防炫光玻璃壳体的制作方法、防炫光玻璃壳体和电子设备技术

技术编号:26362455 阅读:17 留言:0更新日期:2020-11-19 23:31
本申请提供了一种防炫光玻璃壳体的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:提供玻璃基体,所述玻璃基体包括相对设置的第一表面和第二表面,在所述第一表面上形成AF膜层;对所述第二表面进行等离子清洗处理后,喷涂保护油墨,以在所述第二表面形成保护油墨层,然后清理在所述AF膜层上残留的所述保护油墨;采用蚀刻液对所述玻璃基体的第一表面进行蚀刻处理,以去除所述AF膜层和在所述第一表面形成磨砂表面;经抛光、清洗和干燥后得到所述防炫光玻璃壳体,所述清洗过程包括清除所述玻璃基体上的所述保护油墨。该制作方法可以解决现有防眩光玻璃制作过程中存在的周期长、良品率低,外观表现差的问题。本申请还提供了防炫光玻璃壳体和电子设备。

【技术实现步骤摘要】
防炫光玻璃壳体的制作方法、防炫光玻璃壳体和电子设备
本申请涉及电子设备
,具体涉及一种防炫光玻璃壳体的制作方法、防炫光玻璃壳体和电子设备。
技术介绍
随着手机等电子设备的普及和发展,消费者对电子产品的外观设计要求越来越高。其中,采用防眩光玻璃(Anti-glareglass,AG玻璃)壳体的电子设备表面具有防眩光、减反射效果,外观绚丽,给消费者带来更佳舒适的视觉享受,壳体表面还具有磨砂质感,具有出众的握持感。然而,现有的防眩光玻璃的制作周期长,且制得的防眩光玻璃经常存在含亮点和亮线等不良品,磨砂效果不好,严重影响外观。
技术实现思路
本申请提供一种防炫光玻璃壳体的制作方法、防炫光玻璃壳体和电子设备;该制作方法可以解决现有防眩光玻璃制作过程中存在的周期长、良品率低,外观表现差的问题。所述技术方案如下:第一方面,本申请提供了一种防炫光玻璃壳体的制作方法,包括以下步骤:提供玻璃基体,所述玻璃基体包括相对设置的第一表面和第二表面,在所述第一表面上形成AF(AntiFingerPrint,防指纹)膜层;对所述第二表面进行等离子清洗处理后,喷涂保护油墨,以在所述第二表面形成保护油墨层,然后清理在所述AF膜层上残留的保护油墨;采用蚀刻液对所述玻璃基体的第一表面进行蚀刻处理,以去除所述AF膜层和在所述第一表面形成磨砂表面;经抛光、清洗和干燥后得到所述防炫光玻璃壳体,所述清洗过程包括清除所述玻璃基体上的所述保护油墨。第二方面,本申请提供了一种防炫光玻璃壳体,所述防炫光玻璃壳体根据本申请第一方面所述的制作方法制得。第三方面,本申请提供了一种电子设备,包括:防炫光玻璃壳体,所述防炫光玻璃壳体为本申请第二方面所述的防炫光玻璃壳体;显示组件,所述显示组件与所述防炫光玻璃壳体相连本申请所述防炫光玻璃壳体的制作方法工艺简单,在制作过程中在第一表面上先形成AF膜层,以便能高效去除在喷涂保护油墨过程中第一表面残留的保护油墨,减少保护油墨对第一表面形成磨砂表面造成干扰,大大提高防炫光玻璃壳体的制作效率和良品率;制得的防炫光玻璃壳体表面具有防眩光、减反射效果,外观绚丽。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本申请实施例提供的一种防炫光玻璃壳体的制作方法的工艺流程图;图2是本申请实施例提供的一种防炫光玻璃壳体100的结构示意图;图3是本申请实施例提供的一种防炫光玻璃壳体100的沿A-A方向的剖面图;图4是本申请实施例提供的一种包括3D形态玻璃基体的防炫光玻璃壳体100的结构示意图;图5是本申请实施例提供一种电子设备200的结构示意图。具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。本申请所列举的实施例之间可以适当的相互结合。如图1所示,本申请一实施例提供了一种防炫光玻璃壳体的制作方法,包括以下步骤:S101、提供玻璃基体,所述玻璃基体包括相对设置的第一表面和第二表面,在所述第一表面上形成AF膜层;S102、对所述第二表面进行等离子清洗处理后,喷涂保护油墨,以在所述第二表面形成保护油墨层,然后清理在所述AF膜层上残留的保护油墨;S103、采用蚀刻液对所述玻璃基体的第一表面进行蚀刻处理,以去除所述AF膜层和在所述第一表面形成磨砂表面;经抛光、清洗和干燥后得到所述防炫光玻璃壳体,所述清洗过程包括清除所述玻璃基体上的所述保护油墨。其中,所述制作方法的S101-S103中每个步骤并不代表只在一个工序中完成得到,某个步骤可以包括多个工序。可选地,所述S101过程中,所述玻璃基体可以但不限于按预设尺寸进行裁切处理,以满足相应不同尺寸的壳体需求,减少制作过程中对原料的浪费。可选理解,所述玻璃基体的具体种类可以为适用于电子设备壳体的任何玻璃,例如可以为硅酸盐玻璃(具体如石英玻璃、高硅氧玻璃、钠钙玻璃、铝硅酸盐玻璃或硼硅酸盐玻璃等)、硼酸盐玻璃、磷酸盐玻璃等等。而所述玻璃基体的厚度的具体厚度可以基于实际壳体需求进行调整。一实施方式中,所述玻璃基体的厚度为0.5-5mm。例如,所述玻璃基体的具体厚度为0.5mm、0.6mm、0.7mm、0.8mm、0.9mm、1mm、2mm、3mm、4mm或5mm。可选地,所述玻璃基体的具体结构形态可以但不限于为平板玻璃形态或2.5D玻璃形态。本申请实施方式中,所述玻璃基体还可以通过热弯成型工艺,形成3D形态的玻璃基体,以使所述玻璃基体的具体结构形态更加丰富,满足不同实际壳体形状的要求。一实施方式中,在所述第一表面上形成AF膜层之前,还包括:对所述玻璃基体进行热弯成型,以使所述玻璃基体形成3D形态,其中,所述第一表面为凸面,所述第二表面为凹面。本申请实施方式中,在所述第一表面上形成AF膜层之前还包括:通过CNC(Computernumericalcontrol,计算机数字控制机床)加工对所述玻璃基体进行磨边或倒孔处理。通过在所述玻璃基体上进行磨边或倒孔处理,可以在玻璃基体在进行蚀刻处理前形成通孔结构等;并且直接对玻璃基体进行CNC加工可以进一步节约加工成本,提高加工效率。这里所述的通孔结构可用于形成所述的防炫光玻璃壳体的功能孔;所述功能孔包括电源按键孔、音量按键孔、扩音孔、摄像头孔和充电孔中的一种或多种。可选地,所述通孔结构的孔径尺寸可以根据实际需求进行调节。本申请实施方式中,所述AF膜层为防指纹膜层,防污渍效果突出,易被清洁。本申请所述AF膜层可采用真空蒸发镀膜法,在所述玻璃基体的第一表面形成。可选地,所述AF膜层的厚度大于20nm。例如,所述AF膜层的厚度为25-200nm,或30-100nm,或30-80nm。其中,所述AF膜层的成分包括硅氧化合物和含氟聚合物中的一种或多种。可选地,所述硅氧化合物包括二氧化硅,所述含氟硅氧化合物包括全氟聚醚类和聚四氟乙烯中的一种或多种。一实施方式中,所述AF膜层的成分为全氟聚醚硅氧烷。另一实施方式中,所述AF膜层的成分为二氧化硅和全氟聚醚改性物。本申请所述厚度范围的AF膜层能够实现在其表面残留的保护油墨的快速清理;如果AF膜层太薄则不能很好实现对玻璃基体第一表面的防护。可选地,所述S102过程中,所述等离子清洗处理是指:通过化学或物理作用对工件表面进行处理,实现分子水平的污染物去除,从而提高工件表面活性。一实施方式中,采用含氩气(Ar)的等离子体进行清洗。本申请实施方式中,由于在第一表面上形成AF膜层的工艺中,会不可避免地部分残留在第二表面,通过对玻璃基体的第二表面进行等离子清洗处理,一方面可以去除其表面残留的AF膜层成分,另一方面通过对第二表面进行深度清理本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防炫光玻璃壳体的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:/n提供玻璃基体,所述玻璃基体包括相对设置的第一表面和第二表面,在所述第一表面上形成AF膜层;/n对所述第二表面进行等离子清洗处理后,喷涂保护油墨,以在所述第二表面形成保护油墨层,然后清理在所述AF膜层上残留的所述保护油墨;/n采用蚀刻液对所述玻璃基体的第一表面进行蚀刻处理,以去除所述AF膜层和在所述第一表面形成磨砂表面;经抛光、清洗和干燥后得到所述防炫光玻璃壳体,所述清洗过程包括清除所述玻璃基体上的所述保护油墨。/n

