防止形成的微光大理石纹理吸污。在本专利技术中，优选地，硅酸锆本身在其生产合成过程中已经焙烧过，并进行了漂洗净化除钛、铁杂质等。在本专利技术中，优选地，S3所述的印花为喷墨印花、辊筒印花、丝网印花中的一种或两种以上混合。具体印花操作可采用本领域常规技术手段，优选喷墨印花。在本专利技术中，优选地，所述柔光面釉的化学组成为：SiO2为44～51％、Al2O3为11～15％、MgO为0.1～0.4％、CaO为6.4～8％、Na2O为0.8～2.4％、K2O为3.4～4.2％、ZrO2为1.0～10％、BaO为8.4～14.3％、B2O3为1.6～3.2％、ZnO为4.2～6.2％，灼减为1.0～1.6％。在本专利技术中，优选地，所述柔光面釉采用的熔块的化学组成为：SiO2为45～53％、Al2O3为9～14％、MgO为0.1～0.4％、CaO为7～10.5％、Na2O为1.0～3.0％、K2O为3.5～5％、BaO为10～16％、ZnO为5.0～8.0％、B2O3为2.0～4.0％、TiO2为0.0～0.3％、Fe2O3为0.0～0.3％。在本专利技术中，优选地，所述亚光透明釉化学组成为：SiO2为48～53％、Al2O3为13.5～15％、MgO为0.8～1.5％、CaO为7.3～11.7％、Na2O为1.0～2.4％、K2O为2.9～3.5％、SrO2为0.8～2.4％、BaO为7.7～11.6％、ZnO为3～11％，灼减为0.9～1.5％，Fe2O3+TiO2小于0.5％。在本专利技术中，优选地，所述亚光透明釉采用的熔块的化学组成为：SiO2为51～58％、Al2O3为13～15.5％、MgO为0.9～1.7％、CaO为8.5～13％、Na2O为1.1～2.8％、K2O为3～4％、SrO2为1～2.6％、BaO为9～13％、灼减为0.～0.3％，Fe2O3+TiO2小于0.5％。上述柔光面釉和亚光透明釉的原料选择和采用的熔块的原料选择，均是针对本专利技术柔光面釉层和亚光透明釉层需达到的技术效果设置的，原料组分间是相互配合的。本专利技术的柔光面釉和亚光透明釉的原料选择和含量设置，是专利技术人经过长期的理论研究和实验调整获得的，原料各组分间相互配合，使得柔光面釉与亚光透明釉烧成温度、光泽度搭配形成的凹陷纹理立面成倾斜状，防止形成的微光大理石纹理吸污。在本专利技术中，优选地，所述柔光面釉和亚光透明釉的制备方法为：将原料混合均匀，然后加入水球磨8～12小时，得到釉浆，釉浆过筛球磨得釉料，釉料过80～120目筛，然后陈腐12～48小时备用。具体地，所述水的加入量为干料重量的38～40％，釉浆过筛球磨的工艺为：釉浆先过80～120目筛，再用300～350目筛过筛，筛余控制在0.1～0.6％，视最终筛余情况进一步球磨。筛余大时加大球磨时间，筛余小时减少球磨时间。釉料粉碎过细，则釉浆粘力过大，含水量过多，在干燥的坯体施釉后，釉面容易发生龟本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种微光大理石抛光瓷片的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：/nS1.素坯经淋底釉；/nS2.施柔光面釉；/n所述柔光面釉原料按重量百分比计为：熔块71～90％、硅酸锆2～15％、煅烧高岭土0～5％、气刀土4～8％、甲基纤维素0.1～0.4％、三聚磷酸钠0.2～0.6％；所述熔块原料按重要百分比计如下：方解石10～14％、碳酸钡12～18％、钾长石32～40％、氧化锌4.5～7％、高岭土12～17％、硼酸钙4～7％、纯碱1～3％、石英砂9～11％；/nS3.喷墨印花与喷印剥开墨水，喷墨印花与喷印剥开墨水采用一台喷墨机完成；/nS4.施亚光透明釉；/n所述亚光透明釉原料按重量百分比计为：熔块80～93％、煅烧氧化锌3～11％、气刀土4～8％、甲基纤维素0.1～0.4％、三聚磷酸钠0.2～0.6％；所述熔块原料按重要百分比计如下：方解石13～17％、碳酸钡10～14％、碳酸锶1～3％、钾长石20～26％、高岭土23～27％、纯碱1.5～4％、石英砂15～19％、白云石2～5％；/nS5.烧成，烧成温度1050～1200℃、烧成周期40～60分钟；/nS6.经抛光、磨边得到微光大理石抛光瓷片。/n...

【技术特征摘要】
1.一种微光大理石抛光瓷片的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：
S1.素坯经淋底釉；
S2.施柔光面釉；
所述柔光面釉原料按重量百分比计为：熔块71～90％、硅酸锆2～15％、煅烧高岭土0～5％、气刀土4～8％、甲基纤维素0.1～0.4％、三聚磷酸钠0.2～0.6％；所述熔块原料按重要百分比计如下：方解石10～14％、碳酸钡12～18％、钾长石32～40％、氧化锌4.5～7％、高岭土12～17％、硼酸钙4～7％、纯碱1～3％、石英砂9～11％；
S3.喷墨印花与喷印剥开墨水，喷墨印花与喷印剥开墨水采用一台喷墨机完成；
S4.施亚光透明釉；
所述亚光透明釉原料按重量百分比计为：熔块80～93％、煅烧氧化锌3～11％、气刀土4～8％、甲基纤维素0.1～0.4％、三聚磷酸钠0.2～0.6％；所述熔块原料按重要百分比计如下：方解石13～17％、碳酸钡10～14％、碳酸锶1～3％、钾长石20～26％、高岭土23～27％、纯碱1.5～4％、石英砂15～19％、白云石2～5％；
S5.烧成，烧成温度1050～1200℃、烧成周期40～60分钟；
S6.经抛光、磨边得到微光大理石抛光瓷片。


2.根据权利要求1所述微光大理石抛光瓷片的制造方法，其特征在于，所述柔光面釉的化学组成为：SiO2为44～51％、Al2O3为11～15％、MgO为0.1～0.4％、CaO为6.4～8％、Na2O为0.8～2.4％、K2O为3.4～4.2％、ZrO2为1.0～10％、BaO为8.4～14.3％、B2O3为1.6～3.2％、ZnO为4.2～6.2％，灼减为1.0～1.6％。


3.根据权利要求1所述微光大理石抛光瓷片的制造方法，其特征在于，所述亚光透明釉的化学组成为：SiO2为48～53％、Al2O3为13.5～15％、MgO为0.8～1.5％、CaO为7.3～11.7％、Na2O为1.0～2.4％、K2O为2.9～3.5％、SrO2为0.8～2.4％、BaO为7.7～11.6％、ZnO为3～11％，灼减为0.9～1.5％，Fe2O3+T...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶德林，韦前，李辉，黄诗程，谢石长，徐童，
申请(专利权)人：佛山市三水新明珠建陶工业有限公司，广东新明珠陶瓷集团有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44