【技术特征摘要】
1.一种防炫光玻璃壳体的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供玻璃基体,所述玻璃基体包括相对设置的第一表面和第二表面,在所述第一表面上形成AF膜层;
对所述第二表面进行等离子清洗处理后,喷涂保护油墨,以在所述第二表面形成保护油墨层,然后清理在所述AF膜层上残留的所述保护油墨;
采用蚀刻液对所述玻璃基体的第一表面进行蚀刻处理,以去除所述AF膜层和在所述第一表面形成磨砂表面;经抛光、清洗和干燥后得到所述防炫光玻璃壳体,所述清洗过程包括清除所述玻璃基体上的所述保护油墨。


2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述AF膜层的厚度大于20nm。


3.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述AF膜层的成分包括硅氧化合物和含氟聚合物中的一种或多种;所述硅氧化合物包括二氧化硅,所述含氟硅氧化合物包括全氟聚醚类和聚四氟乙烯中的一种或多种。


4.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述保护油墨包括光固化油墨和热固化油墨中的至少一种。


5.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述保护油墨层的厚度大于100nm。


6.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,在所述第一表面上形成AF膜层之前,还包括:
对所述玻璃基体进行热弯成型,以使所述玻璃基体形成3D形态,其中,所述第一表面为凸面,所述第二表面为凹面。


7.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述第二表面经所述等离子清洗处理后的表面达...

【专利技术属性】
技术研发人员:周威
申请(专利权)人:OPPO广东移动通信有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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